一种晶圆料盒定位装置

    公开(公告)号:CN107180780A

    公开(公告)日:2017-09-19

    申请号:CN201710618106.1

    申请日:2017-07-26

    CPC classification number: H01L21/68 H01L21/673

    Abstract: 本发明公开一种晶圆料盒定位装置,定位底座用于承托载料盒,板面上的按载料盒的尺寸、在不同位置贯通设置连接孔;限位块通过连接孔可拆卸固定于定位底座的上表面,载料盒的每个边缘至少对应设置一个限位块,通过改变限位块的固定位置,可以与不同尺寸的载料盒相互匹配,从而使限位块能够紧紧地与载料盒的边缘紧贴固定,通过多个限位块的相互配合将载料盒卡接定位。因本发明中的限位块的位置可改变,并且定位底座上的连接孔根据载料盒的尺寸相应设定,从而使限位块的相对间距可以与不同的载料盒相匹配,因而能够对应匹配不同规格尺寸的载料盒,仅需一个定位装置即可定位多种载料盒,不需要更换载料盒,节省了更换的时间,提高生产效率。

    一种音圈电机的控制方法及系统

    公开(公告)号:CN107994836B

    公开(公告)日:2020-11-10

    申请号:CN201711423561.2

    申请日:2017-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种音圈电机的控制方法及系统,包括接收预设位置信息和根据预设作用力信息确定的预设电流信息;根据预设位置信息通过位置闭环和基于高电流增益的电流闭环驱动音圈电机到达给定位置,其中,高电流增益为第一预设增益值到第二预设增益值范围内的增益;获取音圈电机的电流,并判断电流是否大于预设电流阈值;若是,则根据预设电流信息通过基于低电流增益的电流闭环驱动音圈电机形成的作用力达到指定作用力,其中,低电流增益为第一预设增益值到第三预设增益值范围内的增益,第二预设增益值小于第三预设增益值。本发明能够同时满足位置控制阶段和力控制阶段的不同要求,使音圈电机可以完成复杂的工艺,大大拓宽了音圈电机的应用范围。

    一种多设备间配合偏差的检测系统

    公开(公告)号:CN108511377A

    公开(公告)日:2018-09-07

    申请号:CN201810573862.1

    申请日:2018-06-06

    Abstract: 本发明公开一种多设备间配合偏差的检测系统,包括安装于晶圆工作台的激光发射器和安装于机器人夹持端的误差显示器,误差显示器上设置有基准点,基准点与机器人夹持端的中心重合。本发明提供的检测系统,在晶圆工作台上可拆卸地设置有激光发射器,同时在晶圆搬运机器人机械手位置可替换地设置有误差显示器,应用时将激光发射器和误差显示器分别安装到晶圆工作台和搬运机器人上,激光发射器的光斑至误差显示器上,误差显示器显示激光点位置,可进一步调整搬运机器人和晶圆工作台相对位置的误差,保证了晶圆在晶圆工作台上的位置精准。

    一种晶圆盘定位装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107887318A

    公开(公告)日:2018-04-06

    申请号:CN201711351389.4

    申请日:2017-12-15

    CPC classification number: H01L21/68

    Abstract: 本发明公开了一种晶圆盘定位装置,包括支撑架和用于定位晶圆盘的定位块,支撑架内侧定位面的横截面的中心为定位中心,定位面用于与校准装置定位贴合连接,在定位状态下定位中心与校准装置的中心重合;定位块设于支撑架的上端面,定位块至少有两个且每个定位块到定位中心的距离均相同。本发明公开的晶圆盘定位装置在进行校准之前,使晶圆盘和校准装置同心得放置在一起,减小了晶圆盘与校准装置的偏心距离,提高了校准前晶圆盘在校准装置上的定位精度,同时提高校准效率。

    一种校正晶圆盘的校准系统

    公开(公告)号:CN108598033A

    公开(公告)日:2018-09-28

    申请号:CN201810573739.X

    申请日:2018-06-06

    Abstract: 本发明公开一种校正晶圆盘的校准系统,包括上端支撑盘,设置于上端支撑盘上、用于获取待校正晶圆盘位置信息的传感器,用于固定待校正晶圆盘的校准平台,用于调整待校正晶圆盘位置的滑动支撑平台,且校准平台位于滑动支撑平台的滑槽内。本发明所提供的校准系统通过将待校准晶圆盘顶起离开校准平台,通过电机带动滑动支撑平台移动待校准晶圆盘,直到传感器接收不到反馈信号为止,实现检测并调整晶圆盘与校准平台之间误差的功能,与现有技术当中通过手移动待校准晶圆盘的方式相比,避免了出现静电的情况,自动化程度高,有效地提高校准精度。

