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公开(公告)号:CN110692018B
公开(公告)日:2023-11-03
申请号:CN201880035123.5
申请日:2018-05-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/027 , C08F283/04 , C08F2/50 , C08G73/06 , G03F7/004 , G03F7/037 , G03F7/20 , G03F7/32 , C08F20/00 , C08F2/44
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物、以及聚合物前体、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件,所述感光性树脂组合物在成型为固化膜时具有高断裂伸长率,并且保存稳定性优异。所述感光性树脂组合物,其包含选自聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑前体中的聚合物前体、光自由基聚合引发剂及溶剂,聚合物前体中所含有的中和点的pH在7.0~12.0的范围的酸基的酸值在2.5~34.0mgKOH/g的范围,聚合物前体具有自由基聚合性基,或者所述感光性树脂组合物包含除了聚合物前体以外的自由基聚合性化合物。
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公开(公告)号:CN108136756B
公开(公告)日:2019-08-23
申请号:CN201780003330.8
申请日:2017-02-23
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供树脂层与树脂层的密合性优异的层叠体、以及层叠体的制造方法、半导体器件、以及半导体器件的制造方法。本发明的层叠体具有基板和至少2层树脂层,所述树脂层各自独立地在膜面的至少一部分与其他的树脂层接触,各自独立地杨氏弹性模量大于2.8GPa且为5.0GPa以下,并且断裂伸长率大于50%且为200%以下,此外,具有三维自由基交联结构,所述树脂层中的至少1层包含聚酰亚胺及聚苯并噁唑的至少1种。
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公开(公告)号:CN108137803A
公开(公告)日:2018-06-08
申请号:CN201680056589.4
申请日:2016-12-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08G73/10 , H01L21/312 , C08F290/14 , C08F299/02 , C08G73/22 , G03F7/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种制成固化膜时的翘曲小、膜均匀性优异、且能够形成浮渣(残渣)少的固化膜(图案)的树脂、以及使用了上述树脂的组合物、固化膜、固化膜的制造方法和半导体器件。一种树脂,其选自聚酰亚胺前体、聚酰亚胺、聚苯并噁唑前体和聚苯并噁唑,上述树脂具有聚合性基团,分子量1000以下的成分的总量为0.005~1.0质量%。
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公开(公告)号:CN103608728A
公开(公告)日:2014-02-26
申请号:CN201280028773.X
申请日:2012-06-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F8/00 , C08F212/14 , C08F220/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/004 , C08F8/00 , C08F12/26 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F257/00 , C09D125/18 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F1/56 , G03F1/78 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2004 , G03F7/2039 , C08F12/24 , C08F212/32
Abstract: 根据一个实施方案,一种光化射线或辐射敏感树脂组合物包含化合物(P),所述化合物(P)含有至少一个酚羟基以及至少一个具有其氢原子被下面通式(1)的基团中的任一个取代的酚羟基的基团。
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公开(公告)号:CN110741318B
公开(公告)日:2023-06-30
申请号:CN201880037130.9
申请日:2018-06-04
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种保存稳定性优异,且灵敏度高的感光性树脂组合物、以及使用了感光性树脂组合物的固化膜、层叠体、固化膜的制造方法、半导体装置。并且,提供一种用于形成感光性树脂组合物的新型化合物。一种感光性树脂组合物,其包含选自聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑前体的聚合物前体、具有硫原子的自由基聚合性化合物、光自由基聚合引发剂及溶剂。
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公开(公告)号:CN113166327A
公开(公告)日:2021-07-23
申请号:CN201980076001.5
申请日:2019-11-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08F220/28 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明的课题在于提供一种所形成的图案的截面形状的矩形性优异,并且在制备后随着时间的经过,所形成的图案的线宽尺寸也不易发生变动的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且,本发明的另一课题在于提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含:树脂,通过酸的作用分解而极性增大;化合物,通过光化射线或放射线的照射而产生酸;以及卤素系溶剂,所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中,相对于组合物的总质量,上述卤素系溶剂的含量为1质量ppb以上且50质量ppm以下。
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公开(公告)号:CN107709407A
公开(公告)日:2018-02-16
申请号:CN201680030632.X
申请日:2016-05-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08G73/10 , C08F290/14 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/027 , H01L21/312 , H01L23/29 , H01L23/31 , H01L25/065 , H01L25/07 , H01L25/18
Abstract: 本发明提供一种使用聚酰亚胺前体组合物的感光性树脂组合物、固化膜、固化膜的制造方法、半导体器件及聚酰亚胺前体组合物的制造方法。一种聚酰亚胺前体组合物,聚酰亚胺前体的结构异构体中由通式(1-2)所表示的重复单元的摩尔比率为60~90摩尔%;通式(1-2)中,A1及A2分别独立地表示氧原子或NH,R111及R112分别独立地表示单键或2价的有机基团,R113及R114分别独立地表示氢原子或1价的有机基团。
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公开(公告)号:CN111630454B
公开(公告)日:2023-07-14
申请号:CN201980009370.2
申请日:2019-01-23
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/027 , B32B15/088 , B32B27/34 , C08G73/10 , C08G73/22 , G03F7/037 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/312
Abstract: 一种感光性树脂组合物、树脂、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件,所述感光性树脂组合物包含选自聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑前体的聚合物前体及光活性化合物,聚合物前体具有在由来自于四羧酸、四羧酸衍生物、二羧酸及二羧酸衍生物的至少一种的结构单元以及来自于二胺的至少一种的结构单元构成的聚合物前体的侧链经由连接基团键合的磺酸基以及与聚合物前体的末端键合的磺酸基的组中的至少一种。
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公开(公告)号:CN110692018A
公开(公告)日:2020-01-14
申请号:CN201880035123.5
申请日:2018-05-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/027 , C08F283/04 , C08F2/50 , C08G73/06 , G03F7/004 , G03F7/037 , G03F7/20 , G03F7/32 , C08F20/00 , C08F2/44
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物、以及聚合物前体、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件,所述感光性树脂组合物在成型为固化膜时具有高断裂伸长率,并且保存稳定性优异。所述感光性树脂组合物,其包含选自聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑前体中的聚合物前体、光自由基聚合引发剂及溶剂,聚合物前体中所含有的中和点的pH在7.0~12.0的范围的酸基的酸值在2.5~34.0mgKOH/g的范围,聚合物前体具有自由基聚合性基,或者所述感光性树脂组合物包含除了聚合物前体以外的自由基聚合性化合物。
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公开(公告)号:CN103608728B
公开(公告)日:2017-07-25
申请号:CN201280028773.X
申请日:2012-06-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F8/00 , C08F212/14 , C08F220/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/004 , C08F8/00 , C08F12/26 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F257/00 , C09D125/18 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F1/56 , G03F1/78 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2004 , G03F7/2039 , C08F12/24 , C08F212/32
Abstract: 根据一个实施方案,一种光化射线或辐射敏感树脂组合物包含化合物(P),所述化合物(P)含有至少一个酚羟基以及至少一个具有其氢原子被下面通式(1)的基团中的任一个取代的酚羟基的基团。
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