减反射玻璃基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN109689586B

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN201780022712.5

    申请日:2017-03-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造减反射玻璃基板的方法,所述方法包括选择N2或O2的源气体,电离化所述源气体以便形成N或O的单电荷和多电荷离子的混合物,通过用包括在13kV与40kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在5.56×1014×A/kV+4.78×1016个离子/cm2与‑2.22×1016×A/kV+1.09×1018个离子/cm2之间的值来形成N或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及减反射玻璃基板,所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。

    减反射玻璃基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN109689586A

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201780022712.5

    申请日:2017-03-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造减反射玻璃基板的方法,所述方法包括选择N2或O2的源气体,电离化所述源气体以便形成N或O的单电荷和多电荷离子的混合物,通过用包括在13kV与40kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在5.56×1014×A/kV+4.78×1016个离子/cm2与-2.22×1016×A/kV+1.09×1018个离子/cm2之间的值来形成N或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及减反射玻璃基板,所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。

    可热处理的减反射玻璃基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN109790069A

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201780022718.2

    申请日:2017-03-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造可热处理的减反射玻璃基板的方法,所述方法包括选择N2、O2、或Ar的源气体,电离化所述源气体以便形成Ar、N、或O的单电荷和多电荷离子的混合物,通过用包括在15kV与60kV之间的加速电压加速并且将离子剂量设定为包括在7.5×1016与7.5×1017个离子/cm2之间的值来形成Ar、N、或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及可热处理的以及经热处理的减反射玻璃基板,所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。

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