    一种设备之间配合误差的辅助标记装置

    公开(公告)号:CN108398728A

    公开(公告)日:2018-08-14

    申请号:CN201810426225.1

    申请日:2018-05-07

    Abstract: 本发明公开了一种设备之间配合误差的辅助标记装置,包括支撑连杆、标记连杆、激光测距传感器以及计算机。其中,支撑连杆和标记连杆设置于工作台且水平方向上相互垂直,激光测距传感器安装在机械手上,在测量过程中,标记连杆处于激光测距传感器的扫描范围内,计算机与激光测距传感器连接,用于接收激光测距传感器返回的测试数据以确定机械手与工作台之间的配合误差。可见,本装置结构简单,能够标记机械手与工作台之间的配合误差,可广泛应用。另外,由于采用了激光测距传感器,相对于其它测距传感器来说,其具有固定的扫描范围的特性,如果被扫描物体与激光传感器的距离过大或者过小,激光测距传感器不能扫描到物体,从而提高了测量的精度。

    一种音圈电机的控制方法及系统

    公开(公告)号:CN107994836A

    公开(公告)日:2018-05-04

    申请号:CN201711423561.2

    申请日:2017-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种音圈电机的控制方法及系统,包括接收预设位置信息和根据预设作用力信息确定的预设电流信息;根据预设位置信息通过位置闭环和基于高电流增益的电流闭环驱动音圈电机到达给定位置,其中,高电流增益为第一预设增益值到第二预设增益值范围内的增益;获取音圈电机的电流,并判断电流是否大于预设电流阈值;若是,则根据预设电流信息通过基于低电流增益的电流闭环驱动音圈电机形成的作用力达到指定作用力,其中,低电流增益为第一预设增益值到第三预设增益值范围内的增益,第二预设增益值小于第三预设增益值。本发明能够同时满足位置控制阶段和力控制阶段的不同要求,使音圈电机可以完成复杂的工艺,大大拓宽了音圈电机的应用范围。

    一种设备之间配合误差的辅助标记装置

    公开(公告)号:CN208384143U

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201820676040.1

    申请日:2018-05-07

    Abstract: 本实用新型公开了一种设备之间配合误差的辅助标记装置,包括支撑连杆、标记连杆、激光测距传感器以及计算机。其中,支撑连杆和标记连杆设置于工作台且水平方向上相互垂直,激光测距传感器安装在机械手上,在测量过程中,标记连杆处于激光测距传感器的扫描范围内,计算机与激光测距传感器连接,用于接收激光测距传感器返回的测试数据以确定机械手与工作台之间的配合误差。可见,本装置结构简单,能够标记机械手与工作台之间的配合误差,可广泛应用。另外,由于采用了激光测距传感器,相对于其它测距传感器来说,其具有固定的扫描范围的特性,如果被扫描物体与激光传感器的距离过大或者过小,激光测距传感器不能扫描到物体,从而提高了测量的精度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种晶圆料盒定位装置
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207217495U

    公开(公告)日:2018-04-10

    申请号:CN201720918760.X

    申请日:2017-07-26

    Abstract: 本实用新型公开一种晶圆料盒定位装置,定位底座用于承托载料盒,板面上的按载料盒的尺寸、在不同位置贯通设置连接孔;限位块通过连接孔可拆卸固定于定位底座的上表面,载料盒的每个边缘至少对应设置一个限位块,通过改变限位块的固定位置,可以与不同尺寸的载料盒相互匹配,从而使限位块能够紧紧地与载料盒的边缘紧贴固定,通过多个限位块的相互配合将载料盒卡接定位。因本实用新型中的限位块的位置可改变,并且定位底座上的连接孔根据载料盒的尺寸相应设定,从而使限位块的相对间距可以与不同的载料盒相匹配,因而能够对应匹配不同规格尺寸的载料盒,仅需一个定位装置即可定位多种载料盒,不需要更换载料盒,节省了更换的时间,提高生产效率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种校正晶圆盘的校准系统

    公开(公告)号:CN208189562U

    公开(公告)日:2018-12-04

    申请号:CN201820872341.1

    申请日:2018-06-06

    Abstract: 本实用新型公开一种校正晶圆盘的校准系统,包括上端支撑盘,设置于上端支撑盘上、用于获取待校正晶圆盘位置信息的传感器,用于固定待校正晶圆盘的校准平台,用于调整待校正晶圆盘位置的滑动支撑平台,且校准平台位于滑动支撑平台的滑槽内。本实用新型所提供的校准系统通过将待校准晶圆盘顶起离开校准平台,通过电机带动滑动支撑平台移动待校准晶圆盘,直到传感器接收不到反馈信号为止,实现检测并调整晶圆盘与校准平台之间误差的功能,与现有技术当中通过手移动待校准晶圆盘的方式相比,避免了出现静电的情况,自动化程度高,有效地提高校准精度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

Patent Agency Ranking