等离子体生成设备
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101742809B

    公开(公告)日:2012-10-10

    申请号:CN200910205161.3

    申请日:2009-10-16

    Abstract: 本发明提供了一种等离子体生成设备,该等离子体生成设备包括:天线腔室,其被邻近于生成等离子体的等离子体腔室放置,并被排气为真空;天线,其被放置在天线腔室中,并放射高频波;分隔板,其由绝缘体制成,并将等离子体腔室与天线腔室分隔以阻挡气体进入天线腔室,并且允许从天线放射的高频波穿过分隔板;以及磁体装置,其放置在等离子体腔室外部,并在等离子体腔室中生成磁场以引起电子回旋共振。

    等离子体生成设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101742809A

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200910205161.3

    申请日:2009-10-16

    Abstract: 本发明提供了一种等离子体生成设备,该等离子体生成设备包括:天线腔室,其被邻近于生成等离子体的等离子体腔室放置,并被排气为真空;天线,其被放置在天线腔室中,并放射高频波;分隔板,其由绝缘体制成,并将等离子体腔室与天线腔室分隔以阻挡气体进入天线腔室,并且允许从天线放射的高频波穿过分隔板;以及磁体装置,其放置在等离子体腔室外部,并在等离子体腔室中生成磁场以引起电子回旋共振。

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