公开(公告)号：CN115692253A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202210890401.3

申请日：2022-07-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 铃木达大 ,  泷昭彦 ,  西村优大

IPC: H01L21/67 ,  H01L31/18

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。各分支配管具有供环境气体从主配管流入的内部空间。下游闸板设于各分支配管中的比上游闸板靠下游侧的位置，开闭分支配管。上游切换部件在上游空间允许外部环境气体的流入的状态以及上游空间禁止外部环境气体的流入的状态之间切换上游空间的状态。下游切换部件在下游空间允许外部环境气体的流入的状态以及下游空间禁止外部环境气体的流入的状态之间切换下游空间的状态。

公开(公告)号：CN110140198A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201780082037.5

申请日：2017-12-22

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 西村优大 ,  小林健司 ,  根来世

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/02

Abstract: 一种基板处理装置，包含：基板保持单元，用以将基板保持为水平姿势；处理液喷嘴，具有下部开口及内壁，且从所述下部开口吐出处理液，该下部开口与由所述基板保持单元保持的基板的上表面相向，该内壁划分出筒状空间，该筒状空间是上下方向的筒状空间且从所述下部开口相连至上方；液柱形成单元，将包含第一液柱部分及第二液柱部分的处理液的液柱形成于所述基板的上表面，该第一液柱部分用处理液来液密地充满于所述下部开口与所述基板的上表面之间，该第二液柱部分从所述第一液柱部分相连至上方，且由贮存于所述筒状空间的处理液构成；以及物理力赋予单元，对所述第二液柱部分赋予物理力。

公开(公告)号：CN110140198B

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN201780082037.5

申请日：2017-12-22

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 西村优大 ,  小林健司 ,  根来世

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/02

Abstract: 一种基板处理装置，包含：基板保持单元，用以将基板保持为水平姿势；处理液喷嘴，具有下部开口及内壁，且从所述下部开口吐出处理液，该下部开口与由所述基板保持单元保持的基板的上表面相向，该内壁划分出筒状空间，该筒状空间是上下方向的筒状空间且从所述下部开口相连至上方；液柱形成单元，将包含第一液柱部分及第二液柱部分的处理液的液柱形成于所述基板的上表面，该第一液柱部分用处理液来液密地充满于所述下部开口与所述基板的上表面之间，该第二液柱部分从所述第一液柱部分相连至上方，且由贮存于所述筒状空间的处理液构成；以及物理力赋予单元，对所述第二液柱部分赋予物理力。

公开(公告)号：CN115602570A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202210527908.2

申请日：2022-05-16

Applicant: 株式会社斯库林集团(JP)

Inventor： 塚原隆太 ,  泽崎尚树 ,  西村优大 ,  坂聪一朗

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种基板处理方法，缩短基板处理所需要的时间。预先设定有流程处理程式，该流程处理程式包括：第一工艺处理程式，设定对基板执行的第一处理的内容，第二工艺处理程式，设定在第一处理之后对基板执行的第二处理的内容，以及预处理程式，设定关于第二工艺处理程式的预备动作的内容；第一处理包括对基板进行的第一药液的喷出，第二处理包括对基板进行的第一药液的喷出，预备动作包括第一药液的排出。基板处理方法具有以下工序：执行第一处理，判断从第一处理结束到第二处理开始为止的时间是否比第一阈值短，以及若判断的结果为肯定，则减少预备动作的时间，执行第二处理。