公开(公告)号：CN116113884A

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN202180054236.1

申请日：2021-08-17

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 岛田和人 ,  佐藤直树 ,  野崎敦靖 ,  青岛俊荣 ,  二桥亘

IPC: G03F7/027

Abstract: 本发明提供一种即使在低温下固化的情况下，也可以得到断裂伸长率优异的固化物的固化物的制造方法、包含上述固化物的制造方法的层叠体的制造方法及包含上述固化物的制造方法或上述层叠体的制造方法的电子器件的制造方法。固化物的制造方法包括：膜形成工序，将特定的感光性树脂组合物适用于基材上而形成膜；曝光工序；显影工序，基于包含选自碱及产碱剂中的至少一种的化合物的显影液进行；以及加热工序，水的含量相对于上述显影液的总质量为50质量％以下。

公开(公告)号：CN114450098B

公开(公告)日：2023-05-02

申请号：CN202080066670.7

申请日：2020-09-24

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 山下广祐 ,  室祐继 ,  斋江俊之 ,  佐藤直树 ,  岛田和人

IPC: B05D5/00 ,  B05D5/12 ,  B05D7/24 ,  B05D1/00 ,  C09D201/00 ,  C09D5/25 ,  H01L23/373

Abstract: 一种导热层的制造方法、应用了该导热层的制造方法的层叠体的制造方法及半导体器件的制造方法，该导热层的制造方法是使用包含树脂、填料及溶剂且固体成分浓度小于90质量％的导热层形成用组合物来在支承体上制造热扩散系数为3.0×10‑7m2s‑1以上的导热层的制造方法，该导热层的制造方法包括：向支承体喷出导热层形成用组合物的喷出工序；及以在支承体上的每一个位置，从喷出导热层形成用组合物至导热层形成用组合物中的固体成分浓度在支承体上达到90质量％为止的第1溶剂减量时间成为10秒以上的方式，对导热层形成用组合物中的溶剂进行减量的溶剂减量工序。

公开(公告)号：CN114450098A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202080066670.7

申请日：2020-09-24

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 山下广祐 ,  室祐继 ,  斋江俊之 ,  佐藤直树 ,  岛田和人

IPC: B05D5/00 ,  B05D5/12 ,  B05D7/24 ,  B05D1/00 ,  C09D201/00 ,  C09D5/25 ,  H01L23/373

Abstract: 一种导热层的制造方法、应用了该导热层的制造方法的层叠体的制造方法及半导体器件的制造方法，该导热层的制造方法是使用包含树脂、填料及溶剂且固体成分浓度小于90质量％的导热层形成用组合物来在支承体上制造热扩散系数为3.0×10‑7m2s‑1以上的导热层的制造方法，该导热层的制造方法包括：向支承体喷出导热层形成用组合物的喷出工序；及以在支承体上的每一个位置，从喷出导热层形成用组合物至导热层形成用组合物中的固体成分浓度在支承体上达到90质量％为止的第1溶剂减量时间成为10秒以上的方式，对导热层形成用组合物中的溶剂进行减量的溶剂减量工序。

公开(公告)号：CN116075777A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202180054914.4

申请日：2021-08-24

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 岛田和人 ,  佐藤直树 ,  野崎敦靖 ,  青岛俊荣 ,  二桥亘 ,  崎田享平 ,  高岛美沙树

IPC: G03F7/027

Abstract: 本发明提供一种即使在低温下进行固化的情况下也可以获得断裂伸长率优异的固化物的固化物的制造方法、包括上述固化物的制造方法的层叠体的制造方法及包括上述固化物的制造方法或上述层叠体的制造方法的半导体器件的制造方法。固化物的制造方法、包括上述固化物的制造方法的层叠体的制造方法及包括上述固化物的制造方法或上述层叠体的制造方法的半导体器件的制造方法包括：膜形成工序，将特定的感光性树脂组合物适用于基材上而形成膜；曝光工序；显影工序；处理工序，使包含选自碱及产碱剂中的至少1种化合物的含碱处理液与上述图案接触；以及加热工序，上述含碱处理液中的水的含量为50质量％以下。

公开(公告)号：CN114730145A

公开(公告)日：2022-07-08

申请号：CN202080080358.3

申请日：2020-11-18

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 井上和臣 ,  岛田和人 ,  榎本雄一郎 ,  佐藤直树

IPC: G03F7/40

Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、上述图案形成方法中所使用的光固化性树脂组合物、包括上述图案形成方法的层叠体的制造方法及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法或光固化性树脂组合物，所述图案形成方法包括：第1曝光工序，曝光由光固化性树脂组合物形成的光固化性膜的一部分；显影工序，通过显影液对上述曝光后的上述光固化性膜进行显影来获得显影图案；及第2曝光工序，曝光上述显影图案来获得图案，上述光固化性树脂组合物为特定组成。

公开(公告)号：CN116635453A

公开(公告)日：2023-08-22

申请号：CN202280008338.4

申请日：2022-07-29

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 野崎敦靖 ,  高岛美沙树 ,  佐藤直树 ,  中村敦

IPC: C08G73/10

Abstract: 本发明提供一种可以获得断裂伸长率优异的固化物的固化物的制造方法、包括上述固化物的制造方法的层叠体的制造方法及包括上述固化物的制造方法或上述层叠体的制造方法的半导体器件的制造方法，并且提供一种在上述固化物的制造方法中所使用的处理液。固化物的制造方法包括：膜形成工序，将包含环化树脂的前体的树脂组合物适用于基材上而形成膜；处理工序，使处理液与上述膜接触；及加热工序，在上述处理工序之后对上述膜进行加热，上述处理液包含选自具有酰胺基的碱性化合物及具有酰胺基的碱产生剂中的至少1种化合物。

公开(公告)号：CN116234845A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202180064487.8

申请日：2021-08-31

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 高岛美沙树 ,  岛田和人 ,  野崎敦靖 ,  佐藤直树

IPC: C08F290/14

Abstract: 本发明提供一种即使在低温下进行固化的情况下也可以获得断裂伸长率及耐化学性优异的固化物的固化物的制造方法、包括上述固化物的制造方法的层叠体的制造方法及包括上述固化物的制造方法或上述层叠体的制造方法的半导体器件的制造方法。固化物的制造方法包括：膜形成工序，将特定的感光性树脂组合物适用于基材上而形成膜；曝光工序，选择性地曝光膜；显影工序，通过显影液对曝光后的膜进行显影而形成图案；处理工序，使处理液与上述图案接触；以及加热工序，对上述处理工序后的图案进行加热，上述显影液及上述处理液中的至少一者包含选自碱及碱产生剂中的至少1种化合物。