公开(公告)号：CN1097490C

公开(公告)日：2003-01-01

申请号：CN97199723.3

申请日：1997-11-12

Applicant: 芝浦机械电子装置股份有限公司 ,  株式会社东芝

Inventor： 土井敏 ,  黑川祯明 ,  樱井直明

IPC: B08B3/02 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B08B3/02 ,  F26B5/08 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明涉及一种旋转处理被处理物的旋转处理装置，其构成为：由下罩和可以上下自由运动的上罩构成罩体，上罩和下罩之间有一定的间隙；罩体内装有保持被处理物的旋转件；有驱动旋转件转动的驱动装置；及在下罩的底部，连接有进行罩内排气的排气管；其特征为：在上罩内周面装有保持在旋转件上的被处理物周围的飞散防止盖；所述飞散防止盖作成环状，其下端位于旋转件上，比保持的被处理物的上面高，且所述飞散防止盖的下端向径向的外方曲折。

公开(公告)号：CN1275933A

公开(公告)日：2000-12-06

申请号：CN97199723.3

申请日：1997-11-12

Applicant: 芝浦机械电子装置股份有限公司 ,  株式会社东芝

Inventor： 土井敏 ,  黑川祯明 ,  樱井直明

IPC: B08B3/02 ,  H01L21/304 ,  F26B5/08

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B08B3/02 ,  F26B5/08 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明涉及一种旋转处理装置及处理方法,使得旋转处理被处理物时产生的水雾不附着到被处理物上。该装置有一个罩体,由下罩和相对于下罩运动自如的上罩组成;罩内有一个保持被处理物的旋转件和驱动旋转件旋转的步进电机,且下罩底部连接有进行罩体内排气的排气管;在罩体内旋转件的上部配置着飞散防止盖。