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公开(公告)号：CN1254250A
公开(公告)日：2000-05-24
申请号：CN99122005.6
申请日：1999-10-25
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24 , C23F4/00 , H01L21/302
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/32348 , H01J37/32541 , H01J37/32559 , H01J37/32724 , H05H1/2406
Abstract: 一种等离子体处理装置,利用该装置可以对目标物进行有效地等离子体处理而不出现弧光放电。该装置包括至少一对电极,一个气体供应单元,一个供电部分;在上述电极中,至少有一个电极在其外表面具有介电层。并且至少有一个电极具有向上述放电间隙伸进的弯曲表面。最好上述电极对中至少有一个电极具有管状结构。等离子体处理装置进一步包括一个提供冷却剂的单元,利用该单元可以向电极内部提供冷却剂以降低在等离子体处理过程中的电极温度。
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公开(公告)号：CN1334694A
公开(公告)日：2002-02-06
申请号：CN01118648.8
申请日：2001-06-06
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/26 , H01L21/3065 , C23C14/22
CPC classification number: H01J37/32357
Abstract: 提供一种等离子体处理设备和一种等离子体处理方法,使用等离子体以高速均匀地处理物体。它包括:一个具有侧向延长横截面的管状容器;一对电极,当AC电压或脉冲电压之一加到电极之间时,电力线大体上在管状容器的轴向;一个气体供应源,用来给管状容器提供流光产生气;一个电源,用来给电极之间提供电压以在管状容器里产生气体的多种流光;和一个等离子体均匀装置,用来使多种流光在管状容器侧向延长横截面的侧向均匀。
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公开(公告)号：CN1053170C
公开(公告)日：2000-06-07
申请号：CN95106134.8
申请日：1995-06-02
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: C03C25/00
CPC classification number: C03C25/1095 , H05K1/0366
Abstract: 一种玻璃织物的表面处理方法，其特征在于，所述方法包括下列步骤：将所述玻璃织物暴露于一包括反应气体的混合气体的一大气压等离子区，以获得该玻璃织物的等离子体处理过的表面，所述混合气体在作等离子体激发之前经过预热；及在所述玻璃织物的等离子体处理过的表面上涂覆一种有机硅烷化合物。本发明的表面处理可有效地用于生产树脂与玻璃织物之间具有优异的粘结力和抗CAF(导电阳极丝)性能的多层电路板。
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公开(公告)号：CN100393182C
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN00121396.2
申请日：2000-07-27
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24 , C23F4/00 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/32559
Abstract: 等离子体处理设备包括用于产生等离子体的多对电极、用于在其中容纳电极的处理室、用于将例如惰性气体的等离子体生成气体供给室的气体供给装置和电源。在电极之间施加脉冲或AC电压，以便在大气压附近产生气体的介质阻挡层放电等离子体，从而利用等离子体处理放置在电极之间的物体。至少一个电极备有管状结构的电极基底和在暴露给电极基底的等离子体的至少一个表面上的通过热熔涂覆玻璃基材料而形成的保护层。
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公开(公告)号：CN1294480A
公开(公告)日：2001-05-09
申请号：CN00130036.9
申请日：2000-10-25
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H05H1/2406 , H05H2001/2456
Abstract: 一种等离子体处理装置,利用点火电极方便地启动装置而不使用昂贵的阻抗匹配设备,能可靠地产生大气压力等离子体。该装置包括:具有孔的产生等离子体的室,等离子体从该孔吹出;气体供应单元,用于将产生等离子体的气体送入室中;一对电极;电源,用于在电极之间施加交流电场以维持室内的等离子体;用于提供脉冲电压的脉冲发生器;以及点火电极,用于对室内所送入的气体施加脉冲电压以产生等离子体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1283076A
公开(公告)日：2001-02-07
申请号：CN00121396.2
申请日：2000-07-27
