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公开(公告)号：CN103459070A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280015554.8
申请日：2012-03-27
Applicant: 日立工具股份有限公司
CPC classification number: C23C16/36 , B05D5/00 , C23C16/029 , C23C16/403 , C23C16/45523 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/048 , C23C30/005 , Y10T428/24967 , Y10T428/24975 , Y10T428/25
Abstract: 提供一种硬质皮膜被覆部件及其制造方法，以及具备其的刀刃更换式旋转工具，硬质皮膜被覆部件在由超硬合金或高速钢构成的基体上通过化学蒸镀法具有碳氮化钛层，该碳氮化钛层从基体侧顺次由第一～第三层构成并具有柱状结晶组织(第二层的碳浓度低于第一层的碳浓度，第三层的碳浓度低于第二层的碳浓度)。第一层使用由TiCl4气体、N2气体、C2～C5的烃气体以及H2气体所构成的原料气体而形成，第二层使用由TiCl4气体、N2气体、有机氰化合物气体、C2～C5的烃气体、以及H2气体所构成的原料气体而形成，第三层使用由TiCl4气体、N2气体、有机氰化合物气体以及H2气体构成，且有机氰化合物气体的量比第二层少的原料气体而形成。
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公开(公告)号：CN104703734A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201380051064.8
申请日：2013-09-30
Applicant: 日立工具股份有限公司
CPC classification number: C23C16/36 , C23C16/30 , C23C16/32 , C23C16/34 , C23C16/44 , C23C30/005 , Y10T428/24975 , Y10T428/256
Abstract: 一种在由WC基超硬合金构成的基体上，直接通过化学气相沉积法形成碳氮化钛层而成的硬质皮膜被覆工具，其中，碳氮化钛层具有含有74～81质量％的钛、13～16质量％的碳和6～10质量％的氮的组成，碳氮化钛层具有由具有0.01～0.22μm的平均横截面直径的柱状晶粒构成的组织，从基体向碳氮化钛层内的W的扩散层的平均厚度为30～200nm，碳氮化钛层的(422)面的X射线衍射峰位置2θ处于122.7～123.7°的范围内。
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公开(公告)号：CN104703734B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380051064.8
申请日：2013-09-30
Applicant: 日立工具股份有限公司
CPC classification number: C23C16/36 , C23C16/30 , C23C16/32 , C23C16/34 , C23C16/44 , C23C30/005 , Y10T428/24975 , Y10T428/256
Abstract: 一种在由WC基超硬合金构成的基体上，直接通过化学气相沉积法形成碳氮化钛层而成的硬质皮膜被覆工具，其中，碳氮化钛层具有含有74～81质量％的钛、13～16质量％的碳和6～10质量％的氮的组成，碳氮化钛层具有由具有0.01～0.22μm的平均横截面直径的柱状晶粒构成的组织，从基体向碳氮化钛层内的W的扩散层的平均厚度为30～200nm，碳氮化钛层的(422)面的X射线衍射峰位置2θ处于122.7～123.7°的范围内。
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公开(公告)号：CN103459070B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201280015554.8
申请日：2012-03-27
Applicant: 日立工具股份有限公司
CPC classification number: C23C16/36 , B05D5/00 , C23C16/029 , C23C16/403 , C23C16/45523 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/048 , C23C30/005 , Y10T428/24967 , Y10T428/24975 , Y10T428/25
Abstract: 提供一种硬质皮膜被覆部件及其制造方法，以及具备其的刀刃更换式旋转工具，硬质皮膜被覆部件在由超硬合金或高速钢构成的基体上通过化学蒸镀法具有碳氮化钛层，该碳氮化钛层从基体侧顺次由第一～第三层构成并具有柱状结晶组织(第二层的碳浓度低于第一层的碳浓度，第三层的碳浓度低于第二层的碳浓度)。第一层使用由TiCl4气体、N2气体、C2～C5的烃气体以及H2气体所构成的原料气体而形成，第二层使用由TiCl4气体、N2气体、有机氰化合物气体、C2～C5的烃气体、以及H2气体所构成的原料气体而形成，第三层使用由TiCl4气体、N2气体、有机氰化合物气体以及H2气体构成，且有机氰化合物气体的量比第二层少的原料气体而形成。
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