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公开(公告)号:CN109476535B
公开(公告)日:2022-01-11
申请号:CN201780022706.X
申请日:2017-03-13
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造中性色减反射玻璃基板的方法,所述方法包括电离化N2源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物,通过用包括在20kV与25kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在6×1016个离子/cm2与‑5.00×1015×A/kV+2.00×1017个离子/cm2之间的值来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及中性色减反射玻璃基板,所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号:CN109689586B
公开(公告)日:2021-11-19
申请号:CN201780022712.5
申请日:2017-03-13
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造减反射玻璃基板的方法,所述方法包括选择N2或O2的源气体,电离化所述源气体以便形成N或O的单电荷和多电荷离子的混合物,通过用包括在13kV与40kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在5.56×1014×A/kV+4.78×1016个离子/cm2与‑2.22×1016×A/kV+1.09×1018个离子/cm2之间的值来形成N或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及减反射玻璃基板,所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号:CN109689586A
公开(公告)日:2019-04-26
申请号:CN201780022712.5
申请日:2017-03-13
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造减反射玻璃基板的方法,所述方法包括选择N2或O2的源气体,电离化所述源气体以便形成N或O的单电荷和多电荷离子的混合物,通过用包括在13kV与40kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在5.56×1014×A/kV+4.78×1016个离子/cm2与-2.22×1016×A/kV+1.09×1018个离子/cm2之间的值来形成N或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及减反射玻璃基板,所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号:CN109790069A
公开(公告)日:2019-05-21
申请号:CN201780022718.2
申请日:2017-03-13
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造可热处理的减反射玻璃基板的方法,所述方法包括选择N2、O2、或Ar的源气体,电离化所述源气体以便形成Ar、N、或O的单电荷和多电荷离子的混合物,通过用包括在15kV与60kV之间的加速电压加速并且将离子剂量设定为包括在7.5×1016与7.5×1017个离子/cm2之间的值来形成Ar、N、或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及可热处理的以及经热处理的减反射玻璃基板,所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号:CN108367975A
公开(公告)日:2018-08-03
申请号:CN201680073623.9
申请日:2016-12-01
CPC classification number: C03C21/002 , C03C23/0055
Abstract: 本发明涉及一种用于化学强化的玻璃基板,其中一侧通过离子注入进行处理以便降低在化学强化时的离子交换程度。其他实施例涉及一种用于制造化学强化的具有受控曲率的玻璃基板的方法,该方法包括:提供具有相反的第一侧和第二侧的基板,其中所述基板在所述第一侧的至少部分的表面层中呈现降低在化学强化时的离子交换程度的第一离子注入分布,并且化学强化所述离子注入处理的玻璃基板。选择所述离子注入的参数,使得在化学强化时获得受控曲率。
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公开(公告)号:CN107074641A
公开(公告)日:2017-08-18
申请号:CN201580056898.7
申请日:2015-10-21
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明涉及一种用于通过注入简单电荷和多电荷离子增加玻璃基板的耐划伤性的方法,所述方法包括将被处理的玻璃基板的区域的温度维持在小于或等于所述玻璃基板的玻璃化转变温度的温度下,在Ar、He、和N的离子之中选择有待被注入的离子,将用于提取所述离子的加速电压设置为包括在5kV与200kV之间的值并且将离子剂量设置为包括在1014离子/cm2与2.5×1017离子/cm2之间的值。本发明进一步涉及包括通过根据此方法注入简单电荷和多电荷离子处理的区域的玻璃基板以及其用于降低在机械接触时所述玻璃基板上划伤的可能性的用途。
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公开(公告)号:CN109476535A
公开(公告)日:2019-03-15
申请号:CN201780022706.X
申请日:2017-03-13
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造中性色减反射玻璃基板的方法,所述方法包括电离化N2源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物,通过用包括在20kV与25kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在6×1016个离子/cm2与-5.00×1015×A/kV+2.00×1017个离子/cm2之间的值来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及中性色减反射玻璃基板,所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号:CN109641790A
公开(公告)日:2019-04-16
申请号:CN201780022707.4
申请日:2017-03-13
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造具有减少的内部反射率的玻璃基板的方法,所述方法包括电离化N2、O2、Ar和/或He的源气体以便形成N、O、Ar和/或He的单电荷和多电荷离子的混合物,通过用包括在15kV与60kV之间的加速电压加速和包括在1017个离子/cm2与1018个离子/cm2之间的离子剂量来形成N、O、Ar和/或He的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及具有减少的内部反射率的玻璃基板,所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
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公开(公告)号:CN112533882A
公开(公告)日:2021-03-19
申请号:CN201980039913.5
申请日:2019-06-13
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司 , AGC株式会社 , 旭硝子北美平板玻璃公司 , 旭硝子眼镜巴西有限公司
Abstract: 本发明披露了基板内的注入离子用来降低用于透射红外光的基板的红外反射率的用途,其中,离子选自N、H、O、He、Ne、Ar和Kr的离子中的一种或多种离子,并且以包括在1016离子/cm2与2×1017离子/cm2之间的剂量以及包括在5.5kV与450kV之间的加速电压AV注入基板中。
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公开(公告)号:CN112469679A
公开(公告)日:2021-03-09
申请号:CN201980029900.X
申请日:2019-02-21
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司 , AGC株式会社 , 旭硝子北美平板玻璃公司 , 旭硝子眼镜巴西有限公司
IPC: C03C23/00 , C03C15/00 , C03C17/245
Abstract: 本发明涉及一种玻璃板,所述玻璃板包括至少一个减反射蚀刻表面,当在12mm的评价长度上并且用截止波长为0.8mm的高斯滤波器测量时,所述至少一个减反射蚀刻表面具有的表面粗糙度由以下项限定:0.02≤Ra≤0.6μm,0.1≤Rz≤3μm以及5≤RSm≤180μm,当从所述减反射蚀刻表面测量时,所述玻璃板具有以下光学特性:从1%到40%的雾度值;从30%到100%的透明度值;从20SGU到130SGU的60°光泽值;从4%到7%的光反射率Rc。并且其中,所述减反射蚀刻表面包括注入的离子。此种玻璃板特别适合于作为盖板玻璃的显示器应用。特别地,本发明的玻璃板具有优异的闪光减少特性连同防眩光作用。此外,本发明的玻璃板还将防眩光和闪光减少特性与“软触感”结合。
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