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24 , C23F4/00 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/32559
Abstract: 等离子体处理设备包括用于产生等离于体的多对电极、用于在其中容纳电极的处理室、用于将例如惰性气体的产生等离子体气体供给室的气体供给装置和电源。在电极之间施加脉冲或AC电压,以便在大气压附近产生气体的介质阻挡层放电等离子体,从而利用等离子体处理放置在电极之间的物体。至少一个电极备有管状结构的电极基底和在曝露给电极基底的等离于体的至少一个表面上的通过热熔涂覆玻璃基材料而形成的保护层。
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公开(公告)号：CN1221967A
公开(公告)日：1999-07-07
申请号：CN98122788.0
申请日：1998-12-03
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/302 , C23C16/50 , C23C14/32 , H05H1/24
CPC classification number: H01J37/32366 , H05H1/2406 , H05H2001/245 , H05H2245/123
Abstract: 本发明揭示一种等离子处理装置和等离子处理方法。包括具有外侧电极1的筒状反应管2及配置在反应管2内部的内侧电极3,反应管2内引入惰性气体或惰性气体与反应气体的混合气体,同时在外侧电极1与内侧电极3之间加上交流电场,通过这样在大气压下使反应管2内部产生辉光放电,从反应管2喷出等离子喷气,并在外侧电极及内侧电极的至少一方设置冷却手段。
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公开(公告)号：CN1286349C
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN03801287.1
申请日：2003-02-20
IPC: H05H1/24 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2001/2462 , H05H2245/123
Abstract: 一种等离子体处理装置与等离子体处理方法，能够保持稳定的等离子体放电、实现充分的等离子体处理、降低等离子体温度。该等离子体处理装置包括多个电极，在多个电极之间形成一放电空间，并且一电介质材料设置于至少一个电极的放电空间一侧。一等离子体产生气体提供到放电空间中，且一电压作用于施加在电极之间，以在基本等于大气气压的气压下、在放电空间中产生放电，并且从放电空间提供由放电产生的等离子体。在该等离子体处理装置中，在电极之间施加的电压的波形是无静止期间的交流电压波形。该交流电压波形的上升和下降时间的至少一项为100μs或更短。重复频率在0.5至1000kHz的范围中。在电极之间施加的电场强度在0.5至200kV/cm的范围中。
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公开(公告)号：CN1700953A
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN200480001115.7
申请日：2004-05-26
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: B01J19/08 , C23C4/00 , H05H1/24 , H01L21/304 , H05K3/26
Abstract: 本发明公开一种等离子体处理装置，该等离子体处理装置能够每次处理较大面积，并具有良好的处理均匀性。该装置包括具有通孔的一对电极板和具有通孔的绝缘板。该绝缘板被设置于电极板之间，从而使得电极板的通孔位置对应于绝缘板的通孔位置。从而，由电极板的通孔和绝缘板的通孔形成多个放电空间。通过供应等离子体生成气体到放电空间中，并且在电极板之间施加电压，同时，在放电空间同时生成等离子体。通过将由此生成的等离子体喷射到待处理物体上，有效进行大面积等离子体处理。
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公开(公告)号：CN1170460C
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN00130036.9
申请日：2000-10-25
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H05H1/2406 , H05H2001/2456
Abstract: 一种等离子体处理装置，利用点火电极方便地启动装置而不使用昂贵的阻抗匹配设备，能可靠地产生大气压力等离子体。该装置包括：具有孔的产生等离子体的室，等离子体从该孔吹出；气体供应单元，用于将产生等离子体的气体送入室中；一对电极；电源，用于在电极之间施加交流电场以维持室内的等离子体；用于提供脉冲电压的脉冲发生器；以及点火电极，用于对室内所送入的气体施加脉冲电压以产生等离子体。以及一种使用该等离子体处理装置的等离子体产生方法，该方法包括步骤：将产生等离子体的气体送入所述室，再利用所述点火电极向实质上等于大气压力的压力下的所述气体供给脉冲电压，以便在所述室中产生等离子体。
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