公开(公告)号：CN102800770B

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201210048490.3

申请日：2012-02-28

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 彦坂年辉 ,  原田佳幸 ,  菅井麻希 ,  布上真也

IPC: H01L33/20 ,  H01L33/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L33/20 ,  H01L33/0075 ,  H01L33/12 ,  H01L33/32 ,  H01L33/48

Abstract: 本发明涉及半导体发光器件、氮化物半导体层以及形成氮化物半导体层的方法。根据实施例，一种半导体发光器件包括基础层、第一半导体层、发光层以及第二半导体层。所述基础层具有不平坦部，所述不平坦部具有凹部、侧部和凸部。所述基础层的第一主表面具有覆盖区。所述基础层具有多个位错，所述位错包括其一端到达所述凹部的第一位错和其一端到达所述凸部的第二位错。到达所述第一主表面的所述第二位错的数目对所有所述第二位错的数目的比例小于到达所述第一主表面的所述第一位错的数目对所有所述第一位错的数目的比例。到达所述第一主表面的所述覆盖区的位错的数目小于所有所述第一位错的数目。

公开(公告)号：CN102800770A

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN201210048490.3

申请日：2012-02-28

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 彦坂年辉 ,  原田佳幸 ,  菅井麻希 ,  布上真也

IPC: H01L33/20 ,  H01L33/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L33/20 ,  H01L33/0075 ,  H01L33/12 ,  H01L33/32 ,  H01L33/48

Abstract: 本发明涉及半导体发光器件、氮化物半导体层以及形成氮化物半导体层的方法。根据实施例，一种半导体发光器件包括基础层、第一半导体层、发光层以及第二半导体层。所述基础层具有不平坦部，所述不平坦部具有凹部、侧部和凸部。所述基础层的第一主表面具有覆盖区。所述基础层具有多个位错，所述位错包括其一端到达所述凹部的第一位错和其一端到达所述凸部的第二位错。到达所述第一主表面的所述第二位错的数目对所有所述第二位错的数目的比例小于到达所述第一主表面的所述第一位错的数目对所有所述第一位错的数目的比例。到达所述第一主表面的所述覆盖区的位错的数目小于所有所述第一位错的数目。