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公开(公告)号：CN101121908B
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200610109737.2
申请日：2006-08-09
Applicant: 富士通株式会社
IPC: C10M107/38 , G11B5/725 , G11B5/255
CPC classification number: G11B5/725 , C10M107/38 , C10M147/04 , C10M2213/04 , C10N2220/021 , C10N2230/56 , C10N2240/204 , C10N2250/141 , G11B5/255 , Y10T428/1164 , Y10T428/1179
Abstract: 本发明提供了一种润滑剂，在磁记录装置中，其被作磁记录介质的润滑剂层和/或滑动头的润滑剂层时，使润滑剂层的厚度很薄。即使是高分子量，也可以获得足够薄的单分子层膜厚度。在不降低飞行稳定性的情况下，在广的温度范围内提高了可靠性。该润滑剂包括含氟聚合物，润滑剂有如下关系：Y
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101377929A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810212622.5
申请日：2008-08-25
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: G11B5/725 , G11B5/8408
Abstract: 存储装置、存储介质以及存储介质的制造方法。根据一个实施方式的一个方面，一种存储装置包括存储介质，该存储介质具有基板、存储信息的存储介质层、在该存储介质层的第一区域上的第一润滑层，以及在该存储介质层的第二区域上的第二润滑层，该第二润滑层的粘度低于第一润滑层。该存储装置还包括用于将信息写入存储介质层或从存储介质层读取信息的读写头。
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公开(公告)号：CN101377930A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810213348.3
申请日：2008-08-27
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B7/228 , Y10T29/49025 , Y10T29/49043 , Y10T29/49044 , Y10T29/49046 , Y10T29/49048 , Y10T29/49052
Abstract: 本发明涉及用于制造存储介质的方法。根据实施方式的一个方面，一种用于制造存储介质的方法包括以下步骤：提供引导组件及用于形成存储介质的介质板组件；以及设置所述介质板组件及所述引导组件，使得所述介质板组件与所述引导组件彼此靠近，并且所述介质板组件的表面与所述引导组件的表面形成基本上公共的平面。该方法还包括以下步骤：将用于对所述介质板组件进行抛光的抛光组件引导到所述引导组件的表面上；以及将所述引导组件上的所述抛光组件滑动到所述介质板组件上，以对所述介质板组件的表面进行抛光。
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公开(公告)号：CN101121908A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200610109737.2
申请日：2006-08-09
Applicant: 富士通株式会社
IPC: C10M107/38 , G11B5/725 , G11B5/255
CPC classification number: G11B5/725 , C10M107/38 , C10M147/04 , C10M2213/04 , C10N2220/021 , C10N2230/56 , C10N2240/204 , C10N2250/141 , G11B5/255 , Y10T428/1164 , Y10T428/1179
Abstract: 本发明提供了一种润滑剂，在磁记录装置中，其被作磁记录介质的润滑剂层和/或滑动头的润滑剂层时，使润滑剂层的厚度很薄。即使是高分子量，也可以获得足够薄的单分子层膜厚度。在不降低飞行稳定性的情况下，在广的温度范围内提高了可靠性。该润滑剂包括含氟聚合物，润滑剂有如下关系：Y＜－1.4475X+2.815，其中Y是23℃时扩散系数的自然对数(单位：μm2/s)；X是20℃时的粘度(单位：Pas)，或它包含有特定结构的含氟聚合物，并且相邻的极性基团之间的分子链的数均分子量不小于500。
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公开(公告)号：CN1322490C
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200510052626.8
申请日：2005-03-07
Applicant: 富士通株式会社
Abstract: 提供一种几乎没有污染物粘着的磁头滑动器和一种配备有该磁头滑动器的磁记录装置，该磁头滑动器能够形成均匀平坦的磁头润滑层表面，并具有优异的超低浮动性。该磁头滑动器配备有磁头滑动器润滑层，该磁头滑动器润滑层具有小于等于2.5nm的平均膜厚度，并且由防水树脂构成，该润滑层形成于面向该磁记录介质的磁头滑动器表面和磁头滑动器保护层表面上，使用Fowkes公式所确定的磁头滑动器润滑层的表面张力小于等于该磁头滑动器表面和磁头滑动器保护层表面的表面张力。
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公开(公告)号：CN1702739A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510052626.8
申请日：2005-03-07
Applicant: 富士通株式会社
Abstract: 提供一种几乎没有污染物粘着的磁头滑动器和一种配备有该磁头滑动器的磁记录装置，该磁头滑动器能够形成均匀平坦的磁头润滑层表面，并具有优异的超低浮动性。该磁头滑动器配备有磁头滑动器润滑层，该磁头滑动器润滑层具有小于等于2.5nm的平均膜厚度，并且由防水树脂构成，该润滑层形成于面向该磁记录介质的磁头滑动器表面和磁头滑动器保护层表面上，使用Fowkes公式所确定的磁头滑动器润滑层的表面张力小于等于该磁头滑动器表面和磁头滑动器保护层表面的表面张力。
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