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    剥离层形成用组合物及剥离层
    1.
    发明公开
    剥离层形成用组合物及剥离层 审中-实审

    公开(公告)号：CN117015582A

    公开(公告)日：2023-11-07

    申请号：CN202280022122.3

    申请日：2022-03-29

    Applicant: 日产化学株式会社

    Inventor： 古川优树 ,  伊藤润 ,  松山元信

    IPC: C09D201/06

    Abstract: 提供剥离层形成用组合物，其包含：(A)具有羟基或羧基的树脂、(B)光致产酸剂、(C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)包含由下述式(a)表示的重复单元、由下述式(b)表示的重复单元和由下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、和(E)溶剂，相对于(A)具有羟基或羧基的树脂100质量份，包含5～100质量份的(D)高分子添加剂。#imgabs0#

    固化膜形成用组合物、取向材及相位差材
    2.
    发明公开
    固化膜形成用组合物、取向材及相位差材 审中-公开

    公开(公告)号：CN110325886A

    公开(公告)日：2019-10-11

    申请号：CN201880013114.6

    申请日：2018-02-22

    Applicant: 日产化学株式会社

    Inventor： 古川优树 ,  伊藤润 ,  菅野裕太 ,  畑中真

    IPC: G02B5/30 ,  C08F2/44 ,  C09D7/40 ,  C09D201/02 ,  G02F1/13363

    Abstract: 本发明的课题是提供具备优异的垂直取向性，即使在树脂膜上也能够以高灵敏度使聚合性液晶垂直取向的取向材，以及用于提供使用那样的取向材的相位差材的固化膜形成用组合物。解决手段是固化膜形成用组合物、取向材、相位差材，上述固化膜形成用组合物的特征在于，含有：(A)具有垂直取向性基团的聚合物；(B)具有2个以上包含C＝C双键的聚合性基团的化合物；以及(C)自由基聚合引发剂，实质上仅(B)成分具有包含C＝C双键的聚合性基团。

    用于形成剥离层的组合物和剥离层
    5.
    发明公开
    用于形成剥离层的组合物和剥离层 审中-实审

    公开(公告)号：CN116917399A

    公开(公告)日：2023-10-20

    申请号：CN202280018564.0

    申请日：2022-02-28

    Applicant: 日产化学株式会社

    Inventor： 松山元信 ,  进藤和也 ,  古川优树

    IPC: C08L1/08

    Abstract: 作为可形成具有高耐热性和适度的剥离性、成膜后的稳定性优异的剥离层的用于形成剥离层的组合物，提供下述用于形成剥离层的组合物，其包含：(A)(A1)具有羟基烷基的纤维素或其衍生物等、(B)酸化合物或其盐、(C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)包含由式(a1)、式(b)和式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、(E)溶剂，相对于100质量份(A)成分，含有5～100质量份的(D)成分。(RA为氢原子或甲基，RB1为至少一个氢原子被氟原子取代的碳原子数3或4的分支状烷基，RC为碳原子数1～10的羟基烷基，RD为碳原子数的6～20的多环式烷基或碳原子数6～12的芳基。)#imgabs0#

    用于形成碱玻璃用剥离层的组合物及剥离层
    6.
    发明公开
    用于形成碱玻璃用剥离层的组合物及剥离层 审中-实审

    公开(公告)号：CN115003505A

    公开(公告)日：2022-09-02

    申请号：CN202180010736.5

    申请日：2021-01-20

    Applicant: 日产化学株式会社

    Inventor： 江原和也 ,  古川优树 ,  松山元信 ,  进藤和也

    IPC: B32B27/26 ,  B32B27/40 ,  C08G59/26 ,  C09J5/00 ,  C09J11/06 ,  C09J11/08 ,  C09J175/02 ,  C09J7/30

    Abstract: 用于形成碱玻璃用剥离层的组合物，其包含下述(A)～(E)成分，该组合物在碱玻璃基板上涂布后于300℃以下烧成的膜与有机系膜接触的情况下，具有0.2N/25mm以下的剥离力。(A)包含由下述式(1)所表示的重复单元的聚脲、(式中，RA各自独立地为氢原子或甲基，RB1为至少1个氢原子被氟原子取代的碳原子数3或4的支链状的烷基，RC为碳原子数1～10的羟基烷基，RD为碳原子数6～20的多环式烷基或碳原子数6～12的芳基。)(B)磺酸化合物或其盐、(C)选自具有被羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)包含由下述式(a1)所表示的重复单元、由下述式(b)所表示的重复单元和由下述式(c)所表示的重复单元的高分子添加剂：相对于100质量份的(A)聚脲为3～100质量份、(E)溶剂。

    剥离层形成用组合物及剥离层
    7.
    发明公开
    剥离层形成用组合物及剥离层 审中-实审

    公开(公告)号：CN114945633A

    公开(公告)日：2022-08-26

    申请号：CN202080090160.3

    申请日：2020-12-23

    Applicant: 日产化学株式会社

    Inventor： 进藤和也 ,  松山元信 ,  古川优树 ,  江原和也

    IPC: C08L79/04 ,  B32B7/06 ,  B32B27/00 ,  B32B27/40 ,  C08L33/14 ,  C08L75/02 ,  C09K3/00

    Abstract: 提供剥离层形成用组合物，其包含：(A)包含下述式(1)表示的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的交联剂、(D)包含下述式(a)表示的重复单元、下述式(b)表示的重复单元及下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、和(E)溶剂，相对于(A)聚脲100质量份，包含3～100质量份的(D)高分子添加剂。(式中，RA各自独立地为氢原子或甲基，RB为至少1个氢原子被氟原子取代的碳数3或4的支链状的烷基，RC为具有1～4个羟基的碳数6～20的多环式烷基，RD为碳数6～20的多环式烷基或碳数6～12的芳基。)

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