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公开(公告)号：CN112513862A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201980049151.7
申请日：2019-06-18
Applicant: 微软技术许可有限责任公司
IPC: G06F30/392 , F28D15/02 , G06F1/20 , H01L23/427 , H05K7/20
Abstract: 描述了系统和方法，并且一种方法包括存储PCB尺寸、蒸气腔室(VC)箱体配置、发热(HG)设备的封装高度、标识组件高度的组件数据、以及指示针对HG设备和组件的位置的布局配置数据。在确定组件位置是干扰位置之际，VC箱体配置数据被更新以指示围绕干扰位置的用于VC箱体的内间隙周界。电铸形成用于热耦合至HG设备的VC，其具有VC箱体，该VC箱体具有根据VC箱体外周界而被对准且朝向的无边缘、无接缝外部外围表面、以及关于间隙周界被对准且朝向以形成间隙的其他无边缘表面。
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