一种汽车减振器活塞杆气体表面氧氮化复合强化处理工艺

    公开(公告)号:CN114293135B

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202110491451.X

    申请日:2021-05-06

    Applicant: 扬州大学

    Abstract: 本发明公开了一种汽车减振器活塞杆气体表面氧氮化复合强化处理工艺,其包括如下步骤:汽车减震器活塞杆清洗去油、将去油后的汽车减震器活塞杆置于炉内、密封、升温、通入水蒸气、进行预氧化、再升温、通入氨气和二氧化碳、一段渗氮、降温、再通入氨气与二氧化碳、二段渗氮、再降温、通入水蒸气、后氧化处理、汽车减震器活塞杆随炉冷却、汽车减震器活塞杆出炉自然冷却。本发明提供一种对于汽车减振器活塞杆进行加工的方法,对于汽车减振器活塞杆有着改善机械性能,提高摩擦性能和增加耐腐蚀性能的效果。

    一种汽车减振器活塞杆气体表面氧氮化复合强化处理工艺

    公开(公告)号:CN114293135A

    公开(公告)日:2022-04-08

    申请号:CN202110491451.X

    申请日:2021-05-06

    Applicant: 扬州大学

    Abstract: 本发明公开了一种汽车减振器活塞杆气体表面氧氮化复合强化处理工艺,其包括如下步骤:汽车减震器活塞杆清洗去油、将去油后的汽车减震器活塞杆置于炉内、密封、升温、通入水蒸气、进行预氧化、再升温、通入氨气和二氧化碳、一段渗氮、降温、再通入氨气与二氧化碳、二段渗氮、再降温、通入水蒸气、后氧化处理、汽车减震器活塞杆随炉冷却、汽车减震器活塞杆出炉自然冷却。本发明提供一种对于汽车减振器活塞杆进行加工的方法,对于汽车减振器活塞杆有着改善机械性能,提高摩擦性能和增加耐腐蚀性能的效果。

    射频陶瓷介质窗内外壁纳米级TiN薄膜的制备装置及方法

    公开(公告)号:CN116103621B

    公开(公告)日:2024-12-24

    申请号:CN202211203549.1

    申请日:2023-01-30

    Applicant: 扬州大学

    Abstract: 本发明公开了射频陶瓷介质窗内外壁纳米级TiN薄膜的制备装置及方法,包括真空室,包括壳体、一级旋转组件和二级旋转组件,一级旋转组件和二级旋转组件均设置于壳体底部,且二级旋转组件设置于一级旋转组件外圈,传动单元,包括支架组件、气动组件和涂镀组件,气动组件贯通设置于支架组件顶部,涂镀组件贯通设置于所述支架组件底部。本发明装置利用外靶涂镀陶瓷介质窗外壁,采用同轴圆柱靶实现陶瓷介质窗内壁的涂镀,通过加装气动装置实现同轴圆柱靶的往复运动,保证陶瓷介质窗内壁薄膜的均匀性。此外本发明采用的制备方法适用范围广泛,节省成本、效果更好。

    射频陶瓷介质窗内外壁纳米级TiN薄膜的制备装置及方法

    公开(公告)号:CN116103621A

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202211203549.1

    申请日:2023-01-30

    Applicant: 扬州大学

    Abstract: 本发明公开了射频陶瓷介质窗内外壁纳米级TiN薄膜的制备装置及方法,包括真空室,包括壳体、一级旋转组件和二级旋转组件,一级旋转组件和二级旋转组件均设置于壳体底部,且二级旋转组件设置于一级旋转组件外圈,传动单元,包括支架组件、气动组件和涂镀组件,气动组件贯通设置于支架组件顶部,涂镀组件贯通设置于所述支架组件底部。本发明装置利用外靶涂镀陶瓷介质窗外壁,采用同轴圆柱靶实现陶瓷介质窗内壁的涂镀,通过加装气动装置实现同轴圆柱靶的往复运动,保证陶瓷介质窗内壁薄膜的均匀性。此外本发明采用的制备方法适用范围广泛,节省成本、效果更好。

    一种靶材的防变形结构及具有防变形结构的离子镀膜靶材

    公开(公告)号:CN216838156U

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN202120556708.0

    申请日:2021-03-16

    Abstract: 本实用新型公开了一种靶材的防变形结构,此结构为在靶材的周向侧壁中开设有盲孔;盲孔的数量不少于2个,且均匀分布;一种具有防变形结构的离子镀膜靶材,此离子镀膜靶材呈圆形,其径向外侧壁中开设有盲孔;盲孔的数量为4组,每组之间间隔90度分布;盲孔呈阶梯状,沿离子镀膜靶材的半径方向分布,其包括大孔和小孔,大孔位于远离离子镀膜靶材的中心轴线一端;大孔的直径为2mm,而小孔的直径为1mm,二者同轴相通;本实用新型中通过在靶材的侧壁中开设盲孔,使得温差引起的变形能够有效得到补偿,能够有效提高镀膜的稳定性和一致性,并进一步提高靶材的利用率,并使得靶材在薄膜沉积过程中表面的电弧轨迹更加稳定。

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