公开(公告)号：CN1455439A

公开(公告)日：2003-11-12

申请号：CN03103366.0

申请日：2003-01-24

Applicant: 株式会社日立制作所 ,  大日本印刷株式会社

Inventor： 长谷川昇雄 ,  早野胜也 ,  久保真二 ,  古泉裕弘 ,  高谷洋宣 ,  法元盛久

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F1/08

CPC classification number: G03F1/84 ,  G03F1/56 ,  Y10S438/949

Abstract: 课题在于缩短掩模的制作时间。在用光刻胶膜构成遮光体的掩模RM的缺陷检查中，采用使用异物检查装置CIS，读取对照射到掩模RM上的检查光的反射光、透过光或这两方的光学信息的办法，检查掩模RM上边的光刻胶图形的卷边、膜减薄、异物等这样的缺陷的有无。就是说，在掩模RM的检查中，可以不进行要求多的测定时间和高级技术的比较检查来进行缺陷检查。因此，可以简化掩模RM的检查工序，还可以缩短掩模的检查时间。