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公开(公告)号:CN111354627A
公开(公告)日:2020-06-30
申请号:CN201911306999.1
申请日:2019-12-18
Applicant: 德克萨斯仪器股份有限公司
Abstract: 本申请公开集成电路背面金属化。一种用于背面金属化的方法包括在硅晶片(200)的第一表面(204)上喷墨印刷纳米银导电墨水(210)的图案。硅晶片(200)包括多个晶粒。该图案包括沿晶粒之间的划线的间隙区域(212)。激光通过晶片的第二表面(202)聚焦在硅晶片的第一表面(204)和硅晶片(200)的第二表面(202)之间的点处。第二表面(202)与第一表面(204)相反。沿划线分离晶粒。
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公开(公告)号:CN111128533A
公开(公告)日:2020-05-08
申请号:CN201911048437.1
申请日:2019-10-31
Applicant: 德克萨斯仪器股份有限公司
IPC: H01F27/30 , H01F27/29 , H01F27/28 , H01F27/24 , H01F41/00 , H01G4/30 , H01G4/002 , H01L25/16 , H01L23/64 , H01L21/50
Abstract: 本申请公开了用于功率元件集成的增材沉积低温可固化磁性互连层。用于形成变压器、电感器、电容器或其它无源电子元件的装置(100),其具有在层压结构(104)中的图案化导电特征件(111、112、113),以及一个或更多个铁氧体片或其它磁芯结构(101、102),该一个或更多个铁氧体片或其它磁芯结构(101、102)经由一个或更多个喷墨印刷磁性粘合剂层(106、108)附接到层压结构(104),该一个或更多个喷墨印刷磁性粘合剂层(106、108)将一个或更多个磁芯结构(101、102)联接到层压结构(104)。
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