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公开(公告)号：CN119773368B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202510273554.7
申请日：2025-03-10
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/01 , B41J2/045 , B41J29/393 , G06T7/70
Abstract: 本申请公开了一种墨滴观测方法、装置、设备及计算机可读存储介质，本申请涉及喷墨打印技术领域，该方法应用于墨滴观测系统，墨滴观测系统包括多个观测子系统，观测子系统包括观测装置和多轴运动机构，多轴运动机构用于带动观测装置移动，观测装置用于对挂载在运动轴上的待观测喷头进行墨滴观测。该方法包括：控制挂载有各待观测喷头的运动轴移动至预设观测位置；确定各待观测喷头中各观测子系统各自对应的第一喷头，控制各多轴运动机构调整各观测装置的位置，以供各观测装置分别对焦各第一喷头；通过各观测装置分别对各自对焦的第一喷头进行墨滴观测。本申请能够提升墨滴观测效率。
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公开(公告)号：CN118915829B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202411390261.9
申请日：2024-10-08
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种气流均匀化方法、装置、设备、存储介质和程序产品，涉及真空腔体应用的技术领域，包括：通过在目标腔体内设置一格栅阵列，使用格栅阵列在不同开度下的压强分布，表征在格栅阵列处的气流均匀或湍流，以此进一步通过调整格栅阵列的开度，使得格栅阵列处的气流均匀化。相较于常规手段，本申请的气流均匀化方法无需改进腔体表面质量，无需优化腔体内部结构，也无需使用蜂窝芯结构，仅需要增加一格栅阵列即可，效率高、成本低、效果显著，可适用于复杂的腔体内部结构和非线性抽真空过程。
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公开(公告)号：CN117309343A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311208194.X
申请日：2023-09-18
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种喷头筛选方法、装置、设备及介质，应用于喷墨打印的技术领域，由高倍CCD对玻璃基板上的墨滴进行拍照，根据墨滴图像进行墨滴图像处理，通过墨滴面积、相邻间距和位置间距实现喷嘴筛选以及喷头质量评估。在保证能够获取得到精确的测试数据的基础之上，通过在两个层面上的数据分析，能够弥补只在喷嘴层面上或者只在喷头层面上进行筛选而带来的评估误差，从而精确高效的评估墨滴质量，筛选出符合要求的喷头，进而最终在进行OLED器件打印时保证器件产品质量。
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公开(公告)号：CN115593115B
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211496380.3
申请日：2022-11-28
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明提出一种打印喷头排泡方法及装置、计算机可读存储介质，涉及OLED打印技术领域，打印喷头排泡方法包括定义喷嘴内的气泡状态；对气泡状态进行预处理，并获取与气泡状态对应的预设打印参数以及预设排泡参数；将预设打印参数、预设排泡参数及气泡状态一一映射并存储在数据库中；检测喷嘴的第一打印参数；根据第一打印参数以及预设打印参数确定气泡状态；根据气泡状态以及预设排泡参数确定喷嘴的排泡参数；控制喷嘴以排泡参数进行排泡。本发明技术方案定义气泡状态并预处理后生成数据库，在对喷嘴进行排泡时，则只需要检测喷嘴的第一打印参数，确定喷嘴的排泡参数，控制喷嘴按照排泡参数进行排泡。提高了排泡效率。
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公开(公告)号：CN115593111A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211496408.3
申请日：2022-11-28
Applicant: 季华实验室(CN)
IPC: B41J2/045
Abstract: 本发明公开了一种喷墨打印控制方法、设备及计算机可读存储介质，涉及喷墨打印技术领域。该方法包括以下步骤：根据各所述打印子像素槽所处的子像素区域，对所述喷头模组中喷孔进行分组，确定各所述打印子像素槽对应的喷孔组；根据各所述喷孔组的喷射参数信息，确定各所述喷孔组中的可用喷孔组与不可用喷孔组；根据各所述可用喷孔组与各所述不可用喷孔组，生成所述喷头模组的掩膜矩阵；对所述掩膜矩阵的移动步长进行遍历，确定所述喷头模组的全局移动路径，并控制所述喷头模组按照所述全局移动路径进行喷墨打印。本发明实现了一行及一行以上的喷头模组的移动路径规划，可有效提高喷墨打印的效率，并且还提高了喷墨打印控制方法的适用性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115420418A
