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公开(公告)号：CN1532577A
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN200410031791.0
申请日：2004-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 高田伦久
IPC: G02B26/08
CPC classification number: G03B27/54 , G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70291
Abstract: 本发明提供一种能将空间光调制元件的像，准确地投影到成像面上的曝光装置。配置4分割探测器(26)，使存在于曝光区中1个角的4个像素(481)、(482)、(483)、(484)(曝光图像的像素)，分别与4分割探测器(26)的4个二极管(261)、(262)、(263)、(264)相对应。DMD(10)与微透镜阵列(18)之间存在相对位置偏移时，4分割探测器(26)的输出信号(P1)、(P2)、(P3)、(P4)会产生差异，所以可检测出由DMD(10)的微型镜(像素部分)反射的光束与对应微透镜之间的偏移(光束位置的偏移)。根据检测的偏移量，进行调整微透镜阵列(18)的位置，从而消除了位置偏移。
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公开(公告)号：CN101300528A
公开(公告)日：2008-11-05
申请号：CN200680041182.0
申请日：2006-09-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 将安置有光敏层的带－样工件(11)以工件输送速度V在工件输送方向F上输送。照射部(30)与工件输送速度V相同步的曝光周期T照射光掩模(29)。在距离带－样工件(11)的贴近间隙处布置光掩模(29)。在带－样工件(11)上曝光在光掩模(29)上的掩模图案(33)，以在上面形成周期图案。
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公开(公告)号：CN1573414A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410048578.0
申请日：2004-06-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 高田伦久
CPC classification number: G03F7/70466 , G03F7/70291 , H04N1/1903 , H04N1/195 , H04N1/19584 , H04N2201/0414
Abstract: 提供像素位置特定方法，图像偏移修正方法，以及图像形成装置。第1曝光头连接点附近的第1连接像素打开，沿Y轴方向移动光束位置检测机构，在受光面上检测XY坐标中的第1曝光光束位置，将第2曝光头连接点附近的第2连接像素打开，沿Y轴方向移动上述光束位置检测机构，检测上述受光面上的曝光光束的XY坐标位置，由上述光束位置检测机构在Y轴方向上的移动量，和在上述受光面上的第1曝光头和上述第2曝光头曝光光束位置，特定上述第1和第2特定像素的位置。在多头曝光装置中减小由各曝光头形成的图像之间的偏移。
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公开(公告)号：CN1550875A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410043359.3
申请日：2004-05-08
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03B27/54 , G03F7/70258 , G03F7/70308
Abstract: 在感光材料(150)和像一侧远心的第二成像光学系统(52)之间，配置具有调节通过第二成像光学系统(52)在感光材料(151)上成像的像的焦点的楔形棱镜对(540)的空气间隔调节部(54)。用DMD80将从光源部件(60)发出，通过DMD照射光学系统(70)传播的光进行空间光调制，形成光的2维图案，使空间光调制的2维图案通过光学系统(50)和所述空气间隔调节部(54)，在感光材料(150)上成像，将该2维图案投影到感光材料(150)上，进行曝光。在投影曝光装置中，更容易并且以更短时间进行将空间调制的2维图案投影到感光材料上时的对焦。
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公开(公告)号：CN106457822B
公开(公告)日：2018-02-27
申请号：CN201580028423.7
申请日：2015-05-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 高田伦久
IPC: B41J2/01 , B41J2/447 , B41J2/45 , B41J25/304
CPC classification number: B41J25/001 , B41J2/01 , B41J2/155 , B41J2/2146 , B41J2/447 , B41J2/45 , B41J25/003 , B41J25/304 , B41J2002/14491 , B41J2202/19 , B41J2202/20
Abstract: 本发明提供一种记录头、记录头调整系统以及记录头调整方法，其能够使用简单的结构高精度地调整记录头在与记录面平行的面内的旋转方向的角度偏离。记录头具备：具有记录面(202)的头模块(210)；支承头模块的支承部件(212)；调整头模块的第1方向的位置的第1方向位置调整部；调整旋转方向的角度偏离的旋转方向调整部(300)；以及在通过第1方向位置调整部、旋转方向调整部进行调整时使用，并检测头模块的第1方向的位置的位置检测部(350)，旋转方向调整部具备：将头模块在与记录面平行的面内支承为能够旋转的旋转支承机构(302)；以及使头模块的调整位置向与第1方向正交的第2方向移动的第2方向移动机构(304)。
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公开(公告)号：CN106457822A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580028423.7
申请日：2015-05-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 高田伦久
IPC: B41J2/01 , B41J2/447 , B41J2/45 , B41J25/304
CPC classification number: B41J25/001 , B41J2/01 , B41J2/155 , B41J2/2146 , B41J2/447 , B41J2/45 , B41J25/003 , B41J25/304 , B41J2002/14491 , B41J2202/19 , B41J2202/20
Abstract: 本发明提供一种记录头、记录头调整系统以及记录头调整方法，其能够使用简单的结构高精度地调整记录头在与记录面平行的面内的旋转方向的角度偏离。记录头具备：具有记录面(202)的头模块(210)；支承头模块的支承部件(212)；调整头模块的第1方向的位置的第1方向位置调整部；调整旋转方向的角度偏离的旋转方向调整部(300)；以及在通过第1方向位置调整部、旋转方向调整部进行调整时使用，并检测头模块的第1方向的位置的位置检测部(350)，旋转方向调整部具备：将头模块在与记录面平行的面内支承为能够旋转的旋转支承机构(302)；以及使头模块的调整位置向与第1方向正交的第2方向移动的第2方向移动机构(304)。
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公开(公告)号：CN100342261C
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200410031791.0
申请日：2004-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 高田伦久
CPC classification number: G03B27/54 , G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70291
Abstract: 本发明提供一种能将空间光调制元件的像，准确地投影到成像面上的曝光装置。配置4分割探测器(26)，使存在于曝光区中1个角的4个像素(481)、(482)、(483)、(484)(曝光图像的像素)，分别与4分割探测器(26)的4个二极管(261)、(262)、(263)、(264)相对应。DMD(10)与微透镜阵列(18)之间存在相对位置偏移时，4分割探测器(26)的输出信号(P1)、(P2)、(P3)、(P4)会产生差异，所以可检测出由DMD(10)的微型镜(像素部分)反射的光束与对应微透镜之间的偏移(光束位置的偏移)。根据检测的偏移量，进行调整微透镜阵列(18)的位置，从而消除了位置偏移。
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