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公开(公告)号：CN1141009C
公开(公告)日：2004-03-03
申请号：CN99122005.6
申请日：1999-10-25
Applicant: 松下电工株式会社
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/32348 , H01J37/32541 , H01J37/32559 , H01J37/32724 , H05H1/2406
Abstract: 一种等离子体处理装置，利用该装置可以对目标物进行有效地等离子体处理而不出现弧光放电。该装置包括至少一对电极，一个气体供应单元，一个供电部分；在上述电极中，至少有一个电极在其外表面具有介电层。并且至少有一个电极具有向上述放电间隙伸进的弯曲表面。最好上述电极对中至少有一个电极具有管状结构。等离子体处理装置进一步包括一个提供冷却剂的单元，利用该单元可以向电极内部提供冷却剂以降低在等离子体处理过程中的电极温度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1254250A
公开(公告)日：2000-05-24
申请号：CN99122005.6
申请日：1999-10-25
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24 , C23F4/00 , H01L21/302
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/32348 , H01J37/32541 , H01J37/32559 , H01J37/32724 , H05H1/2406
Abstract: 一种等离子体处理装置,利用该装置可以对目标物进行有效地等离子体处理而不出现弧光放电。该装置包括至少一对电极,一个气体供应单元,一个供电部分;在上述电极中,至少有一个电极在其外表面具有介电层。并且至少有一个电极具有向上述放电间隙伸进的弯曲表面。最好上述电极对中至少有一个电极具有管状结构。等离子体处理装置进一步包括一个提供冷却剂的单元,利用该单元可以向电极内部提供冷却剂以降低在等离子体处理过程中的电极温度。
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公开(公告)号：CN100393182C
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN00121396.2
申请日：2000-07-27
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24 , C23F4/00 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/32559
Abstract: 等离子体处理设备包括用于产生等离子体的多对电极、用于在其中容纳电极的处理室、用于将例如惰性气体的等离子体生成气体供给室的气体供给装置和电源。在电极之间施加脉冲或AC电压，以便在大气压附近产生气体的介质阻挡层放电等离子体，从而利用等离子体处理放置在电极之间的物体。至少一个电极备有管状结构的电极基底和在暴露给电极基底的等离子体的至少一个表面上的通过热熔涂覆玻璃基材料而形成的保护层。
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公开(公告)号：CN1121810C
公开(公告)日：2003-09-17
申请号：CN98122788.0
申请日：1998-12-03
Applicant: 松下电工株式会社
CPC classification number: H01J37/32366 , H05H1/2406 , H05H2001/245 , H05H2245/123
Abstract: 本发明揭示一种等离子处理装置和等离子处理方法。包括具有外侧电极1的筒状反应管2及配置在反应管2内部的内侧电极3，反应管2内引入惰性气体或惰性气体与反应气体的混合气体，同时在外侧电极1与内侧电极3之间加上交流电场，通过这样在大气压下使反应管2内部产生辉光放电，从反应管2喷出等离子喷气，并在外侧电极及内侧电极的至少一方设置冷却装置。
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公开(公告)号：CN1283076A
公开(公告)日：2001-02-07
申请号：CN00121396.2
申请日：2000-07-27
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H05H1/24 , C23F4/00 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/32559
Abstract: 等离子体处理设备包括用于产生等离于体的多对电极、用于在其中容纳电极的处理室、用于将例如惰性气体的产生等离子体气体供给室的气体供给装置和电源。在电极之间施加脉冲或AC电压,以便在大气压附近产生气体的介质阻挡层放电等离子体,从而利用等离子体处理放置在电极之间的物体。至少一个电极备有管状结构的电极基底和在曝露给电极基底的等离于体的至少一个表面上的通过热熔涂覆玻璃基材料而形成的保护层。
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公开(公告)号：CN1221967A
公开(公告)日：1999-07-07
申请号：CN98122788.0
申请日：1998-12-03
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/302 , C23C16/50 , C23C14/32 , H05H1/24
CPC classification number: H01J37/32366 , H05H1/2406 , H05H2001/245 , H05H2245/123
Abstract: 本发明揭示一种等离子处理装置和等离子处理方法。包括具有外侧电极1的筒状反应管2及配置在反应管2内部的内侧电极3,反应管2内引入惰性气体或惰性气体与反应气体的混合气体,同时在外侧电极1与内侧电极3之间加上交流电场,通过这样在大气压下使反应管2内部产生辉光放电,从反应管2喷出等离子喷气,并在外侧电极及内侧电极的至少一方设置冷却手段。
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