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公开(公告)号:CN103843113A
公开(公告)日:2014-06-04
申请号:CN201280048225.3
申请日:2012-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/027 , C08F2/48
CPC classification number: C09D133/22 , B29C59/026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F2/48 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F222/1006 , C09D133/08 , G03F7/0002
Abstract: [目标]为了在纳米压印方法中能够抑制模型由粘合物质的污染和形成具有足够的耐刻蚀性的抗蚀剂图案。[构造]纳米压印方法采用抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物包含可聚合化合物和聚合引发剂,其各自具有吸收区域在250nm至500nm的范围内的吸收光谱性质。所述聚合引发剂的吸收区域的较长波长端波长(λi)比所述可聚合化合物的吸收区域的较长波长端波长(λm)长。所述抗蚀剂组合物的曝光通过具有满足预定关系式的光谱强度性质的光进行。
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公开(公告)号:CN106003689A
公开(公告)日:2016-10-12
申请号:CN201610186644.3
申请日:2016-03-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种形状赋予辊以及装置、薄膜制造方法,容易且高效地制造形成有期望的形状的棱镜的光学薄膜。通过从行进的传送带(46)剥离流延膜(50)来形成湿润薄膜(43)。在形状赋予辊(68)的周面上,形成有多个凹部与凸部。通过由形状赋予辊(68)按压溶剂含有率为50~350%的湿润薄膜(43),来顺次形成棱镜。通过干燥湿润薄膜(43)得到光学薄膜(32)。若设形状赋予辊(68)的凸部的高度为HR、设光学薄膜(32)的棱镜的高度为HW、设按压中的湿润薄膜(43)的溶剂含有率为CS%,则形状赋予辊(68)满足0.9×HW×{(CS/100)+1}≤HR≤1.1×HW×{(CS/100)+1}。
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公开(公告)号:CN103843113B
公开(公告)日:2016-08-17
申请号:CN201280048225.3
申请日:2012-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/027 , C08F2/48
CPC classification number: C09D133/22 , B29C59/026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F2/48 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F222/1006 , C09D133/08 , G03F7/0002
Abstract: 纳米压印方法采用抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物包含可聚合化合物和聚合引发剂,其各自具有吸收区域在250nm至500nm的范围内的吸收光谱性质。所述聚合引发剂的吸收区域的较长波长端波长比所述可聚合化合物的吸收区域的较长波长端波长长。此外,所述抗蚀剂组合物的曝光通过具有满足预定关系式的光谱强度性质的光进行。本发明能够抑制模型由粘合物质的污染,并且能够形成具有足够的耐刻蚀性的抗蚀剂图案。
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公开(公告)号:CN115427216A
公开(公告)日:2022-12-02
申请号:CN202180030403.9
申请日:2021-04-02
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够更抑制聚酯膜的表面上的线状缺陷的形成的聚酯膜的制造方法。并且,本发明的课题在于提供一种聚酯膜。本发明的聚酯膜的制造方法具有使经单轴拉伸的聚酯膜与冷却辊接触而进行冷却的冷却工序,冷却辊的表面的算术平均粗糙度Ra为0.05μm以下。
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