非易失性存储元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN103262240A

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN201280002050.2

    申请日:2012-02-22

    Abstract: 本发明的非易失性存储元件的制造方法包括如下工序:形成第一下部电极层(108)、电流控制层(109)和第一上部电极层(110),并在第一上部电极层(110)上形成第二下部电极层(311)、电阻变化层(112)及第二上部电极层(313)的工序;对第二上部电极层(313)、电阻变化层(112)和第二下部电极层(311)进行图案形成的工序;使用蚀刻第二下部电极层(311)的速度至少比第二上部电极层(313)及电阻变化层(112)慢的蚀刻,将第二下部电极层(311)作为掩膜,对第一上部电极层(110)、电流控制层(109)和第一下部电极层(108)进行图案形成来形成电流控制元件(142),并形成具有比电流控制元件(142)小的面积的电阻变化元件的工序。

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