半导体器件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101075631A

    公开(公告)日:2007-11-21

    申请号:CN200710084808.2

    申请日:2007-02-27

    CPC classification number: G11C11/16 G11C8/08 G11C11/1675 H01L27/228

    Abstract: 本发明提供一种半导体器件,在使用了自旋注入磁化反转技术的MRAM中,用小型的存储单元实现充分的改写动作,并且抑制读出干扰的同时使读出电流变大。在隧道磁阻元件的自由层位于位线侧的情况下使用PMOS晶体管,在隧道磁阻元件的固定层位于位线侧的情况下使用NMOS晶体管,用源极接地来进行反平行化改写。通过在反平行改写方向进行读出动作,提高读出写入动作裕度。

    磁头及磁记录再生装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1645480A

    公开(公告)日:2005-07-27

    申请号:CN200410104120.2

    申请日:2004-12-29

    Inventor: 伊藤显知

    CPC classification number: G11B5/3906

    Abstract: 本发明的目的是提供实现高输出且高频带两者都成立的TMR磁头。在电极层(103)上不同的位置上形成两个绝缘层/强磁性层的层压膜,从其第2强磁性层(109)向电极层(103)通电,使极化旋转电子扩散到另一个绝缘层(104)/强磁性层(105)的层压膜的正下方的电极部分,使用FET等输入阻抗很大的电路来检测由第2强磁性层(105)的磁化方向的变化引起的电阻变化。

    导电控制器件
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100459149C

    公开(公告)日:2009-02-04

    申请号:CN200610066174.3

    申请日:2006-03-24

    CPC classification number: G11C11/16 G01R33/06

    Abstract: 一种导电控制器件,包含具有较高矫顽磁力的第一铁磁性区域、具有较低矫顽磁力的第二铁磁性区域以及置于第一和第二铁磁性区域之间的结区域。该器件还包含栅极,用于向结区域施加电场以控制结区域内的电荷载流子浓度。

    热磁复制型磁记录方法和磁盘装置

    公开(公告)号:CN1645497A

    公开(公告)日:2005-07-27

    申请号:CN200410063560.8

    申请日:2004-07-12

    CPC classification number: G11B5/656 G11B5/65 G11B5/66 Y10T428/265

    Abstract: 本发明涉及热磁复制型磁记录方法和磁盘装置,目的是提供实现超高记录密度、在耐热退磁性方面优越的热磁复制型的垂直磁记录介质。对于在使用低噪声Co类合金强磁体的第一记录层和使用在动作环境温度以下具有补偿点的铁氧体磁体(例如稀土-过渡金属化合物)的第二记录层之间具有中间层的记录介质,首先施加磁场在第一记录层形成磁化图形,接着通过用加热构件升温,在第二记录层复制磁化图形。在环境温度下,第二记录层为高矫顽力,通过适当设定记录磁场可仅在第一记录层形成磁化图形。此外,加热时,由于第二记录层为低矫顽力,磁化图形从第一记录层复制到第二记录层。

    磁性存储装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101067967B

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN200610147055.0

    申请日:2006-11-14

    CPC classification number: G11C11/15

    Abstract: 一种磁性存储装置包括磁隧道结(MTJ),具有铁磁自由层,表现出第一相对较高的阻态和第二相对较低的阻态。为了写入磁性存储装置,驱动电流IMTJ(125)通过MTJ。对于第一持续时间,该电流等于DC阈值电流,为在第一态和第二态之间转换多层结构所需的DC电流。这在自由层中产生出C形畴结构。对于第二持续时间,电流IMTJ比DC阈值电流大。这引起MTJ转换态。引起该转换所需的电流小于使用均匀电流脉冲(127)所需的电流。

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