公开(公告)号：CN113745128A

公开(公告)日：2021-12-03

申请号：CN202110590165.9

申请日：2021-05-28

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 东克荣 ,  岩﨑晃久 ,  藤原直树 ,  塚原隆太 ,  温井宏树

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  F17D1/08

Abstract: 本发明提供一种抑制因混合液中的气泡引起的不良产生的技术。基板处理方法包括保持工序(S1)、混合液供给工序(S5)、以及置换工序(S8)。在保持工序(S1)中，保持基板。在混合液供给工序(S5)中，将含有水的处理液以及异丙醇分别经由第一供给管以及第二供给管向混合管供给，将混合了处理液以及异丙醇的混合液经由混合管从喷嘴向基板喷出。在置换工序(S8)中，在混合液供给工序(S5)之后，供给作为处理液以及异丙醇中任一方的置换液，利用置换液将混合管中的混合液推出且使其从喷嘴喷出，来将混合液置换为置换液。

公开(公告)号：CN111630634B

公开(公告)日：2024-08-20

申请号：CN201880086735.7

申请日：2018-11-20

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 竹松佑介 ,  温井宏树 ,  岩川裕 ,  东克荣 ,  菅原雄二

IPC: H01L21/304 ,  C08L83/04 ,  C08L83/10 ,  C08L101/00

Abstract: 本发明提供一种防止吐出口中的液滴下落的处理液吐出配管、及包括所述处理液吐出配管的基板处理装置。处理液吐出配管(41)在内部具有供处理液流通的流路(44)，且将在流路(44)中流通的处理液自吐出口(41A)朝基板表面吐出。流路(44)包括：壁面的至少一部分为亲水性的亲水性流路、及第二配管流路(442)。在将处理液吐出配管(41)安装于基板处理装置的状态下，第二配管流路(442)相对于铅垂方向而倾斜，且使上游侧的端部高于下游侧的端部。

公开(公告)号：CN115023793A

公开(公告)日：2022-09-06

申请号：CN202080095099.1

申请日：2020-12-11

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 东克荣 ,  泽崎尚树 ,  菅原雄二 ,  温井宏树

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明为同时实现基板上表面上的环境气体控制与降低对基板上表面施行的处理的不均，使基板由保持部保持为水平姿势，从位于与该基板上表面呈相对向的状态的环境气体控制构件朝基板上表面上供给非活性气体，并一边使保持部以沿铅垂方向的虚拟旋转轴为中心进行旋转，一边从液体吐出部的吐出口朝沿基板上表面的方向吐出处理液，从而将处理液供给至基板上表面上。此时，变更从处理液供给源朝液体吐出部供给的处理液每单位时间的供给量，而使从液体吐出部所吐出的处理液的吐出速度变化，从而使基板上表面中被供给有从液体吐出部吐出的处理液的液体供给位置变化。

公开(公告)号：CN110262198A

公开(公告)日：2019-09-20

申请号：CN201910151440.X

申请日：2019-02-28

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 菅原雄二 ,  东克荣 ,  竹松佑介 ,  温井宏树 ,  青木拓

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100)利用处理液(L)处理基板(W)。基板处理装置(100)具有喷出喷嘴(130)和供给部(140)。喷出喷嘴(130)具有喷出口(132)和喷出流路(134)。喷出口(132)向基板(W)喷出处理液(L)。喷出流路(134)与喷出口(132)相连。供给部(140)与喷出喷嘴(130)的喷出流路(134)相连。喷出流路(134)的至少一部分由石英形成。供给部(140)具有第一供给流路(141)和第二供给流路(142)。第一供给流路(141)使处理液(L)的第一成分液(L1)向喷出喷嘴(130)的喷出流路(134)流动。第二供给流路(142)使处理液(L)的第二成分液(L2)向喷出喷嘴(130)的喷出流路(134)流动。

公开(公告)号：CN113745128B

公开(公告)日：2024-09-10

申请号：CN202110590165.9

申请日：2021-05-28

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 东克荣 ,  岩﨑晃久 ,  藤原直树 ,  塚原隆太 ,  温井宏树

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  F17D1/08

Abstract: 本发明提供一种抑制因混合液中的气泡引起的不良产生的技术。基板处理方法包括保持工序(S1)、混合液供给工序(S5)、以及置换工序(S8)。在保持工序(S1)中，保持基板。在混合液供给工序(S5)中，将含有水的处理液以及异丙醇分别经由第一供给管以及第二供给管向混合管供给，将混合了处理液以及异丙醇的混合液经由混合管从喷嘴向基板喷出。在置换工序(S8)中，在混合液供给工序(S5)之后，供给作为处理液以及异丙醇中任一方的置换液，利用置换液将混合管中的混合液推出且使其从喷嘴喷出，来将混合液置换为置换液。

公开(公告)号：CN118248583A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202311769183.9

申请日：2023-12-21

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 温井宏树 ,  山本哲也

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/306 ,  H01L21/02 ,  B08B3/02 ,  B08B3/10

Abstract: 本发明提供一种处理液供给装置及基板处理装置。处理液供给装置(200)具备储液箱(210)、泵(220)和第1连接配管(410)。储液箱(210)收纳处理基板(W)的处理液。泵(220)配置在储液箱(210)的正下方。第1连接配管(410)沿上下方向延伸，并且将储液箱(210)的流出口(214)和泵(220)的流入口(222)连接。第1连接配管(410)使处理液从储液箱(210)向泵(220)流通。

公开(公告)号：CN111630634A

公开(公告)日：2020-09-04

申请号：CN201880086735.7

申请日：2018-11-20

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 竹松佑介 ,  温井宏树 ,  岩川裕 ,  东克荣 ,  菅原雄二

IPC: H01L21/304 ,  C08L83/04 ,  C08L83/10 ,  C08L101/00

Abstract: 【问题】本发明提供一种防止吐出口中的液滴下落的处理液吐出配管、及包括所述处理液吐出配管的基板处理装置。【解决手段】处理液吐出配管41在内部具有供处理液流通的流路44，且将在流路44中流通的处理液自吐出口41A朝基板表面吐出。流路44包括：壁面的至少一部分为亲水性的亲水性流路、及第二配管流路442。在将处理液吐出配管41安装于基板处理装置的状态下，第二配管流路442相对于铅垂方向而倾斜，且使上游侧的端部高于下游侧的端部。