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公开(公告)号：CN1584623A
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN200410079441.1
申请日：2004-08-18
IPC: G01R33/06
CPC classification number: G11B5/3903 , G11B5/3116 , G11B5/3166 , G11B5/455
Abstract: 在检测薄膜磁头的方法中，准备设置了具有自由层的磁阻膜和铁磁层的薄膜磁头，该自由层的磁化方向根据外部磁场而改变，该铁磁层将一个偏置磁场加载到自由层。然后，沿着加载偏置磁场的方向将一个DC磁场加载到铁磁层。随后，沿着加载偏置磁场的方向将一个AC磁场加载到铁磁层。其后，通过将一个外部磁场加载到磁阻膜同时将一个电流加载于其上来检测薄膜磁头的诸如非对称和复制输出的特征。
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公开(公告)号：CN100341048C
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200410088002.7
申请日：2004-10-28
CPC classification number: B24B37/30 , B24B37/048 , Y10T29/49048
Abstract: 本发明提供了一种研磨方法和装置，它增加了磁头滑动件制造处理的收获率，但是不会使得输出和不对称特征变差。根据本发明，一种用于研磨薄膜磁头的装置包括夹具块和研磨板。该夹具块包括第一夹具和第二夹具，该第一夹具保持要进行研磨的杆，该第二夹具保持用于分担负载的部件。该研磨板可相对于第一和第二夹具运动，并可与由第一夹具保持的杆的要研磨表面以及由第二夹具保持的负载分担部件接触，以便进行研磨。
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公开(公告)号：CN1606067A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN200410083551.5
申请日：2004-10-08
CPC classification number: B82Y25/00 , B82Y10/00 , G11B5/012 , G11B5/11 , G11B5/3909 , G11B5/40 , G11B5/4806 , G11B5/4826 , G11B2005/001
Abstract: 一个磁头万向支架组件(HGA)包括一个磁头滑动器，设置至少一个薄膜磁头元件，以及一个导电悬架，磁头滑动器固定在其上。磁头滑动器和悬架之间的一个传导电阻等于或高于1MΩ。
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公开(公告)号：CN100504424C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200410079441.1
申请日：2004-08-18
IPC: G01R33/06
CPC classification number: G11B5/3903 , G11B5/3116 , G11B5/3166 , G11B5/455
Abstract: 在检测薄膜磁头的方法中，准备设置了具有自由层的磁阻膜和铁磁层的薄膜磁头，该自由层的磁化方向根据外部磁场而改变，该铁磁层将一个偏置磁场加载到自由层。然后，沿着加载偏置磁场的方向将一个DC磁场加载到铁磁层。随后，沿着加载偏置磁场的方向将一个AC磁场加载到铁磁层。其后，通过将一个外部磁场加载到磁阻膜同时将一个电流加载于其上来检测薄膜磁头的诸如非对称和复制输出的特征。
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公开(公告)号：CN1612217A
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN200410088002.7
申请日：2004-10-28
CPC classification number: B24B37/30 , B24B37/048 , Y10T29/49048
Abstract: 本发明提供了一种研磨方法和装置，它增加了磁头滑动件制造处理的收获率，但是不会使得输出和不对称特征变差。根据本发明，一种用于研磨薄膜磁头的装置包括夹具块和研磨板。该夹具块包括第一夹具和第二夹具，该第一夹具保持要进行研磨的杆，该第二夹具保持用于分担负载的部件。该研磨板可相对于第一和第二夹具运动，并可与由第一夹具保持的杆的要研磨表面以及由第二夹具保持的负载分担部件接触，以便进行研磨。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100390861C
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200610002915.1
申请日：2006-01-27
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/3133 , G11B5/4826 , G11B5/6005 , G11B5/6064 , G11B2005/0005
Abstract: 提供一种在不但保证发热操作可靠性、而且使读输出稳定的条件下，具有改善的伸出效率的薄膜磁头。所述磁头包括：用于写和/或读数据信号的磁头元件；用于至少在所述磁头元件的操作期间产生热的发热元件；以及与所述发热元件邻近的第一散热元件，所述第一散热元件用于接收所述发热元件产生的部分热，所述第一散热元件与所述磁头元件保持某一距离。
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公开(公告)号：CN1734570A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN200510082270.2
申请日：2005-06-27
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/855 , B82Y10/00 , G11B5/59655 , G11B5/743 , G11B5/82
Abstract: 将离散型介质中突发图形形状作成沿轨道宽度方向和轨道圆周方向分别具有基本的梯形形状(四边棱台形状)，沿轨道宽度方向的梯形形状上对应于凸状磁记录层表面的上边W1、对应于凸状磁记录层下面的下边W2、数据信息记录部的数据轨道节距Tp和磁头的读出宽度Wr之间满足预定的关系，从而成为工艺上制造负担极小的突发图形形状，并且能够获得正确的位置误差信号。
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公开(公告)号：CN100347745C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200510078085.6
申请日：2005-06-14
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/6064 , G11B5/3133
Abstract: 本发明涉及一种具有加热器的薄膜磁头。该薄膜磁头包括：衬底；读磁头部件，具有屏蔽区域，蔽长度方向，分离屏蔽区域，由导热率比屏蔽区域的导热率低形成在该衬底上；写磁头部件，具有磁极区域，相对于读磁头部件，形成在该衬底的相对侧；覆盖涂层，用于覆盖读磁头部件和写磁头部件，形成在该衬底上；加热器，至少在该读磁头部件或者写磁头部件的操作期间加热，形成在覆盖涂层内；以及隙缝区域，用于在屏的低导热率材料构成。
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公开(公告)号：CN1716383A
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN200510076036.9
申请日：2005-06-03
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 根据本发明的薄膜磁头包括：衬底；至少一个磁头部件，形成在该衬底上；多层覆盖涂层，由多个覆盖涂层构成，形成在该衬底上，以覆盖该至少一个磁头部件；以及至少一个加热部件，至少在该至少一个磁头部件的操作期间，被加热，该至少一个加热部件设置在所述多层覆盖涂层中，而且在该多层覆盖涂层中，距离衬底最远的覆盖涂层的热膨胀系数小于该多层覆盖涂层中，最靠近该衬底的覆盖涂层的热膨胀系数。
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公开(公告)号：CN100399422C
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200510076036.9
申请日：2005-06-03
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 根据本发明的薄膜磁头包括：衬底；至少一个磁头部件，形成在该衬底上；多层覆盖涂层，由多个覆盖涂层构成，形成在该衬底上，以覆盖该至少一个磁头部件；以及至少一个加热部件，至少在该至少一个磁头部件的操作期间，被加热，该至少一个加热部件设置在所述多层覆盖涂层中，而且在该多层覆盖涂层中，距离衬底最远的覆盖涂层的热膨胀系数小于该多层覆盖涂层中，最靠近该衬底的覆盖涂层的热膨胀系数。
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