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公开(公告)号：CN115230028B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202210658318.3
申请日：2022-06-10
Applicant: 大连理工大学
IPC: B29C35/02
Abstract: 本发明公开了一种分段式分区控制薄膜中颗粒沉降程度的隧道炉，包括支架、传送带、隧道炉罩、多区域控温加热装置、颗粒沉降监测装置、段间隔离装置、控温加热装置、隔离箱和冷却箱；所述段间隔离装置将隧道炉罩内的区域分为两段，前段为分区实时控温段、用于控制颗粒沉降速度，后段为迅速固化段、用于保持沉降程度并迅速固化，从而实现颗粒沉降的有效控制。由于本发明设置的颗粒沉降监测装置，可实现根据监测到的各区域的颗粒沉降程度信息，使多区域温控加热装置实时调节各区域的加热温度，实现将整个薄膜平面上各区域的颗粒沉降程度控制在均匀水平。本发明通过控制固化温度进而控制颗粒沉降，提高了颗粒薄膜的性能以及后续工艺的匹配性。
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公开(公告)号：CN118045740A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202410388733.0
申请日：2024-04-01
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种刮刀涂布气氛调节装置，包括底部支撑结构、吸气结构、注气结构和顶部盖板结构；所述底部支撑结构为上开口的矩形箱体结构，矩形箱体内部安装刮涂机。由于本发明控制了注气口内侧边缘和基片之间的距离与注气气孔宽度的关系，避免了由于距离过近而导致工作台上的基片边缘流体流速过快，边缘膜厚均匀性不可控的问题，另外，也避免了距离过远而导致注入溶剂蒸气的效果较差，实现了对刮刀涂布制备薄膜膜厚均匀性的精准控制。本发明通过控制刮刀涂布腔室内的溶剂蒸气的浓度，以完成对基片各区域在同一时间干燥，实现对刮刀涂布制备薄膜的膜厚均匀性进行精确控制。
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公开(公告)号：CN118179863A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410388735.X
申请日：2024-04-01
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种制备曲面薄膜可拆卸式双轴旋涂设备，包括气氛控制模块、人造重力模块、旋涂模块、机架和操作模块。本发明采用双轴旋涂技术，一根转轴附属于人造重力模块，用于提供可改变大小的人造重力；另一根转轴附属于旋涂模块，用于将液体材料涂覆在基底表面，形成曲面薄膜。本发明可改变人造重力模块的伺服电机A转速，针对不同曲率的基底提供可以控制大小的人造重力，能够显著改善曲面旋涂存在的薄膜均匀性较差，边缘效应缺陷严重等问题。本发明的人造重力模块、气氛控制模块、旋涂模块三个模块相对独立，现有旋涂电机可以当作人造重力模块，在其顶部只需安装旋涂模块，在底部安装气氛控制模块即可完成改装，结构简单，改装成本低。
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公开(公告)号：CN117000514A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202310874597.1
申请日：2023-07-17
Applicant: 大连理工大学
IPC: B05C5/02
Abstract: 本发明公开了一种可气泡预处理的狭缝涂布槽模头，包括第一涂布模块、第二涂布模块、垫片、丝杆、轴承、唇口阻流块和排液接口；本发明对产品进行涂布时，通过后端的进料管将光学液态胶输入歧管后进入狭缝挤出。在这个过程中，通过透明的第一涂布模块观测内部气体，排液通道和唇口阻流块的共同控制使气体完全排出。这样，在涂布过程中，光学液态胶可以稳定、高效地完成涂布，既节约了涂布成本和停机时间，又提升生产效率和稳定性，达到更好的工艺适应性。本发明满足了在涂布开始阶段进行气泡预处理的需求，无需配置多个不同规格的狭缝式涂布模头，不需人工拆卸零件进行调节，大大提高涂布的效率，也避免了调节过程中光学液态胶的浪费。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115213056A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210657533.1
申请日：2022-06-10
Applicant: 大连理工大学
IPC: B05C5/02
