公开(公告)号：CN108754459A

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：CN201810343373.7

申请日：2018-04-17

Applicant: 大连理工大学

Inventor： 周大雨 ,  王静静 ,  董伟 ,  王雪霞 ,  马晓倩 ,  姚一凡 ,  李帅东

IPC: C23C18/12

CPC classification number: C23C18/1216 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/1295

Abstract: 本发明提供了一种采用全无机前驱体溶液制备二氧化锆基铁电薄膜的方法及应用。首先以无机锆盐、无机高对称相稳定剂作为前驱体配制澄清透明的全无机二氧化锆基前驱体溶液；然后根据氧化锆基薄膜的厚度要求，可多次将前驱体溶液涂覆在经过标准RCA清洗工艺清洗后的基片表面并经干燥、预热处理、快速退火晶化得到正交相Pca21空间群晶体结构的氧化锆基铁电薄膜。本发明的特点在于：薄膜厚度精确可控、致密性好、成膜均匀性好、表面粗糙度小、晶粒尺寸小；成本低廉，设备和操作环境要求简单，掺杂元素选择灵活多样，生产工艺简单，工艺重复性好、易于实现工业化生产。

公开(公告)号：CN108707879A

公开(公告)日：2018-10-26

申请号：CN201810342651.7

申请日：2018-04-17

Applicant: 大连理工大学

Inventor： 周大雨 ,  王静静 ,  董伟 ,  王雪霞 ,  马晓倩 ,  姚一凡 ,  李帅东

IPC: C23C18/12

CPC classification number: C23C18/1216 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/1295

Abstract: 本发明提供了一种铪掺杂二氧化锆铁电薄膜的制备方法及应用。首先以无机锆盐、无机铪盐为前驱体配制澄清透明的全无机铪掺杂二氧化锆(ZrHfO2)前驱体溶液；然后根据ZrHfO2薄膜的厚度要求，可多次将前驱体溶液涂覆在经过标准RCA清洗工艺清洗后的基片表面并经干燥、预热处理、快速退火晶化得到正交相Pca21空间群晶体结构的ZrHfO2铁电薄膜。本发明的特点在于：薄膜厚度精确可控、致密性好、成膜均匀性好、表面粗糙度小、晶粒尺寸小；成本低廉，设备和操作环境要求简单，掺杂元素含量灵活可控，生产工艺简单，工艺重复性好、易于实现工业化生产。

公开(公告)号：CN108735749A

公开(公告)日：2018-11-02

申请号：CN201810372287.9

申请日：2018-04-17

Applicant: 大连理工大学

Inventor： 周大雨 ,  王静静 ,  董伟 ,  王雪霞 ,  马晓倩 ,  姚一凡 ,  李帅东

IPC: H01L27/11502

Abstract: 本发明提供了一种钇掺杂二氧化锆铁电薄膜的制备方法及应用。首先以无机锆盐、无机钇盐为前驱体配制澄清透明的全无机钇掺杂二氧化锆(ZrYO2)前驱体溶液；然后根据ZrYO2薄膜的厚度要求，可多次将前驱体溶液涂覆在经过标准RCA清洗工艺清洗后的基片表面并经干燥、预热处理、快速退火晶化得到正交相Pca21空间群晶体结构的ZrYO2铁电薄膜。本发明的特点在于：薄膜厚度精确可控、致密性好、成膜均匀性好、表面粗糙度小、晶粒尺寸小；成本低廉，设备和操作环境要求简单，掺杂元素含量灵活可控，生产工艺简单，工艺重复性好、易于实现工业化生产。