公开(公告)号：CN1779823A

公开(公告)日：2006-05-31

申请号：CN200510108548.9

申请日：2005-09-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 中居司 ,  芦田纯生 ,  柚须圭一郎 ,  大间知笵威 ,  中村直正

IPC: G11B7/24 ,  B41M5/26

CPC classification number: G11B7/24038 ,  G11B7/243 ,  G11B7/257 ,  G11B2007/24312 ,  G11B2007/24314 ,  G11B2007/24316 ,  G11B2007/25706 ,  G11B2007/25713 ,  G11B2007/25715

Abstract: 一种相变光学记录介质包括：一记录膜，其在光照射条件下引起晶相和非晶相两者间的可逆相变；以及一形成为与该记录膜其中至少一个表面接触的界面膜，其包含Hf(铪)、O(氧)、以及N(氮)。

公开(公告)号：CN100411036C

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：CN200510108548.9

申请日：2005-09-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 中居司 ,  芦田纯生 ,  柚须圭一郎 ,  大间知笵威 ,  中村直正

IPC: G11B7/24 ,  B41M5/26

CPC classification number: G11B7/24038 ,  G11B7/243 ,  G11B7/257 ,  G11B2007/24312 ,  G11B2007/24314 ,  G11B2007/24316 ,  G11B2007/25706 ,  G11B2007/25713 ,  G11B2007/25715

Abstract: 一种相变光学记录介质包括：一记录膜，其在光照射条件下引起晶相和非晶相两者间的可逆相变；以及一形成为与该记录膜其中至少一个表面接触的界面膜，其包含Hf(铪)、O(氧)、以及N(氮)。