剥离层形成用组合物和剥离层

    公开(公告)号:CN109476951B

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN201780046634.2

    申请日:2017-08-03

    Abstract: 本发明提供包含由下述式(1)表示的聚酰胺酸和有机溶剂的剥离层形成用组合物。式中,X表示由下述式(2a)或(2b)表示的芳族基团,Y表示具有氟原子的2价的芳族基团,Z在X为式(2a)的情况下,相互独立地表示由下述式(3a)或(4a)表示的芳族基团,在X为式(2b)的情况下,相互独立地表示由下述式(3b)或(4b)表示的芳族基团,m表示自然数。

    剥离层形成用组合物
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109476912B

    公开(公告)日:2021-10-08

    申请号:CN201780046605.6

    申请日:2017-08-03

    Abstract: 本发明提供剥离层形成用组合物,其包含作为二胺成分与四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂,上述二胺成分包含2,2'‑双(三氟甲基)‑4,4'‑二氨基联苯,上述四羧酸二酐成分包含由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐。

    剥离层形成用组合物和剥离层

    公开(公告)号:CN110945078A

    公开(公告)日:2020-03-31

    申请号:CN201880049242.6

    申请日:2018-07-26

    Abstract: 本发明提供剥离层形成用组合物,该剥离层形成用组合物包含:(A)含有由下述式(1)表示的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)选自具有经羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)含有由下述式(a1)表示的重复单元、由下述式(b)表示的重复单元和由下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂以及(E)溶剂,相对于(A)聚脲100质量份,含有5~100质量份的(D)高分子添加剂。(式中,RA各自独立地为氢原子或甲基,RB1为至少1个氢原子被氟原子取代的碳原子数3或4的分支状的烷基,RC为碳原子数1~10的羟基烷基,RD为碳原子数的6~20的多环式烷基或碳原子数6~12的芳基。)

    临时粘接层形成用组合物和临时粘接层

    公开(公告)号:CN111133073A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201880062542.8

    申请日:2018-09-27

    Abstract: 临时粘接层形成用组合物,是用于形成将树脂基板在基体上固定的临时粘接层的组合物,包含:(A)式(P1)的聚酰胺酸、(B)式(P2)的聚酰胺酸、(C)具有氨基等的硅烷偶联剂、(D)包含酰胺系溶剂等的混合溶剂。(X1表示具有2个羧基和酯键的2价的芳族基团等,Y1表示具有酯键的2价的芳族基团等。)(X2表示具有2个羧基和醚键的2价的芳族基团等,Y2表示具有醚键的2价的芳族基团等。)

    剥离层形成用组合物和剥离层

    公开(公告)号:CN109153851B

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN201780031564.3

    申请日:2017-05-23

    Abstract: 本发明提供例如包含由下述式(1)表示的聚酰胺酸和有机溶剂的剥离层形成用组合物。(式中,X表示由下述式(2)或式(3)表示的芳族基团,Y表示2价的芳族基团,Z在X为由下述式(2)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(4)或式(5)表示的芳族基团,在X为由下述式(3)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(6)或式(7)表示的芳族基团,m表示自然数。)#imgabs0#

    用于形成碱玻璃用剥离层的组合物及剥离层

    公开(公告)号:CN115003505A

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202180010736.5

    申请日:2021-01-20

    Abstract: 用于形成碱玻璃用剥离层的组合物,其包含下述(A)~(E)成分,该组合物在碱玻璃基板上涂布后于300℃以下烧成的膜与有机系膜接触的情况下,具有0.2N/25mm以下的剥离力。(A)包含由下述式(1)所表示的重复单元的聚脲、(式中,RA各自独立地为氢原子或甲基,RB1为至少1个氢原子被氟原子取代的碳原子数3或4的支链状的烷基,RC为碳原子数1~10的羟基烷基,RD为碳原子数6~20的多环式烷基或碳原子数6~12的芳基。)(B)磺酸化合物或其盐、(C)选自具有被羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)包含由下述式(a1)所表示的重复单元、由下述式(b)所表示的重复单元和由下述式(c)所表示的重复单元的高分子添加剂:相对于100质量份的(A)聚脲为3~100质量份、(E)溶剂。

    剥离层形成用组合物及剥离层
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114945633A

    公开(公告)日:2022-08-26

    申请号:CN202080090160.3

    申请日:2020-12-23

    Abstract: 提供剥离层形成用组合物,其包含:(A)包含下述式(1)表示的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的交联剂、(D)包含下述式(a)表示的重复单元、下述式(b)表示的重复单元及下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、和(E)溶剂,相对于(A)聚脲100质量份,包含3~100质量份的(D)高分子添加剂。(式中,RA各自独立地为氢原子或甲基,RB为至少1个氢原子被氟原子取代的碳数3或4的支链状的烷基,RC为具有1~4个羟基的碳数6~20的多环式烷基,RD为碳数6~20的多环式烷基或碳数6~12的芳基。)

    用于制造电子器件用基板的聚羟基酰胺组合物、和聚苯并噁唑树脂膜

    公开(公告)号:CN108884316B

    公开(公告)日:2021-09-24

    申请号:CN201780018985.2

    申请日:2017-03-17

    Abstract: 本发明提供用于制造电子器件用基板的聚羟基酰胺组合物,其包含:(A)含有由式(1)表示的单元和由式(2)表示的单元的聚羟基酰胺、和(B)有机溶剂。式(1)和式(2)中,X1表示在与和氮原子结合的碳原子邻接的碳原子上具有羟基的亚联苯基;Y1表示碳数6~14的2价的芳香族基团;Y2表示由式(3)表示的基团;n和m表示满足0<n<100、0<m<100和0<n+m≤100的正数。式(3)中,Z1表示‑O‑、‑NH‑或‑N(R)‑,R表示碳数1~10的烷基;Ar1和Ar2相互独立地表示碳数6~14的2价的芳香族基团;虚线表示键合端。

    剥离层的制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110050013A

    公开(公告)日:2019-07-23

    申请号:CN201780075575.1

    申请日:2017-12-07

    Abstract: 本发明提供剥离层的制造方法,其中,将包含聚酰胺酸及有机溶剂的剥离层形成用组合物涂布于基体、在最高温度400℃以上进行烧成,所述聚酰胺酸包含由式(1)表示的四羧酸二酐的四羧酸二酐成分与包含选自在至少一个氨基的邻位具有至少一个羟基的芳香族二胺、在至少一个氨基的邻位具有至少一个巯基的芳香族二胺、及具有羧基的芳香族二胺中的至少一种芳香族二胺的二胺成分反应而得到。(式(1)中,X1表示选自4价的苯环、2个以上的苯环之间缩环而成的4价的基团、2个以上的苯环之间经由单键结合而成的4价的基团中的4价的基团。)。

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