抛光垫和晶圆的凹槽抛光方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118578278A

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202311813552.X

    申请日:2023-12-25

    Abstract: 提供一种抛光垫(1)和这种晶圆(5)的凹槽抛光方法,尽可能减少具有凹槽(7)的晶圆(5)的浪费。本发明的抛光垫(1),形成为以第1旋转轴心(P)为中心的圆环状。抛光垫(1)具有第1面(1a)、第2面(1b)、在外周侧连接第1面(1a)和第2面(1b)的抛光面(3)。抛光垫(1),通过一边对形成于圆盘状晶圆(5)的指示晶轴的方向的凹槽(7)按压抛光面(3),一边围绕第1旋转轴心(P)旋转,从而抛光凹槽(7)。抛光面(3)由磨料体形成,其含有由粘合剂树脂和纤维构成,形成有多个气孔的母材、和保持在母材内或气孔内的磨粒。

    抛光垫与晶圆抛光方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118578276A

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202311799061.4

    申请日:2023-12-25

    Abstract: 抛光垫与晶圆抛光方法。提供在抛光圆盘形状的晶圆(3)的外周边缘部(3d、3e)时,抛光效率更高,同时更难产生抛光不良,并且抛光后的晶圆(3)的洗净性优异的抛光垫(1)。本发明的抛光垫(1)用于抛光圆盘形状的晶圆(3)的外周边缘部(3d、3e)。抛光垫(1)的抛光面由研磨体构成,研磨体包含母材和磨粒。母材包含粘合剂树脂和纤维,形成有多个气孔。磨粒保持于母材内或者气孔内。磨粒为金刚石粒子。密度为0.58~0.81g/cm3,邵氏硬度为16~27,弹性模量为21.5~37.5kgf/mm2。

    抛光垫和晶圆的凹槽抛光方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118578279A

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202410197985.5

    申请日:2024-02-22

    Abstract: 提供一种抛光垫(1)和这种晶圆(5)的凹槽抛光方法,尽可能减少具有凹槽(7)的晶圆(5)的浪费。本发明的抛光垫(1),形成为以第1旋转轴心(P)为中心的圆环状。抛光垫(1)具有第1面(1a)、第2面(1b)、在外周侧连接第1面(1a)和第2面(1b)的抛光面(3)。抛光垫(1),通过一边对形成于圆盘状晶圆(5)的指示晶轴的方向的凹槽(7)按压抛光面(3),一边围绕第1旋转轴心(P)旋转,从而抛光凹槽(7)。抛光面(3)由磨料体形成,其含有由粘合剂树脂和纤维构成,形成有多个气孔的母材、和保持在母材内或气孔内的磨粒。

    抛光垫与晶圆抛光方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118578277A

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202410197893.7

    申请日:2024-02-22

    Abstract: 抛光垫与晶圆抛光方法。提供在抛光圆盘形状的晶圆(3)的外周边缘部(3d、3e)时,抛光效率更高,同时更难产生抛光不良,并且抛光后的晶圆(3)的洗净性优异的抛光垫(1)。本发明的抛光垫(1)用于抛光圆盘形状的晶圆(3)的外周边缘部(3d、3e)。抛光垫(1)的抛光面由研磨体构成,研磨体包含母材和磨粒。母材包含粘合剂树脂和纤维,形成有多个气孔。磨粒保持于母材内或者气孔内。磨粒为金刚石粒子。密度为0.58~0.81g/cm3,邵氏硬度为16~27,弹性模量为21.5~37.5N/mm2。

Patent Agency Ranking