公开(公告)号：CN105492670B

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201480048111.8

申请日：2014-08-29

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 梅嵜真纪子 ,  岸冈高广 ,  西野泰斗 ,  大谷彩子

IPC: D01F6/52 ,  D04H1/728

CPC classification number: D01F6/16 ,  C08F220/20 ,  C08L33/14 ,  C08L33/26 ,  C08L2203/12 ,  C08L2312/00 ,  D01D5/0007 ,  D01D5/003 ,  D01D10/02 ,  D01F6/02 ,  D01F6/36 ,  D04H1/728

Abstract: 本发明的目的在于提供用于制造可简便地制造、且具有耐有机溶剂性的纤维的纤维形成用组合物、将该组合物进行纺丝而得到的纤维、及包含该纤维的生物相容性材料。本发明涉及纤维形成用组合物，其含有(A)包含通式(1)表示的单元结构的高分子化合物、(B)交联剂、(C)酸化合物、及(D)溶剂，式(1)中的各符号具有说明书中记载的含义。

公开(公告)号：CN106103821B

公开(公告)日：2018-03-02

申请号：CN201580008422.6

申请日：2015-02-13

Applicant: 日产化学工业株式会社 ,  国立大学法人京都大学

Inventor： 梅嵜真纪子 ,  岸冈高广 ,  西野泰斗 ,  大谷彩子 ,  龟井谦一郎 ,  刘莉 ,  陈勇

IPC: D01F6/52 ,  D04H1/43 ,  D04H1/728

CPC classification number: C12N5/0068 ,  C08L33/06 ,  C08L33/12 ,  C08L33/14 ,  C08L2201/56 ,  C08L2203/12 ,  C12N2533/40 ,  C12N2537/00 ,  D01D5/003 ,  D01F1/10 ,  D01F6/36 ,  D01F6/52 ,  D04H1/4291 ,  D04H1/728 ,  D10B2509/00

Abstract: 本发明的目的在于提供纤维制造用组合物、将该组合物进行纺丝而得到的纤维、以及使用该纤维的细胞培养支架材料，所述纤维制造用组合物用于制造适合于将对细胞的粘附·增殖·分化等有效的物质固定化、并且保持耐有机溶剂性的纤维。一种纤维制造用组合物，其含有：(A)包含通式(1)表示的单元结构及通式(2)表示的单元结构的高分子化合物，(B)交联剂，(C)酸化合物，以及(D)溶剂。式(1)及(2)中的各符号如说明书中所述。

公开(公告)号：CN103748517B

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：CN201280038944.7

申请日：2012-08-10

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 中岛诚 ,  佐久间大辅 ,  菅野裕太 ,  岸冈高广

IPC: G03F7/11 ,  C08G77/28 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  C07F7/1804 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/31133

Abstract: 一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其中，含有作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物，该硅烷为下述式（1）所示的化合物，〔(R1)aSi(R2)(3‑a)〕b(R3) 式（1） 式（1）中，R3表示含有磺酰基和吸光基、以Si‑C键与Si原子键合的有机基团，R1是烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、烷氧基芳基、酰基氧基芳基、异氰脲酸酯基、羟基、环状氨基或氰基的有机基团、或它们的组合，其表示以Si‑C键与Si原子键合的有机基团，R2表示烷氧基、酰基氧基或卤素基，a表示0～2的整数，b表示1～3的整数。

公开(公告)号：CN104094381B

公开(公告)日：2016-12-28

申请号：CN201380008178.4

申请日：2013-02-08

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 大桥智也 ,  岸冈高广

IPC: H01L21/265 ,  C08L101/00 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/265 ,  C07F5/04 ,  C08L101/00 ,  C09D201/02 ,  G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  H01J37/3171 ,  H01L21/26526 ,  H01L21/266 ,  H01L21/31155

Abstract: 本发明的课题是提供一种离子注入方法和形成离子注入用膜的组合物以及形成抗蚀剂下层膜的组合物。解决手段是，一种离子注入方法，其包括以下工序：在基板上涂布形成膜的组合物并烘烤从而形成膜的工序，所述组合物包含含有13族、14族、15族或16族的元素的化合物和有机溶剂；将杂质离子从前述膜的上方经由前述膜注入到前述基板中，并且将前述膜中的13族、14族、15族或16族的元素导入到前述基板中的工序。前述形成膜的组合物是包含含有13族、14族、15族或16族的元素的化合物和有机溶剂的形成离子注入用膜的组合物。另外，其是包含具有至少两个硼酸酯基的化合物的形成抗蚀剂下层膜的组合物。

公开(公告)号：CN102089710B

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN200980126272.3

申请日：2009-07-07

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 汤川升志郎 ,  岸冈高广 ,  坂口崇洋 ,  庄田浩之

IPC: G03F7/023 ,  C08F12/32 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0233 ,  C08F2/48 ,  C08F212/32 ,  C09D125/08 ,  G02B3/0012 ,  G03F7/094 ,  G03F7/40 ,  C08F220/06 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14

