半导体装置封装和其制造方法

    公开(公告)号:CN109637997A

    公开(公告)日:2019-04-16

    申请号:CN201811167799.8

    申请日:2018-10-08

    Abstract: 半导体装置封装包括第一重布层(RDL)、第一裸片、第二裸片、第二RDL和封装体。第一裸片设置在第一RDL上并且电连接到第一RDL。第一裸片具有第一电性触点。第二裸片设置在第一RDL上并且电连接到第一RDL。第二裸片具有第一电性触点。第二RDL被第一RDL包围。第二RDL具有电连接到第一裸片的第一电性触点的第一电性触点和电连接到第二裸片的第一电性触点的第二电性触点。第二RDL的第一电性触点的尺寸大于第二RDL的第二电性触点的尺寸。

    多引线通孔的形成方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102149255B

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201010119994.0

    申请日:2010-02-04

    Abstract: 一种多引线通孔的形成方法,包括提供一基材,至少具有一第一表面和一孔洞,孔洞具有孔壁;形成一第一导电层于基材的整个表面和孔壁上;形成一光阻层于第一导电层的整个表面上,且选择性地图案化光阻层,以在第一导电层上定义出多个侧向分离区域;以图案化光阻层为一屏蔽,在该些侧向分离区域上电镀一第二导电层,且第二导电层的厚度实质上大于第一导电层的厚度;移除图案化光阻层;以及实质上地移除未被第二导电层覆盖的部分第一导电层因而形成多条在第一表面上延伸并通过孔洞的侧向分离的引线。

    内埋线路基板的制造方法

    公开(公告)号:CN101958306B

    公开(公告)日:2012-08-29

    申请号:CN200910152272.2

    申请日:2009-07-14

    Inventor: 王建皓 李明锦

    Abstract: 本发明公开了一种内埋线路基板及其制造方法。该内埋线路基板包括核心结构、第一图案化导电层、第二图案化导电层及多个导电块。核心结构具有相对的第一表面及第二表面。第一图案化导电层配置于第一表面且埋入于核心结构。第二图案化导电层配置于第二表面且埋入于核心结构。导电块配置于核心结构内,用以导通第一图案化导电层及第二图案化导电层。本发明以压合的方式将图案化导电层及导电孔同时埋入于介电层,而使内埋线路基板具有较平坦的表面。

    多引线通孔的形成方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102149255A

    公开(公告)日:2011-08-10

    申请号:CN201010119994.0

    申请日:2010-02-04

    Abstract: 一种多引线通孔的形成方法,包括提供一基材,至少具有一第一表面和一孔洞,孔洞具有孔壁;形成一第一导电层于基材的整个表面和孔壁上;形成一光阻层于第一导电层的整个表面上,且选择性地图案化光阻层,以在第一导电层上定义出多个侧向分离区域;以图案化光阻层为一屏蔽,在该些侧向分离区域上电镀一第二导电层,且第二导电层的厚度实质上大于第一导电层的厚度;移除图案化光阻层;以及实质上地移除未被第二导电层覆盖的部分第一导电层因而形成多条在第一表面上延伸并通过孔洞的侧向分离的引线。

    四方扁平无引脚封装及其制造方法

    公开(公告)号:CN101944516A

    公开(公告)日:2011-01-12

    申请号:CN200910158676.2

    申请日:2009-07-09

    Inventor: 李明锦

    CPC classification number: H01L2224/48091 H01L2924/00014

    Abstract: 本发明公开了一种四方扁平无引脚封装及其制造方法。该四方扁平无引脚封装包括第一图案化导电层、第二图案化导电层、芯片、多条焊线及封装胶体。第一图案化导电层定义出第一空间。第二图案化导电层定义出第二空间,其中第一空间与第二空间及围绕第二空间的部分第二图案化导电层重叠。芯片配置于第二图案化导电层。焊线连接于芯片及第二图案化导电层之间。封装胶体包覆第二图案化导电层、芯片及焊线。根据本发明,可降低封装厚度,也可降低制造成本。

Patent Agency Ranking