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202211373240.7
申请日：2022-11-04
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种气压测量方法、装置、电子设备及可读存储介质，应用于测量技术领域，所述气压测量方法包括：获取至少一个气压传感器采集的气压数据，其中，各所述气压传感器部署在所述喷墨打印设备的至少两个气压测量位置区域处；通过对所述气压数据进行动态滤波处理，生成滤波气压数据；根据各所述滤波气压数据之间的观测距离，生成各所述气压传感器之间的支持度；根据各所述支持度，对所述滤波气压数据进行加权聚合，得到所述喷墨打印设备对应的目标气压数据。本申请解决了无法兼顾气压测量的测量准确性和测量效率的技术问题。
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公开(公告)号：CN119773368A
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202510273554.7
申请日：2025-03-10
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/01 , B41J2/045 , B41J29/393 , G06T7/70
Abstract: 本申请公开了一种墨滴观测方法、装置、设备及计算机可读存储介质，本申请涉及喷墨打印技术领域，该方法应用于墨滴观测系统，墨滴观测系统包括多个观测子系统，观测子系统包括观测装置和多轴运动机构，多轴运动机构用于带动观测装置移动，观测装置用于对挂载在运动轴上的待观测喷头进行墨滴观测。该方法包括：控制挂载有各待观测喷头的运动轴移动至预设观测位置；确定各待观测喷头中各观测子系统各自对应的第一喷头，控制各多轴运动机构调整各观测装置的位置，以供各观测装置分别对焦各第一喷头；通过各观测装置分别对各自对焦的第一喷头进行墨滴观测。本申请能够提升墨滴观测效率。
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公开(公告)号：CN115674912B
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202211320986.1
申请日：2022-10-26
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/21 , B41J29/393
Abstract: 本发明公开了一种喷墨补印路径规划方法、喷墨打印机及计算机可读存储介质，属于显示标记技术领域。所述方法包括步骤：确定所述喷墨打印机的目标喷头所在打印行的第一个缺陷子像素坐标；确定所述第一个缺陷子像素坐标与所述目标喷头中各个正常喷孔之间的拓扑几何关系以得到第一补打位移集合；基于所述第一个缺陷子像素坐标确定剩余缺陷子像素与各个所述正常喷孔之间的拓扑几何关系以得到剩余补打位移集合；确定所述第一补打位移集合和所述剩余补打位移集合之间的目标补打位移，并根据所述目标补打位移对所有缺陷子像素进行补充打印。通过将本发明，大幅降低了对喷墨补印规划的计算量，极大地提升了喷墨打印机的补印效率。
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公开(公告)号：CN115593111B
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211496408.3
申请日：2022-11-28
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/045
Abstract: 本发明公开了一种喷墨打印控制方法、设备及计算机可读存储介质，涉及喷墨打印技术领域。该方法包括以下步骤：根据各所述打印子像素槽所处的子像素区域，对所述喷头模组中喷孔进行分组，确定各所述打印子像素槽对应的喷孔组；根据各所述喷孔组的喷射参数信息，确定各所述喷孔组中的可用喷孔组与不可用喷孔组；根据各所述可用喷孔组与各所述不可用喷孔组，生成所述喷头模组的掩膜矩阵；对所述掩膜矩阵的移动步长进行遍历，确定所述喷头模组的全局移动路径，并控制所述喷头模组按照所述全局移动路径进行喷墨打印。本发明实现了一行及一行以上的喷头模组的移动路径规划，可有效提高喷墨打印的效率，并且还提高了喷墨打印控制方法的适用性。
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公开(公告)号：CN119810061A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411883154.X
申请日：2024-12-19
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及墨滴体积测量技术领域，具体涉及一种飞行墨滴体积测量方法、装置、设备及存储介质；通过对墨滴图像滤波后计算梯度，减少噪声干扰，提高边缘特征提取准确性，避免误判漏判；基于边缘特征划分区域，考虑墨滴实际情况，有效检测体积小、形状变化大及受光照等影响的墨滴；通过外接矩形算法等分割图像得到飞行墨滴区域，能应对墨滴形状和灰度问题；与深度学习法相比，无需大量标注数据，节省成本，计算简洁，适合实时场景，还避免黑箱问题。整体上提高了检测准确性、适应性和实时性，为工业生产提供可靠技术支持。
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