公开(公告)号：CN109689586B

公开(公告)日：2021-11-19

申请号：CN201780022712.5

申请日：2017-03-13

Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司 ,  旭硝子玻璃北美公司 ,  旭硝子株式会社 ,  奎尔技术工程公司

Inventor： B·纳维特 ,  P·鲍兰格 ,  D·巴萨多

IPC: C03C23/00

Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造减反射玻璃基板的方法，所述方法包括选择N2或O2的源气体，电离化所述源气体以便形成N或O的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在13kV与40kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在5.56×1014×A/kV+4.78×1016个离子/cm2与‑2.22×1016×A/kV+1.09×1018个离子/cm2之间的值来形成N或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。

公开(公告)号：CN109689586A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201780022712.5

申请日：2017-03-13

Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司 ,  旭硝子玻璃北美公司 ,  旭硝子株式会社 ,  奎尔技术工程公司

Inventor： B·纳维特 ,  P·鲍兰格 ,  D·巴萨多

IPC: C03C23/00

Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造减反射玻璃基板的方法，所述方法包括选择N2或O2的源气体，电离化所述源气体以便形成N或O的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在13kV与40kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在5.56×1014×A/kV+4.78×1016个离子/cm2与-2.22×1016×A/kV+1.09×1018个离子/cm2之间的值来形成N或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。

公开(公告)号：CN109803939A

公开(公告)日：2019-05-24

申请号：CN201780022716.3

申请日：2017-03-13

Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司 ,  旭硝子玻璃北美公司 ,  AGC株式会社 ,  奎尔技术工程公司

Inventor： B·纳维特 ,  P·鲍兰格 ,  D·巴萨多

IPC: C03C23/00

Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造耐划伤、减反射玻璃基板的方法，所述方法包括电离化N2的源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在20kV与30kV之间的加速电压加速和包括在5×1016个离子/cm2与1017个离子/cm2之间的离子剂量来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及耐划伤、减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。

公开(公告)号：CN109803939B

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN201780022716.3

申请日：2017-03-13

Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司 ,  旭硝子玻璃北美公司 ,  AGC株式会社 ,  奎尔技术工程公司

Inventor： B·纳维特 ,  P·鲍兰格 ,  D·巴萨多

IPC: C03C23/00

Abstract: 本发明涉及一种用于通过离子注入制造耐划伤、减反射玻璃基板的方法，所述方法包括电离化N2的源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在20kV与30kV之间的加速电压加速和包括在5×1016个离子/cm2与1017个离子/cm2之间的离子剂量来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及耐划伤、减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。