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公开(公告)号：CN1347054A
公开(公告)日：2002-05-01
申请号：CN01132528.3
申请日：2001-05-31
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G06Q30/06 , G06Q30/0601
Abstract: 一种半导体制品的电子交易系统,具有:在计算机内构建的与实际制造半导体制品的实际生产线14具有实质上同样功能的、计算最佳批量进展方法的虚拟生产线13;通过网络10将虚拟生产线13与顾客终端11连接的连接服务器12。将从顾客终端11输入的条件通过连接服务器12传送到虚拟生产线13,在传送的条件下实时模拟制品可否在虚拟生产线13上流动,将模拟结果通过连接服务器12传送到顾客终端11,按照模拟的结果进行交易。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101383035A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810166447.0
申请日：2001-05-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G06Q30/00
Abstract: 本发明提供生产系统、方法以及生产设备设计系统、方法。一种半导体制品的电子交易系统，具有：在计算机内构建的与实际制造半导体制品的实际生产线(14)具有实质上同样功能的、计算最佳批量进展方法的虚拟生产线(13)；通过网络(10)将虚拟生产线(13)与顾客终端(11)连接的连接服务器(12)。将从顾客终端(11)输入的条件通过连接服务器(12)传送到虚拟生产线(13)，在传送的条件下实时模拟制品可否在虚拟生产线(13)上流动，将模拟结果通过连接服务器(12)传送到顾客终端(11)，按照模拟的结果进行交易。
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公开(公告)号：CN1384538A
公开(公告)日：2002-12-11
申请号：CN02123333.0
申请日：2002-03-29
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G01N21/95607 , G01R31/2831
Abstract: 一种不良图案检测方法和不良图案检测装置,高灵敏度地自动检测出不良图案以及预先未假定的不良图案。通过将半导体集成电路的不良图案重叠在表示其对称性或周期性的重复单位上来进行强调后,作为特征量自动检测出。通过对照表示空间地偏开存在的不良的偏离程度的特征量和表示预先假定的存在不良图案的特征量,自动检测出预先未假定的不良图案的存在。在由以2个以上的特征量为分量的矢量构成的多矢量空间中,在上述多矢量空间内设定针对1个不良模式的区域。通过对照上述区域和以上述特征量为分量的矢量,可判断上述不良模式的存在。
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公开(公告)号：CN1224089C
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN02123333.0
申请日：2002-03-29
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G01N21/95607 , G01R31/2831
Abstract: 一种不良图案检测方法和不良图案检测装置，高灵敏度地自动检测出不良图案以及预先未假定的不良图案。通过将半导体集成电路的不良图案重叠在表示其对称性或周期性的重复单位上来进行强调后，作为特征量自动检测出。通过对照表示空间地偏开存在的不良的偏离程度的特征量和表示预先假定的存在不良图案的特征量，自动检测出预先未假定的不良图案的存在。在由以2个以上的特征量为分量的矢量构成的多矢量空间中，在上述多矢量空间内设定针对1个不良模式的区域，通过对照上述区域和以上述特征量为分量的矢量，可判断上述不良模式的存在。
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公开(公告)号：CN1199235C
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN01125341.X
申请日：2001-08-21
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L22/20 , H01L2924/0002 , H01L2924/014 , H01L2924/00
Abstract: 一种半导体装置制造中的瑕疵聚集的检索方法，该方法包括：输入检索母体内存在的关于不完全实体的数据，计算每个分割检索母体的各单位单元的不完全实体的频率分布，对于频率分布，拟合两种以上的离散型分布函数，根据对频率分布的离散型分布函数的加权，检索聚集。发现制造过程或设计的异常后，可方便地进行改善半导体装置的生产率所用的定量聚集检索。
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公开(公告)号：CN1360339A
公开(公告)日：2002-07-24
申请号：CN01125341.X
申请日：2001-08-21
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L22/20 , H01L2924/0002 , H01L2924/014 , H01L2924/00
Abstract: 一种半导体装置制造中的瑕疵聚集的检索方法,该方法包括:输入检索母体内存在的关于不完全实体的数据,计算每个分割检索母体的各单位单元的不完全实体的频率分布,对于频率分布,拟合两种以上的离散型分布函数,根据对频率分布的离散型分布函数的加权,检索聚集。发现制造过程或设计的异常后,可方便地进行改善半导体装置的生产率所用的定量聚集检索。
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