一种双过渡层碲镉汞多层异质结器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN116230801A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202310246977.0

    申请日:2023-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种双过渡层碲镉汞多层异质结器件及其制备方法,包括碲锌镉CdZnTe衬底和沉积于碲锌镉衬底上的碲镉汞Hg1‑xCdxTe外延结构,从碲锌镉衬底开始依次为:重掺杂的宽带隙n型Hg1‑x1Cdx1Te接触层N+,轻掺杂的n型Hg1‑x2Cdx2Te组分梯度过渡层G‑,轻掺杂的n型Hg1‑x3Cdx3Te组分梯度过渡层G+,较窄带隙轻掺杂的n型Hg1‑x4Cdx4Te吸收层ν,轻掺杂的n型Hg1‑x5Cdx5Te组分梯度过渡层G‑,轻掺杂的n型Hg1‑x6Cdx6Te组分梯度过渡层G+,重掺杂宽带隙的p型Hg1‑7Cdx7Te接触层P+。本发明能够提高量子效率,在高工作温度下实现了吸收层内热激发本征载流子的抑制,降低了俄歇复合过程从而有效降低器件的暗电流,提高了器件的工作温度。

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