控制电路以及刻蚀真空系统
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119297066A

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202411366749.8

    申请日:2024-09-29

    Abstract: 本申请提供了一种控制电路以及刻蚀真空系统,其中,该控制电路,包括:电源模块、互锁控制模块以及开关模块;互锁控制模块包括:供电控制单元以及连接控制单元;连接控制单元的输出端分别与等离子刻蚀机的入口载锁以及等离子刻蚀机的出口载锁连接;供电控制单元用于在开关模块导通时上电,并向连接控制单元发出电磁信号;连接控制单元用于在电磁信号的作用下,在连接控制单元的输出端与入口载锁以及等离子刻蚀机的真空抽取装置之间形成回路,以将入口载锁与等离子刻蚀机的真空抽取装置导通,且将出口载锁与等离子刻蚀机的真空抽取装置断开。本申请能够对等离子刻蚀机的真空抽取过程进行控制,从而有效避免了大气回灌现象的产生。

    一种外门控制装置与晶圆加工设备

    公开(公告)号:CN220651114U

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202322511709.5

    申请日:2023-09-14

    Abstract: 本申请提供了一种外门控制装置与晶圆加工设备,涉及晶圆加工技术领域。该外门控制装置应用于晶圆加工设备,晶圆加工设备包括腔体、出口以及外门,出口连通腔体,外门设置于出口处;外门控制装置包括驱动模块、开关模块以及检测模块,开关模块分别与检测模块、驱动模块电连接,驱动模块还与外门连接,检测模块设置于出口的位置;其中,驱动模块用于在工作时驱动外门打开与关闭;检测模块用于检测出口的状态,并在当晶圆位于出口时,断开开关模块,以使驱动模块停止工作。本申请提供的外门控制装置与晶圆加工设备具有避免了晶圆因传送位置偏移导致夹碎的情况产生的效果。

    一种去胶机与晶圆处理系统

    公开(公告)号:CN220324423U

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202321950143.X

    申请日:2023-07-21

    Abstract: 本申请提供了一种去胶机与晶圆处理系统,涉及去胶技术领域。该去胶机包括第一腔体、第二腔体、电磁阀门、真空系统以及驱动模块,电磁阀门与第一腔体、第二腔体连通,真空系统与电磁阀门连接,电磁阀门还与驱动模块电连接;其中,驱动模块包括控制器,控制器与电磁阀门电连接,且驱动模块连接独立电源;控制器用于在其中一个腔体处于维护状态时,控制电磁阀门的工作,以使另一腔体正常工作。本申请提供的去胶机与晶圆处理系统具有提升了产能的优点。

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