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1.

发明公开
基板处理装置以及基板处理方法无效

公开(公告)号：CN110262198A

公开(公告)日：2019-09-20

申请号：CN201910151440.X

申请日：2019-02-28

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 菅原雄二 , 东克荣 , 竹松佑介 , 温井宏树 , 青木拓

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100)利用处理液(L)处理基板(W)。基板处理装置(100)具有喷出喷嘴(130)和供给部(140)。喷出喷嘴(130)具有喷出口(132)和喷出流路(134)。喷出口(132)向基板(W)喷出处理液(L)。喷出流路(134)与喷出口(132)相连。供给部(140)与喷出喷嘴(130)的喷出流路(134)相连。喷出流路(134)的至少一部分由石英形成。供给部(140)具有第一供给流路(141)和第二供给流路(142)。第一供给流路(141)使处理液(L)的第一成分液(L1)向喷出喷嘴(130)的喷出流路(134)流动。第二供给流路(142)使处理液(L)的第二成分液(L2)向喷出喷嘴(130)的喷出流路(134)流动。

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