-
公开(公告)号:CN104010430A
公开(公告)日:2014-08-27
申请号:CN201410059273.3
申请日:2014-02-21
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H05H13/04 , A61N5/1077 , A61N2005/1088
Abstract: 本发明提供一种能增大绕转电流值而且能提高离子束的利用效率的离子加速装置。根据实施方式,具有:从照射激光而产生的等离子体抽出离子束的激光离子源(1a)、对从激光离子源(1a)抽出的离子束进行加速的作为线性加速器的RFQ(3)、DTL(4)、输出RFQ(3)、DTL(4)的离子束并使该离子束绕转而加速至规定的能量的同步加速器(7)、每当离子束绕转而来就错开其轨道的凸轨电磁铁(12)、以及控制凸轨电磁铁(12)的励磁量并且基于激光离子源(1a)的脉冲定时来控制凸轨电磁铁(12)的励磁定时的控制装置。
-
公开(公告)号:CN103069534A
公开(公告)日:2013-04-24
申请号:CN201180039711.4
申请日:2011-10-25
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/24 , H01J2237/022 , H01J2237/08 , H01J2237/186 , H01J2237/31701
Abstract: 激光/离子源通过激光的照射而产生离子,其中,具备:容器(110),被真空排气;照射箱(120),配置在容器(110)内,收容有通过激光的照射而产生离子的靶(121);离子束引出部(112),从照射箱(120)静电地引出离子,并作为离子束向容器110的外部引导;阀(140),设置在容器(110)的离子束的取出部,在离子束射出时打开,射出时以外关闭;以及闸门(150),设置在阀(140)和照射箱(120)之间,离子束射出时间歇地打开,射出时以外关闭。由此,将激光照射时产生的微粒子关闭在容器(110)内,抑制微粒子向真空排气系统或与离子源连接的后级装置的流出。
-
公开(公告)号:CN105070624B
公开(公告)日:2017-09-26
申请号:CN201510393832.9
申请日:2013-03-05
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01J27/24
CPC classification number: H01J27/24
Abstract: 提供无需解除下游侧设备的真空就能够更换靶材的离子源。靶材(13)配置在被排气成真空的真空容器(10)内,且通过激光的照射产生离子。具有输送管(17)、小孔(18)、中间电极(19)以及加速电极(20)的输送部将由靶材产生的离子朝与离子源连接的下游侧的设备输送。在更换配置于真空容器(10)内的靶材时,真空密封用盘(24)对输送部进行密封,以将真空容器(10)侧与下游侧的设备侧的真空分离。
-
公开(公告)号:CN103295861B
公开(公告)日:2016-02-24
申请号:CN201310063330.0
申请日:2013-02-28
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J27/24 , H01J49/161 , H01J49/162 , H01J49/164
Abstract: 本发明提供能不破坏真空条件地进行靶的补给的激光离子源。离子生成真空容器(110)被真空排气,被输送并配置通过激光的照射发生离子的靶(112)。阀(130)设置在离子生成真空容器(110)的侧面,在向离子生成真空容器110内输送靶(112)时打开,在输送时以外关闭。靶补给容器(120)通过阀(130)安装于离子生成真空容器(110),将靶(112)能移动地保持,能与离子生成真空容器(110)独立地真空排气。保持在靶补给容器(120)内的靶(112),在关闭了阀(130)的状态下将靶补给容器内真空排气之后,在打开了阀(130)的状态下被输送到离子生成真空容器(110)内。
-
公开(公告)号:CN113454748A
公开(公告)日:2021-09-28
申请号:CN202080015429.1
申请日:2020-04-06
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供一种离子生成技术,使用一台离子源,使核子平均能量一致的不同种类离子在不同的定时输出。在离子生成装置(10)中,具备:离子生成能量设定部(32),使在真空腔(25)内电离生成的第一离子(21)及第二离子(22)保持混合状态不变地从开口(26)放出;电场电压调节部(33),将在该开口(26)与引出电极(28)之间形成的电位势(27)切换为第一电场电压(V1)及第二电场电压(V2)而进行施加,对第一离子(21)及第二离子(22)分别赋予预先确定的相同的核子平均能量;以及励磁电流调节部(35),切换第一励磁电流(I1)及第二励磁电流(I2)并向分离电磁铁(41)的线圈(省略图示)供给,使第一离子(21)及第二离子(22)在不同的定时输出。
-
