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公开(公告)号：CN114207181B
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN201980099178.7
申请日：2019-08-09
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述了一种用具有三个或更多个阴极组件的阴极阵列涂覆基板的方法，所述阴极组件具有可旋转的对应的磁体组件。所述方法包括：在关断所述阴极阵列时，将所述基板移动到第一位置；在第一角扇区中以往复运动的方式移动所述磁体组件中的第一磁体组件时，在第一操作中涂覆在所述第一位置的所述基板；在将所述基板移动到第二位置之前，关断所述阴极阵列；在关断所述阴极阵列时，将所述基板移动到所述第二位置；在另一个角扇区中以往复运动的方式移动所述第一磁体组件时，涂覆在所述第二位置的所述基板。
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公开(公告)号：CN114207181A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN201980099178.7
申请日：2019-08-09
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述了一种用具有三个或更多个阴极组件的阴极阵列涂覆基板的方法，所述阴极组件具有可旋转的对应的磁体组件。所述方法包括：在关断所述阴极阵列时，将所述基板移动到第一位置；在第一角扇区中以往复运动的方式移动所述磁体组件中的第一磁体组件时，在第一操作中涂覆在所述第一位置的所述基板；在将所述基板移动到第二位置之前，关断所述阴极阵列；在关断所述阴极阵列时，将所述基板移动到所述第二位置；在另一个角扇区中以往复运动的方式移动所述第一磁体组件时，涂覆在所述第二位置的所述基板。
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公开(公告)号：CN110050325B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN201680091472.X
申请日：2016-12-19
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 朴炫灿 , 安德烈亚斯·克洛佩尔 , 阿杰伊·萨姆普斯·博霍洛坎 , 蔡皮皮
Abstract: 根据本公开内容的一方面，提供一种溅射沉积源(100、200)。溅射沉积源包括：电极阵列(110)，具有两对或更多对电极，其中电极阵列的每个电极(112)围绕各自旋转轴(A)可旋转且配置为提供待沉积于基板(10)上的靶材材料；和电源供应器布置(120)，配置为分别将双极脉冲直流电压提供至所述两对或更多对电极。根据本公开内容的另一方面，提供一种利用溅射沉积源(100、200)将层沉积于基板上的方法。
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公开(公告)号：CN112189254B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN201880093723.7
申请日：2018-05-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687 , C23C14/50 , C23C14/56
Abstract: 本公开内容提供在处理系统中的载体(212)的热处理的装置(200)。装置包括载体(212)，所述载体(212)被配置以在基板接收区域(232)中支撑基板(230)，所述载体(212)具有延伸到基板接收区域(232)之外的一个或多个边缘部分(214)，和被配置以提供热能至一个或多个边缘部分(214)的加热布置(240)。
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公开(公告)号：CN108884558B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN201680084064.1
申请日：2016-05-02
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 朴炫灿 , 托马斯·格比利 , 阿杰伊·萨姆普斯·博霍洛坎
IPC: C23C14/35
Abstract: 根据本公开内容的一方面，提供一种利用至少一个阴极组件(10)涂布基板(100)的方法，此至少一个阴极组件(10)具有溅射靶材(20)及磁体组件(25)，磁体组件(25)围绕旋转轴(A)是可旋转的。此方法包括：当以往复方式在第一扇区(12)中移动磁体组件时对基板(100)进行涂布；以及当以往复方式在不同于第一扇区(12)的第二扇区(14)中移动磁体组件(25)时对基板(100)进行后续涂布。根据第二方面，提供一种用于执行所述的方法的涂布设备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110050325A
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201680091472.X
申请日：2016-12-19
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 朴炫灿 , 安德烈亚斯·克洛佩尔 , 阿杰伊·萨姆普斯·博霍洛坎 , 蔡皮皮
Abstract: 根据本公开内容的一方面，提供一种溅射沉积源(100、200)。溅射沉积源包括：电极阵列(110)，具有两对或更多对电极，其中电极阵列的每个电极(112)围绕各自旋转轴(A)可旋转且配置为提供待沉积于基板(10)上的靶材材料；和电源供应器布置(120)，配置为分别将双极脉冲直流电压提供至所述两对或更多对电极。根据本公开内容的另一方面，提供一种利用溅射沉积源(100、200)将层沉积于基板上的方法。
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公开(公告)号：CN112575301B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202011084003.X
申请日：2016-04-21
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供一种用于利用至少一个阴极组件(10)涂布基板(100)的方法，至少一个阴极组件(10)具有三个或更多个可旋转靶(20)，三个或更多个可旋转靶(20)各包括位于其中的磁体组件(25)。所述方法包括：旋转磁体组件(25)至相对于平面(22)的多个不同的角位置，平面(22)从基板(100)垂直地延伸至三个或更多个可旋转靶(20)的相应可旋转靶的轴(21)；以及根据储存于数据库或存储器中的函数改变下述的至少一者：提供至三个或更多个可旋转靶(20)的功率、磁体组件(25)的停留时间、以及磁体组件(25)的持续地改变的角速度。
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公开(公告)号：CN108884556B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201680084352.7
申请日：2016-04-21
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供一种用于利用至少一个阴极组件(10)涂布基板(100)的方法，至少一个阴极组件(10)具有三个或更多个可旋转靶(20)，三个或更多个可旋转靶(20)各包括位于其中的磁体组件(25)。所述方法包括：旋转磁体组件(25)至相对于平面(22)的多个不同的角位置，平面(22)从基板(100)垂直地延伸至三个或更多个可旋转靶(20)的相应可旋转靶的轴(21)；以及根据储存于数据库或存储器中的函数改变下述的至少一者：提供至三个或更多个可旋转靶(20)的功率、磁体组件(25)的停留时间、以及磁体组件(25)的持续地改变的角速度。
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公开(公告)号：CN108884558A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201680084064.1
申请日：2016-05-02
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 朴炫灿 , 托马斯·格比利 , 阿杰伊·萨姆普斯·博霍洛坎
IPC: C23C14/35
CPC classification number: C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/3455 , H01J37/3464
Abstract: 根据本公开内容的一方面，提供一种利用至少一个阴极组件(10)涂布基板(100)的方法，此至少一个阴极组件(10)具有溅射靶材(20)及磁体组件(25)，磁体组件(25)围绕旋转轴(A)是可旋转的。此方法包括：当以往复方式在第一扇区(12)中移动磁体组件时对基板(100)进行涂布；以及当以往复方式在不同于第一扇区(12)的第二扇区(14)中移动磁体组件(25)时对基板(100)进行后续涂布。根据第二方面，提供一种用于执行所述的方法的涂布设备。
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公开(公告)号：CN112575301A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202011084003.X
申请日：2016-04-21
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供一种用于利用至少一个阴极组件(10)涂布基板(100)的方法，至少一个阴极组件(10)具有三个或更多个可旋转靶(20)，三个或更多个可旋转靶(20)各包括位于其中的磁体组件(25)。所述方法包括：旋转磁体组件(25)至相对于平面(22)的多个不同的角位置，平面(22)从基板(100)垂直地延伸至三个或更多个可旋转靶(20)的相应可旋转靶的轴(21)；以及根据储存于数据库或存储器中的函数改变下述的至少一者：提供至三个或更多个可旋转靶(20)的功率、磁体组件(25)的停留时间、以及磁体组件(25)的持续地改变的角速度。
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