Abstract: 成聚合物(A)的结构单元的总数设为1.0时，构成本发明的课题是提供透明性、耐热性和折射 聚合物(A)的式(1)所示结构单元的比例n1满足率优异的、特别适合用于形成微透镜和形成平坦化膜的正型抗蚀剂组合物，以及由该正型抗蚀剂组合物形成的微透镜和平坦化膜。作为本发明的0.3≤n1≤1.0。解决课题的方法是，一种正型抗蚀剂组合物，其包含下述成分(A)、成分(B)和成分(C)：成分(A)：包含具有联苯结构的结构单元的碱溶性聚合物；成分(B)：具有光分解而产生碱溶性基团的有机基团的化合物；成分(C)：溶剂。还可以是，上述正

公开(公告)号：CN104094381A

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：CN201380008178.4

申请日：2013-02-08

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 大桥智也 ,  岸冈高广

IPC: H01L21/265 ,  C08L101/00 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/265 ,  C07F5/04 ,  C08L101/00 ,  C09D201/02 ,  G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  H01J37/3171 ,  H01L21/26526 ,  H01L21/266 ,  H01L21/31155

Abstract: 本发明的课题是提供一种离子注入方法和形成离子注入用膜的组合物以及形成抗蚀剂下层膜的组合物。解决手段是，一种离子注入方法，其包括以下工序：在基板上涂布形成膜的组合物并烘烤从而形成膜的工序，所述组合物包含含有13族、14族、15族或16族的元素的化合物和有机溶剂；将杂质离子从前述膜的上方经由前述膜注入到前述基板中，并且将前述膜中的13族、14族、15族或16族的元素导入到前述基板中的工序。前述形成膜的组合物是包含含有13族、14族、15族或16族的元素的化合物和有机溶剂的形成离子注入用膜的组合物。另外，其是包含具有至少两个硼酸酯基的化合物的形成抗蚀剂下层膜的组合物。

公开(公告)号：CN101669069A

公开(公告)日：2010-03-10

申请号：CN200880013847.6

申请日：2008-05-14

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 根木隆之 ,  坂口崇洋 ,  岸冈高广

IPC: G03F7/023 ,  G02B3/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0233 ,  G02B3/00 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/38

Abstract: 本发明的课题是提供具有耐热性、高分辨率、高出光效率的微透镜用材料。作为本发明的解决问题的方法是，提供一种正型抗蚀剂组合物，含有碱溶性聚合物(A)和化合物(B)，所述碱溶性聚合物(A)含有具有芳香族稠环或其衍生物的结构单元，所述化合物(B)具有可进行光分解而产生碱溶性基团的有机基团。该正型抗蚀剂组合物具有在波长633nm下折射率为1.6以上、在波长400～730nm下透射率为80％以上的涂膜物性。本发明还提供微透镜的制造方法，该制造方法包括将正型抗蚀剂组合物涂布在基板上，并进行干燥、曝光，然后进行显影的工序。

公开(公告)号：CN100547487C

公开(公告)日：2009-10-07

申请号：CN200380105388.1

申请日：2003-10-08

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 岸冈高广 ,  水沢贤一 ,  榎本智之 ,  坂本力丸 ,  中山圭介 ,  河村保夫

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种形成防反射膜的组合物，其用于对在半导体器件的制造中使用的波长的光显示良好的光吸收性，具有很高的防反射光效果，与光致抗蚀剂层相比较具有较大的蚀刻速度有机防反射膜。具体地，本发明提供一种形成防反射膜的组合物，其特征在于，含有具有羟基烷基结构作为氮原子上的取代基的三嗪三酮化合物、低聚物化合物或高分子化合物。

公开(公告)号：CN101268419A

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN200580051639.1

申请日：2005-09-27

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 岸冈高广 ,  坂本力丸 ,  丸山大辅

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/091

Abstract: 本发明的课题在于提供一种防反射膜，其显示很高的防反射效果、不与光致抗蚀剂发生混合、可以形成在下部没有大的卷边形状的光致抗蚀剂图形、可以在使用了ArF准分子激光和F2准分子激光等的照射光的光刻工序中使用；还提供用于形成该防反射膜的形成防反射膜的组合物。本发明通过提供下述形成防反射膜的组合物而解决了上述课题，即，一种形成防反射膜的组合物，含有下述反应生成物，即，由具有2个或3个2，3－环氧丙基的异氰脲酸化合物与苯甲酸化合物进行反应而获得的反应生成物。

公开(公告)号：CN118117019A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202410284855.5

申请日：2016-09-15

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 桥本圭祐 ,  染谷安信 ,  岸冈高广 ,  坂本力丸

IPC: H01L33/22 ,  H01L33/00 ,  H01L31/0236 ,  H01L31/048 ,  H01L31/18

Abstract: 提供基板表面的粗化方法，包括：第1工序，在基板的表面上涂布含有无机粒子(a1)和有机树脂(a2)的组合物(a3)，然后进行干燥和固化，从而在该基板上形成有机树脂层(A)；第2工序，通过用含有氟化氢、过氧化氢或酸的溶液蚀刻形成了有机树脂层(A)的基板从而使该基板的表面粗化。优选蚀刻利用含有氟化氢和氟化铵、或过氧化氢和铵的溶液进行，有机树脂层(A)以相对于有机树脂(a2)100质量份无机粒子(a1)为5～50质量份的比例含有无机粒子(a1)和有机树脂(a2)，组合物(a3)使用作为无机粒子(a1)的二氧化硅或氧化钛分散在有机溶剂中而得的二氧化硅溶胶或氧化钛溶胶、与有机树脂(a2)的溶液的混合物。