公开(公告)号:CN104008942B
公开(公告)日:2016-08-17
申请号:CN201410059252.1
申请日:2014-02-21
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J27/24 , A61N5/1077 , A61N2005/1088
Abstract: 本发明提供一种容易进行聚光透镜的轴对中,并且构造简单的激光离子源以及重粒子线治疗装置。根据实施方式,具有:被真空排气,形成有用于入射激光(L)的入射窗(1a)的真空容器(1);设置在真空容器(1)内,通过激光(L)的照射产生离子的靶(2);以及将激光(L)聚光到靶(2)的聚光透镜(4),将聚光透镜(4)安装在真空容器(1)的入射窗(1a)上,将该聚光透镜(4)作为真空隔壁。
-
公开(公告)号:CN103313502B
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201310070318.2
申请日:2013-03-06
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J37/3299 , A61N5/1067 , A61N2005/1088 , H01J27/24 , H01J37/30 , H01J37/32935 , H01J37/32972 , H01J49/161 , H01J2237/0815 , H05H1/46
Abstract: 本发明涉及能够在使用激光的离子源中始终监视真空容器内的离子中的与目标离子不同的非目标离子的离子源、重粒子线照射装置、离子源的驱动方法以及重粒子线照射方法。激光烧蚀等离子体产生装置(27)使得从真空容器(1)内的包含有元素的靶(2)产生激光烧蚀等离子体(4)。离子束引出部(18)通过将激光烧蚀等离子体(4)中包含的离子从真空容器(1)内引出来生成离子束(5)。离子检测器(9)检测真空容器(1)内的离子中的与元素被离子化后的目标离子不同的非目标离子,作为检测结果而输出检测信号(14),该检测信号(14)表示非目标离子的数量,或者表示作为非目标离子相对于目标离子的混合比的值。
-
公开(公告)号:CN104008942A
公开(公告)日:2014-08-27
申请号:CN201410059252.1
申请日:2014-02-21
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J27/24 , A61N5/1077 , A61N2005/1088
Abstract: 本发明提供一种容易进行聚光透镜的轴对中,并且构造简单的激光离子源以及重粒子线治疗装置。根据实施方式,具有:被真空排气,形成有用于入射激光(L)的入射窗(1a)的真空容器(1);设置在真空容器(1)内,通过激光(L)的照射产生离子的靶(2);以及将激光(L)聚光到靶(2)的聚光透镜(4),将聚光透镜(4)安装在真空容器(1)的入射窗(1a)上,将该聚光透镜(4)作为真空隔壁。
-
公开(公告)号:CN103313502A
公开(公告)日:2013-09-18
申请号:CN201310070318.2
申请日:2013-03-06
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J37/3299 , A61N5/1067 , A61N2005/1088 , H01J27/24 , H01J37/30 , H01J37/32935 , H01J37/32972 , H01J49/161 , H01J2237/0815 , H05H1/46
Abstract: 本发明涉及能够在使用激光的离子源中始终监视真空容器内的离子中的与目标离子不同的非目标离子的离子源、重粒子线照射装置、离子源的驱动方法以及重粒子线照射方法。激光烧蚀等离子体产生装置(27)使得从真空容器(1)内的包含有元素的靶(2)产生激光烧蚀等离子体(4)。离子束引出部(18)通过将激光烧蚀等离子体(4)中包含的离子从真空容器(1)内引出来生成离子束(5)。离子检测器(9)检测真空容器(1)内的离子中的与元素被离子化后的目标离子不同的非目标离子,作为检测结果而输出检测信号(14),该检测信号(14)表示非目标离子的数量,或者表示作为非目标离子相对于目标离子的混合比的值。
-
公开(公告)号:CN103313501A
公开(公告)日:2013-09-18
申请号:CN201310068783.2
申请日:2013-03-05
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H01J27/24
Abstract: 提供无需解除下游侧设备的真空就能够更换靶材的离子源。靶材(13)配置在被排气成真空的真空容器(10)内,且通过激光的照射产生离子。具有输送管(17)、小孔(18)、中间电极(19)以及加速电极(20)的输送部将由靶材产生的离子朝与离子源连接的下游侧的设备输送。在更换配置于真空容器(10)内的靶材时,真空密封用盘(24)对输送部进行密封,以将真空容器(10)侧与下游侧的设备侧的真空分离。
-
-
-
-
-
-
-
-
-