公开(公告)号：CN115513043A

公开(公告)日：2022-12-23

申请号：CN202211262662.7

申请日：2022-10-14

Applicant: 江苏优普纳科技有限公司 ,  无锡市锡山区半导体先进制造创新中心

Inventor： 尹韶辉 ,  邱蕾 ,  钱泽梁 ,  刘坚 ,  路恩会 ,  索鑫宇

IPC: H01L21/02 ,  B24B27/033 ,  B24B7/22

Abstract: 本发明公开了一种从碳化硅晶锭中剥离晶片的方法和装置，其中，碳化硅晶锭包括待剥离的晶片层、改质层和碳化硅基板，且改质层位于晶片层和碳化硅基板之间。本发明的从碳化硅晶锭中剥离晶片的方法包括：通过超声振动向碳化硅晶锭的改质层中注入预先备好的液体，待液体充满改质层后，对充入液体的碳化硅晶锭进行冷却处理，直至液体结冰使改质层膨胀断裂，晶片层与碳化硅基板分离，接着对分离后的晶片层进行磨削，得到晶片。本发明能够降低碳化硅晶片剥离时的材料损耗，从而可以有效提高碳化硅晶锭的利用率，并且本发明还能提高加工效率、降低制造成本。

公开(公告)号：CN115513043B

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202211262662.7

申请日：2022-10-14

Applicant: 江苏优普纳科技有限公司 ,  无锡市锡山区半导体先进制造创新中心

Inventor： 尹韶辉 ,  邱蕾 ,  钱泽梁 ,  刘坚 ,  路恩会 ,  索鑫宇

IPC: H01L21/02 ,  B24B27/033 ,  B24B7/22

Abstract: 本发明公开了一种从碳化硅晶锭中剥离晶片的方法和装置，其中，碳化硅晶锭包括待剥离的晶片层、改质层和碳化硅基板，且改质层位于晶片层和碳化硅基板之间。本发明的从碳化硅晶锭中剥离晶片的方法包括：通过超声振动向碳化硅晶锭的改质层中注入预先备好的液体，待液体充满改质层后，对充入液体的碳化硅晶锭进行冷却处理，直至液体结冰使改质层膨胀断裂，晶片层与碳化硅基板分离，接着对分离后的晶片层进行磨削，得到晶片。本发明能够降低碳化硅晶片剥离时的材料损耗，从而可以有效提高碳化硅晶锭的利用率，并且本发明还能提高加工效率、降低制造成本。

公开(公告)号：CN119085544A

公开(公告)日：2024-12-06

申请号：CN202411393938.4

申请日：2024-10-08

Applicant: 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心

Inventor： 刘坚 ,  路恩会 ,  郑龙 ,  任文祥 ,  缪宏

IPC: G01B11/30 ,  G01B5/00

Abstract: 本发明公开了一种粗糙度测量系统及方法，其中，粗糙度测量系统包括：旋转位移组件、光源发射器、分光镜、图像采集器和图像处理器；分光镜布置在沿着光源发射器所发射的激光光轴方向的第一位置；旋转位移组件和图像采集器分别固定在第一位置两侧的第二位置和第三位置，第一位置、第二位置和第三位置同轴设置，且第一位置、第二位置和第三位置的连线与激光的光轴垂直；待测物体容置在旋转位移组件上，且待测物体的待测表面面向所述图像采集器；分光镜可将激光垂直反射至待测表面，并将从待测表面反射的反射光透射至所述图像采集器；图像处理器适于从图像数据中提取与粗糙度相关的关联特征，从而计算出待测表面的粗糙度值。

公开(公告)号：CN115859489A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202210901639.1

申请日：2022-07-28

Applicant: 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心

Inventor： 刘坚 ,  路恩会 ,  袁一洁 ,  索鑫宇

IPC: G06F30/17 ,  G06F30/20 ,  G06F111/08 ,  G06F111/10

Abstract: 本发明涉及精密加工领域，特别涉及一种砂轮表面形貌仿真方法、计算设备及存储介质，方法包括：根据待仿真砂轮的表面参数和砂轮表面的自相关函数确定砂轮表面的各点高度；根据砂轮表面的自相关函数确定砂轮表面的系统传递函数；根据砂轮表面的系统传递函数和各点高度确定砂轮表面的目标滤波函数；根据目标滤波函数对砂轮的表面形貌进行仿真。本发明能够根据砂轮的表面参数以及自相关函数模拟砂轮表面的各点高度，再通过各点高度及系统传递参数对砂轮表面进行模拟，得到砂轮表面的目标滤波函数，从而实现对砂轮表面进行仿真。

公开(公告)号：CN118898597A

公开(公告)日：2024-11-05

申请号：CN202411061770.7

申请日：2024-08-05

Applicant: 扬州大学 ,  无锡市锡山区半导体先进制造创新中心

Inventor： 路恩会 ,  任文祥 ,  刘坚 ,  朱兴龙 ,  缪宏 ,  王俊杰

IPC: G06T7/00 ,  G01B11/30

Abstract: 一种提升视觉粗糙度测量精度的成像光源干扰消融装置及干扰消融方法，属于表面粗糙度或不规则性检测技术领域，装置由底板、横向支架、工作台、激光器、背板、纵向支架、分光镜和反射镜连接构成，当激光器发出光束后，依次经过分光镜、反射镜及待测量件后，被CCD相机捕捉到两个激光光斑，CCD相机与计算机相连，通过计算机显示器，实时观察和采集激光斑点。本发明干扰消融装置组成结构简单，测量过程中可对各部件之间的中心距进行微调，操作方便，能准确获取参考光斑和表面反射光斑的全参考图片，可有效消除入射光源亮度变化对粗糙度测量的影响，不仅对所有表面粗糙度测量有效，对视觉测距方面同样有效，测量结果更加精确，适用范围面较广。

公开(公告)号：CN115546098A

公开(公告)日：2022-12-30

申请号：CN202210901629.8

申请日：2022-07-28

Applicant: 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心

Inventor： 刘坚 ,  路恩会 ,  袁一洁 ,  索鑫宇

IPC: G06T7/00 ,  G06V10/36 ,  G06V10/74 ,  G06V10/764 ,  G06V10/774

Abstract: 本发明涉及精密加工领域，特别涉及一种砂轮磨损状态识别方法、计算设备及存储介质，方法包括：获取砂轮的第一表面图像，并对表面图像进行预处理得到第二表面图像；根据第二表面图像确定砂轮的特征参数；将砂轮的特征参数输入预先构建的分类模型，并根据分类模型的输出确定砂轮的磨损状态。本发明能够通过对砂轮的表面图像进行识别，根据分类模型确定砂轮的磨损状态，提高砂轮的磨损状态的识别效率和准确率。