图像处理装置、程序、图像处理方法、记录方法及记录介质

    公开(公告)号:CN102293003A

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:CN201080005153.5

    申请日:2010-01-14

    CPC classification number: H04N13/261 G02B27/2221

    Abstract: 本发明提供一种图像处理装置(10),该图像处理装置(10)是用于能够立体地显示2维图像的图像处理装置(10),具有:生成部(20),该生成部(20)生成将2维图像在显示区域内向左右偏移而得到的左侧图像及右侧图像;输出部(30),该输出部(30)对用户的左眼输出左侧图像,对用户的右眼输出右侧图像,生成部(20)生成将2维图像在显示区域内向左右偏移小于等于瞳孔间距离的距离的左侧图像及右侧图像。

    抛光状态监视方法、抛光状态监视装置、抛光设备、加工晶片、半导体器件制造方法和半导体器件

    公开(公告)号:CN101791781B

    公开(公告)日:2012-12-19

    申请号:CN201010144082.9

    申请日:2000-12-19

    Abstract: 本发明涉及抛光状态监视方法、抛光状态监视装置、抛光设备、加工晶片、半导体器件制造方法和半导体器件。在晶片的抛光以前,把具有与晶片一样的形状和尺寸的反射物体替换晶片固定在抛光头上。在抛光底盘中的窗口和反射物体之间放入抛光剂,并且用与晶片的抛光期间施加的压力一样的压力把反射物体压向抛光底盘。在这样的状况下,用从光源发射的探测光经由窗口照射反射物体,并且从传感器获得反射光的光谱强度作为参考光谱。在晶片的抛光期间,从传感器陆续获得从晶片反射的光的光谱强度作为一些测量光谱。测定这些测量光谱对上述的参考光谱的强度比率,并根据这样的强度比率监视晶片的抛光状态。

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