公开(公告)号：CN101300528A

公开(公告)日：2008-11-05

申请号：CN200680041182.0

申请日：2006-09-05

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 味野敏 ,  藤井武 ,  高田伦久

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/12

Abstract: 将安置有光敏层的带－样工件(11)以工件输送速度V在工件输送方向F上输送。照射部(30)与工件输送速度V相同步的曝光周期T照射光掩模(29)。在距离带－样工件(11)的贴近间隙处布置光掩模(29)。在带－样工件(11)上曝光在光掩模(29)上的掩模图案(33)，以在上面形成周期图案。

公开(公告)号：CN101300528B

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN200680041182.0

申请日：2006-09-05

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 味野敏 ,  藤井武 ,  高田伦久

IPC: G03F7/20

Abstract: 将安置有光敏层的带-样工件(11)以工件输送速度V在工件输送方向F上输送。照射部(30)与工件输送速度V相同步的曝光周期T照射光掩模(29)。在距离带-样工件(11)的贴近间隙处布置光掩模(29)。在带-样工件(11)上曝光在光掩模(29)上的掩模图案(33)，以在上面形成周期图案。