公开(公告)号：CN115602570A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202210527908.2

申请日：2022-05-16

Applicant: 株式会社斯库林集团(JP)

Inventor： 塚原隆太 ,  泽崎尚树 ,  西村优大 ,  坂聪一朗

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种基板处理方法，缩短基板处理所需要的时间。预先设定有流程处理程式，该流程处理程式包括：第一工艺处理程式，设定对基板执行的第一处理的内容，第二工艺处理程式，设定在第一处理之后对基板执行的第二处理的内容，以及预处理程式，设定关于第二工艺处理程式的预备动作的内容；第一处理包括对基板进行的第一药液的喷出，第二处理包括对基板进行的第一药液的喷出，预备动作包括第一药液的排出。基板处理方法具有以下工序：执行第一处理，判断从第一处理结束到第二处理开始为止的时间是否比第一阈值短，以及若判断的结果为肯定，则减少预备动作的时间，执行第二处理。

公开(公告)号：CN115602596A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202210790732.X

申请日：2022-07-05

Applicant: 株式会社斯库林集团(JP)

Inventor： 冲田展彬 ,  筱原智之 ,  石井淳一 ,  中村一树 ,  筱原敬 ,  髙桥拓马 ,  冈田吉文 ,  加藤洋

IPC: H01L21/687

Abstract: 本发明涉及一种衬底对位装置、衬底处理装置、衬底对位方法及衬底处理方法。衬底对位装置包含以俯视下相互对向的方式且分开的方式配置，分别从衬底的下方位置支撑衬底的外周端部的第1支撑部件及第2支撑部件。另外，衬底对位装置具备：第1按压部件，以俯视下与第1支撑部件对向的方式配置，在衬底由第1及第2支撑部件支撑的状态下，在从第2支撑部件朝向第1支撑部件的第1方向按压所述衬底的外周端部的一部分，由此使衬底移动。第1支撑部件包含限制衬底超过预先确定的规定位置向第1方向移动的移动限制部。

公开(公告)号：CN115602572A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202210668170.1

申请日：2022-06-14

Applicant: 株式会社斯库林集团(JP)

Inventor： 石丸慧 ,  塚原隆太 ,  石川秀和 ,  竹松佑介

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的课题在于抑制基板处理中的吸引动作引起的不良情况。基板处理方法具备通过从多联阀向吸引配管供给清洗液来清洗吸引配管内部的步骤，基板处理装置具备：至少能够选择性地供给用于处理基板的处理液和用于进行清洗的清洗液中的至少一方的多联阀；用于向基板喷出处理液的处理液喷嘴；连接多联阀与处理液喷嘴的连接配管；以及从连接配管分支设置且用于吸引连接配管内部的吸引配管。