投影曝光装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1550875A

    公开(公告)日:2004-12-01

    申请号:CN200410043359.3

    申请日:2004-05-08

    CPC classification number: G03B27/54 G03F7/70258 G03F7/70308

    Abstract: 在感光材料(150)和像一侧远心的第二成像光学系统(52)之间,配置具有调节通过第二成像光学系统(52)在感光材料(151)上成像的像的焦点的楔形棱镜对(540)的空气间隔调节部(54)。用DMD80将从光源部件(60)发出,通过DMD照射光学系统(70)传播的光进行空间光调制,形成光的2维图案,使空间光调制的2维图案通过光学系统(50)和所述空气间隔调节部(54),在感光材料(150)上成像,将该2维图案投影到感光材料(150)上,进行曝光。在投影曝光装置中,更容易并且以更短时间进行将空间调制的2维图案投影到感光材料上时的对焦。

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