支撑片的制造方法、半导体装置的制造方法及支撑片形成用层叠膜

    公开(公告)号:CN114270481A

    公开(公告)日:2022-04-01

    申请号:CN201980099180.4

    申请日:2019-08-29

    Abstract: 公开一种支撑片的制造方法,所述支撑片使用于具有支石墓结构的半导体装置的制造工艺中,所述具有支石墓结构的半导体装置包括:基板、配置在基板上的第一芯片、配置在基板上且第一芯片的周围的多个支撑片及被多个支撑片支撑且以覆盖第一芯片的方式配置的第二芯片,所述支撑片的制造方法包括:(A)准备层叠膜的工序,所述层叠膜依次具备基材膜、压敏胶黏层及与基材膜及压敏胶黏层有色差的支撑片形成用膜;(B)将支撑片形成用膜单片化而在压敏胶黏层的表面上形成多个支撑片的工序;及(C)从压敏胶黏层拾取支撑片的工序。

    半导体装置制造用膜片
    5.
    外观设计

    公开(公告)号:CN306659495S

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN202030163526.8

    申请日:2020-04-21

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:半导体装置制造用膜片。
    2.本外观设计产品的用途:作为制造半导体装置用的膜片使用。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于形状与图案的结合。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:设计1立体图1。
    5.指定设计1为基本设计。
    6.设计1~设计4中,使用状态参考图1的数字1~数字5分别表示支承块形成用膜、本产品、环状框架、基底膜、粘接层;使用状态参考图2的数字1~数字6分别表示支承块形成用膜、本产品、环状框架、基底膜、上推环、粘接层。
    7、设计1~设计4的C部放大图中,标注了I和J的部位表示透明。

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