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公开(公告)号:CN115943032A
公开(公告)日:2023-04-07
申请号:CN202180044770.4
申请日:2021-06-21
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够进一步抑制设置于聚酯膜的表面上的功能层的厚度不均的聚酯膜的制造方法以及能够进一步抑制设置于表面上的功能层的厚度不均的聚酯膜及层叠膜。本发明的聚酯膜的制造方法具有:挤出成型工序,以膜状挤出含有聚酯的熔融树脂来形成未拉伸聚酯膜;纵向拉伸工序,沿传送方向拉伸未拉伸聚酯膜;横向拉伸工序,沿宽度方向拉伸单轴取向聚酯膜;热定型工序,加热双轴取向聚酯膜使其热定型;热松弛工序,在比热定型工序低的温度下加热被热定型的聚酯膜来使其热松弛;冷却工序,冷却被热松弛的聚酯膜;扩张工序,在冷却工序中沿宽度方向扩张被热松弛的聚酯膜;及含粒子层形成工序,在聚酯基材的至少一个表面设置含有粒子的含粒子层,冷却工序中的聚酯膜的冷却速度V为2200~3500℃/分钟,并且满足特定的下述条件1。
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公开(公告)号:CN116137835B
公开(公告)日:2024-12-13
申请号:CN202180060001.3
申请日:2021-07-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08J7/04 , C08J5/18 , C08L67/02 , C09D123/26 , C09D133/04 , C09D7/61 , C09D7/63 , B32B27/36 , B32B27/00 , B29C55/12
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够抑制在剥离层表面上的转印痕迹的形成且传送性及剥离层的涂布性优异的剥离膜制造用的聚酯膜。并且,本发明的课题还在于提供一种剥离膜及聚酯膜的制造方法。本发明的聚酯膜为剥离膜制造用聚酯膜,其具备:实质上不含粒子的聚酯基材;及配置于聚酯基材的一个表面上的含有粒子的涂布层,且具有第1主表面及第2主表面,在第1主表面上形成剥离层以用于制造剥离膜,所述聚酯膜中,第2主表面为涂布层的与聚酯基材侧相反的一侧的表面,第2主表面的最大突起高度Sp为1nm以上且小于60nm,第2主表面的表面自由能为25~60mJ/m2。
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公开(公告)号:CN116457880A
公开(公告)日:2023-07-18
申请号:CN202180073635.2
申请日:2021-10-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G11B5/706
Abstract: 本发明提供一种具有非磁性支撑体和含有强磁性粉末的磁性层,在通过小角度X射线散射测定而得的上述非磁性支撑体的小角度X射线散射光谱中,在q值为的区域内,散射强度变化率的极大值下的q值qmax处的散射强度Imax与散射强度变化率的极小值下的q值qmin处的散射强度Imin之比I max/Imin为2.7以上,qmin<qmax,并且上述非磁性支撑体的玻璃化转变温度Tg为140℃以上的磁带、包括上述磁带的磁带盒及磁记录再现装置。
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公开(公告)号:CN116137835A
公开(公告)日:2023-05-19
申请号:CN202180060001.3
申请日:2021-07-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B29C55/12
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够抑制在剥离层表面上的转印痕迹的形成且传送性及剥离层的涂布性优异的剥离膜制造用的聚酯膜。并且,本发明的课题还在于提供一种剥离膜及聚酯膜的制造方法。本发明的聚酯膜为剥离膜制造用聚酯膜,其具备:实质上不含粒子的聚酯基材;及配置于聚酯基材的一个表面上的含有粒子的涂布层,且具有第1主表面及第2主表面,在第1主表面上形成剥离层以用于制造剥离膜,所述聚酯膜中,第2主表面为涂布层的与聚酯基材侧相反的一侧的表面,第2主表面的最大突起高度Sp为1nm以上且小于60nm,第2主表面的表面自由能为25~60mJ/m2。
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公开(公告)号:CN118354888A
公开(公告)日:2024-07-16
申请号:CN202380014942.2
申请日:2023-01-17
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在与感光性树脂层等组合而用作干膜抗蚀剂时能够抑制光学故障的聚酯膜的制造方法及聚酯膜。并且,本发明的课题在于提供一种干膜抗蚀剂及剥离膜。本发明的聚酯膜的制造方法包括:工序1,在钛化合物的存在下连续地进行聚酯树脂前体的聚合,并在通过电感耦合等离子体质谱法对包含所制造的聚酯树脂的产物进行测量而获得的锑的含量相对于上述产物降低至1.0质量ppm以下之后,获得聚酯树脂;工序2,用包含粉末状烧结体的滤材及包含过滤精度为3μm以下的纤维状烧结体的滤材,对上述聚酯树脂的熔融物进行过滤;及工序3,使用经过滤的上述熔融物制造聚酯膜。
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公开(公告)号:CN115427216A
公开(公告)日:2022-12-02
申请号:CN202180030403.9
申请日:2021-04-02
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够更抑制聚酯膜的表面上的线状缺陷的形成的聚酯膜的制造方法。并且,本发明的课题在于提供一种聚酯膜。本发明的聚酯膜的制造方法具有使经单轴拉伸的聚酯膜与冷却辊接触而进行冷却的冷却工序,冷却辊的表面的算术平均粗糙度Ra为0.05μm以下。
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公开(公告)号:CN113811566A
公开(公告)日:2021-12-17
申请号:CN202080034703.X
申请日:2020-05-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08J5/18 , C08J7/04 , C08J7/00 , C09D133/02 , C09D175/04 , C09D167/00 , C09D7/61 , C09D7/65 , B29C55/14 , B29C71/02 , C08L67/02
Abstract: 本发明提供一种双轴取向聚酯膜,其中,相对于30℃下的宽度方向的尺寸,90℃及120℃下的宽度方向的膨胀率分别为0%~0.15%。
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