-
公开(公告)号：CN101267929B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN200680034657.3
申请日：2006-09-20
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 殿原浩二
CPC classification number: B29C41/28 , B29C55/143 , B29K2001/00 , B29K2001/12
Abstract: 将由CAP、添加剂和溶剂制备的流延涂料(27)流延到传动带(46)上，并且剥离作为湿膜(74)，所述湿膜(74)在传送区(80)中在纵向上被拉伸。在拉幅机装置(47)中，在将所述湿膜(74)在横向上拉伸的同时，进行所述湿膜(74)在纵向上的松弛。如果拉伸的程度百分比小于70％，则开始松弛。将所述湿膜(74)从所述拉幅机装置(47)中供给出来作为聚合物膜(82)。在所述聚合物膜(82)上，面内延迟增加而厚度延迟降低。因此，光学性能变得是优选的。
-
公开(公告)号：CN102021539A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN201010282775.4
申请日：2010-09-10
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C23C16/50 , C23C16/44 , C23C16/503 , C23C16/505 , C23C16/509 , C23C16/517 , C23C16/54 , C23C16/545
Abstract: 本发明公开了一种膜沉积方法，所述膜沉积方法在卷筒的周边表面周围的至少一个膜沉积室中将膜沉积在在圆筒形卷筒的周边表面上移动的条带形基板的表面上。所述方法包括下述步骤：预先在一个膜沉积室与包括缠绕空间的室之间设置差压室，所述缠绕空间包括基板开始在卷筒上移动的第一位置和基板与卷筒分离的第二位置中的至少一个，差压室与包括缠绕空间的室和至少一个膜沉积室连通；将缠绕空间的第一压力设置为低于至少一个膜沉积室的第二压力；以及利用供给至卷筒的电力，在至少一个膜沉积室中执行膜沉积。
-
公开(公告)号：CN101267929A
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200680034657.3
申请日：2006-09-20
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 殿原浩二
CPC classification number: B29C41/28 , B29C55/143 , B29K2001/00 , B29K2001/12
Abstract: 将由CAP、添加剂和溶剂制备的流延涂料(27)流延到传动带(46)上，并且剥离作为湿膜(74)，所述湿膜(74)在传送区(80)中在纵向上被拉伸。在拉幅机装置(47)中，在将所述湿膜(74)在横向上拉伸的同时，进行所述湿膜(74)在纵向上的松弛。如果拉伸的程度百分比小于70％，则开始松弛。将所述湿膜(74)从所述拉幅机装置(47)中供给出来作为聚合物膜(82)。在所述聚合物膜(82)上，面内延迟增加而厚度延迟降低。因此，光学性能变得是优选的。
-
公开(公告)号：CN114144903B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202080051569.4
申请日：2020-08-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种电极用成型体的制造方法，其包括使吐出包含电极活性物质的电极材料的吐出口与第1支承体沿上述第1支承体的面方向相对移动，同时从上述吐出口朝向上述第1支承体的表面FA吐出上述电极材料的工序，上述工序使用具有与上述电极材料接触的接触面FB的接触部件，当将上述接触部件的上述接触面FB与上述电极材料的壁面摩擦角设为θ1，将上述第1支承体的上述表面FA与上述电极材料的壁面摩擦角设为θ2时，满足(1)1°≤θ1＜15°及(2)15°≤θ2的关系。
-
公开(公告)号：CN114365304B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202080057697.X
申请日：2020-07-31
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种电极用成型体的制造方法，其包括：准备包含电极活性物质的电极材料(10)的工序；对支承体(20)上供给上述电极材料(10)的工序；及通过在与上述电极材料(10)接触的第1辊(40)和与上述支承体(20)接触的第2辊(50)之间夹持上述支承体(20)及上述电极材料(10)，对上述支承体(20)上的上述电极材料(10)进行加压的工序，上述第1辊(40)的温度T1及上述第2辊(50)的温度T2满足T1＞T2的关系。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114144903A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202080051569.4
申请日：2020-08-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种电极用成型体的制造方法，其包括使吐出包含电极活性物质的电极材料的吐出口与第1支承体沿上述第1支承体的面方向相对移动，同时从上述吐出口朝向上述第1支承体的表面FA吐出上述电极材料的工序，上述工序使用具有与上述电极材料接触的接触面FB的接触部件，当将上述接触部件的上述接触面FB与上述电极材料的壁面摩擦角设为θ1，将上述第1支承体的上述表面FA与上述电极材料的壁面摩擦角设为θ2时，满足(1)1°≤θ1＜15°及(2)15°≤θ2的关系。
-
公开(公告)号：CN102383107B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201110254713.7
申请日：2011-08-31
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C23C16/44
CPC classification number: C23C16/509 , C23C16/345 , C23C16/545
Abstract: 本发明公开一种薄膜沉积装置，包括：在输送方向上输送基材的带的输送机、设置为面对基材的薄膜沉积电极、设置在薄膜沉积电极的相对侧处的对电极、薄膜沉积气体的气体供应装置和沿所述基材的平面方向设置为围绕薄膜沉积电极的接地屏蔽。薄膜沉积电极沿输送方向的上游端部比接地屏蔽沿所述基材的输送方向对应于薄膜沉积电极的上游端部的上游端部更靠近基材。
-
公开(公告)号：CN114008817B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202080043929.6
申请日：2020-06-26
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种电极用成型体的制造方法，其依次包括：准备包含电极活性物质的电极材料的工序；对具有划定容纳上述电极材料的空间部的框状侧壁部且在成型模具的底面上配置有第1支承体的成型模具供给上述电极材料的工序；沿上述成型模具的内部形状成型上述电极材料的工序；及从上述成型模具取出上述电极材料的工序。
-
公开(公告)号：CN102021539B
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201010282775.4
申请日：2010-09-10
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C23C16/50 , C23C16/44 , C23C16/503 , C23C16/505 , C23C16/509 , C23C16/517 , C23C16/54 , C23C16/545
Abstract: 本发明公开了一种膜沉积方法，所述膜沉积方法在卷筒的周边表面周围的至少一个膜沉积室中将膜沉积在在圆筒形卷筒的周边表面上移动的条带形基板的表面上。所述方法包括下述步骤：预先在一个膜沉积室与包括缠绕空间的室之间设置差压室，所述缠绕空间包括基板开始在卷筒上移动的第一位置和基板与卷筒分离的第二位置中的至少一个，差压室与包括缠绕空间的室和至少一个膜沉积室连通；将缠绕空间的第一压力设置为低于至少一个膜沉积室的第二压力；以及利用供给至卷筒的电力，在至少一个膜沉积室中执行膜沉积。
-
公开(公告)号：CN102383107A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN201110254713.7
申请日：2011-08-31
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C23C16/44
CPC classification number: C23C16/509 , C23C16/345 , C23C16/545
Abstract: 本发明公开一种薄膜沉积装置，包括：在输送方向上输送基材的带的输送机、设置为面对基材的薄膜沉积电极、设置在薄膜沉积电极的相对侧处的对电极、薄膜沉积气体的气体供应装置和沿所述基材的平面方向设置为围绕薄膜沉积电极的接地屏蔽。薄膜沉积电极沿输送方向的上游端部比接地屏蔽沿所述基材的输送方向对应于薄膜沉积电极的上游端部的上游端部更靠近基材。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
27
records
(took 0.046 seconds)