Abstract: 本发明公开了一种涂布条数与宽度可控的狭缝涂布槽模头，包括第一涂布模块、第二涂布模块、唇口活动块和分液活动块。本发明对产品进行涂布时，通过后端的进料管将光学液态胶输入进第一涂布模块和第二涂布模块中间，通过歧管以及第一通道后进入第一涂布模块的蓄液槽中，当光学液态胶通过分液活动块进行分液操作后，在压力作用下，光学液态胶从第一涂布模块与唇口活动块形成的狭缝挤出。这样在涂布时，光学液态胶按照设置好的既定涂布条数及涂幅宽度均匀涂布，这样既节约了涂布成本，减少停机时间，提升生产效率与稳定性也增加了可生产产品种类，达到更好的工艺适应性。本发明不需人工拆卸零件进行调节，大大提高调节的效率。
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公开(公告)号：CN113426335B
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202110727855.4
申请日：2021-06-30
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种防止颗粒沉降的真空搅拌机，包括上层腔室、下层腔室与转轴；转轴贯穿上层腔室和下层腔室，上下两端分别固定在上层腔室的顶端和下层腔室的底端。本发明设置的伞状转子，并对伞状转子的直径、伞面角度以及阀门与伞状转子的相对位置进行了限制，通过伞状转子高速旋转产生的离心力作用，将从阀门滴下的混合液均匀甩至下层腔室的侧壁，使得混合液沿壁面均匀流下，增加了混合液流动时间，以便于真空脱泡的充分进行。本发明中多级斗状结构可以使沿壁面流下的混合液在斗面上铺展成膜状流动，增加了混合液与真空环境的接触面积，提高了真空脱泡的效率。本发明的横置搅拌子旋转轴线可以保证在出料前防止混合液体中颗粒因重力作用发生沉降。
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公开(公告)号：CN113457938B
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202110719652.0
申请日：2021-06-28
Applicant: 大连理工大学
IPC: B05C15/00
Abstract: 本发明公开了一种调节旋涂腔室气氛的同步罩结构，包括罩盖和罩底，所述罩盖包括进气接口、盖板、内支撑筒和外支撑筒，所述罩底包括仿形罩、底板和支撑筒。本发明中溶剂蒸汽经进气接口、盖板与仿形罩之间的横隔腔室、内支撑筒与与仿形罩之间的气体通道、底板上的通气孔带进入旋涂腔室，可以减小挥发非均匀性。此外，在旋涂结束后，可以通过进气接口和通气孔带将旋涂腔室中溶剂蒸汽抽出，降低了旋涂腔室尤其是基片边缘附近的溶剂蒸汽浓度，加速边缘区域的挥发以防止边缘回缩产生边缘效应。本发明限制了通气孔带的位置，通气孔带正对基片外缘，不直接作用在基片上，避免了溶剂蒸汽注入或抽出过程中气流对膜厚的影响。
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公开(公告)号：CN118242997A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410388734.5
申请日：2024-04-01
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于便携式光学膜厚仪的曲面薄膜膜厚测量装置，包括样品载物支架模块、测量支架模块、膜厚仪和运动模块。所述载物支架模块与测量支架模块通过轴承连接，所述膜厚仪安装在运动模块上，所述运动模块安装在与测量支架模块上、沿测量支架模块的圆形滑轨运动。本发明在测量曲面薄膜膜厚中，膜厚仪随着大支架沿着弧形齿条进行运动，从而完成经线方向的测量。测量支架模块能以可调载物台的立柱为转轴进行旋转，从而完成纬线方向测量。因此本发明能够实现经线方向和纬线方向同时测量，从而能够实现整个样品的扫描。本发明灵活性较高，能够实现不同曲率半径的任何形状的半圆型样品膜厚测量。
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公开(公告)号：CN115213056B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202210657533.1
申请日：2022-06-10
Applicant: 大连理工大学
IPC: B05C5/02
Abstract: 本发明公开了一种涂布条数与宽度可控的狭缝涂布槽模头，包括第一涂布模块、第二涂布模块、唇口活动块和分液活动块。本发明对产品进行涂布时，通过后端的进料管将光学液态胶输入进第一涂布模块和第二涂布模块中间，通过歧管以及第一通道后进入第一涂布模块的蓄液槽中，当光学液态胶通过分液活动块进行分液操作后，在压力作用下，光学液态胶从第一涂布模块与唇口活动块形成的狭缝挤出。这样在涂布时，光学液态胶按照设置好的既定涂布条数及涂幅宽度均匀涂布，这样既节约了涂布成本，减少停机时间，提升生产效率与稳定性也增加了可生产产品种类，达到更好的工艺适应性。本发明不需人工拆卸零件进行调节，大大提高调节的效率。
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