公开(公告)号：CN114059099A

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN202110871348.8

申请日：2021-07-30

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 李晙赫 ,  林官遇 ,  田承勋 ,  卞景绿 ,  徐俊喆 ,  文太均 ,  金成玟 ,  许㯙

IPC: C25C1/20 ,  C25C7/00 ,  G02F1/1343 ,  H01L27/32 ,  H01L51/00 ,  H01L51/52 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明涉及一种金属离子回收装置、利用其的电极制造方法及制造装置，从电极图案的蚀刻中使用的废蚀刻液有效地回收金属离子后进行再生，并连续循环到显示器用电极制造工艺的蚀刻工艺以供再利用，从而可以增加蚀刻液的使用寿命。

公开(公告)号：CN116770304A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202310262294.4

申请日：2023-03-17

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金荣绿 ,  朴圭淳 ,  郑钟铉 ,  曹雨辰 ,  金奎佈 ,  金成玟 ,  金在明 ,  申贤哲 ,  金晙东 ,  黄俊荣

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/02

Abstract: 本申请提供了蚀刻剂组合物和使用其的显示装置的制造方法。蚀刻剂组合物包括约5.0wt％至约20.0wt％的过硫酸盐、约0.01wt％至约15.0wt％的磺酸、约0.01wt％至约2.0wt％的氟化合物、约0.01wt％至约5.0wt％的4‑氮环状化合物、约0.01wt％至约1.0wt％的包括具有至少两个碳原子的疏水基团的氨基酸和水。氨基酸与4‑氮环状化合物的重量比在约1:16至约1:60的范围内。

公开(公告)号：CN115537880A

公开(公告)日：2022-12-30

申请号：CN202210729789.9

申请日：2022-06-24

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 文太均 ,  李晙赫 ,  田承勋 ,  徐俊喆 ,  许㯙 ,  申贤哲 ,  金成玟 ,  李相赫 ,  金荣光 ,  金龙会 ,  安容燮

IPC: C25C5/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及一种金属离子的回收系统和显示器用电极制造装置，通过将接地工艺和附加的冷却工艺用于金属离子的回收，可以从含金属离子的溶液有效回收金属离子并进行再生。

公开(公告)号：CN113122880A

公开(公告)日：2021-07-16

申请号：CN202011598327.5

申请日：2020-12-29

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 林官遇 ,  田承勋 ,  卞景绿 ,  金成玟 ,  申圭淳

IPC: C25C1/00 ,  C25C7/02 ,  C23F1/46

Abstract: 根据本说明书提供一种金属离子的回收装置、回收系统和回收方法，以从含金属离子的溶液如废蚀刻液等回收金属离子。所述金属离子的回收装置包含：容器，用于容置含金属离子的溶液；第一电极和第二电极，其配置在所述容器内部；电源，用于向第一电极和第二电极供应电能；以及UV光源，用于向所述第一电极和第二电极中至少一个照射紫外线(UV)。