基板输送装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1288050C

    公开(公告)日:2006-12-06

    申请号:CN200410007075.9

    申请日:2004-02-27

    Abstract: 一种基板输送装置,在气缸的突出量增加时,如果磁圆板旋转,则利用作用于磁圆板之间的磁力,使磁铁与输送轴一起旋转,以比X-Y平面倾斜规定角度的状态支持输送轴。通过旋转输送轴,而由输送轴的小型输送辊向X方向输送基板。在气缸的突出量减小时,设在输送轴一端的磁圆板向从倾斜壁远离的方向移动,不在磁电极圆板之间作用磁力。此外,从倾斜规定角度的状态,向与X-Y平面平行的状态转换输送轴。此时,输送轴的小型输送辊的外周面的顶部位于大型输送辊的外周面的顶部的下方。由此,由大型输送辊支持基板。

    喷嘴及具有该喷嘴的基板处理装置

    公开(公告)号:CN100518948C

    公开(公告)日:2009-07-29

    申请号:CN200710180739.5

    申请日:2007-10-11

    Abstract: 本发明提供一种喷嘴及具有该喷嘴的基板处理装置,喷嘴具有沿水平方向延伸的臂管部和以从臂管部的另一端向下弯曲的方式形成的下游管部。该喷嘴,在第2树脂管的内部设置有金属管。该金属管的内部设置有第1树脂管。第1树脂管和第2树脂管之间,在金属管的前端部安装有轴套。在喷嘴的前端部上,通过焊接用树脂将第1树脂管的外周面、第2树脂管的端面和轴套的端面焊接。由此,通过第1树脂管、第2树脂管、轴套和焊接用树脂可靠地覆盖金属管。

    喷嘴及具有该喷嘴的基板处理装置

    公开(公告)号:CN101161355A

    公开(公告)日:2008-04-16

    申请号:CN200710180739.5

    申请日:2007-10-11

    Abstract: 本发明提供一种喷嘴及具有该喷嘴的基板处理装置,喷嘴具有沿水平方向延伸的臂管部和以从臂管部的另一端向下弯曲的方式形成的下游管部。该喷嘴,在第2树脂管的内部设置有金属管。该金属管的内部设置有第1树脂管。第1树脂管和第2树脂管之间,在金属管的前端部安装有轴套。在喷嘴的前端部上,通过焊接用树脂将第1树脂管的外周面、第2树脂管的端面和轴套的端面焊接。由此,通过第1树脂管、第2树脂管、轴套和焊接用树脂可靠地覆盖金属管。

    基板输送装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1532126A

    公开(公告)日:2004-09-29

    申请号:CN200410007075.9

    申请日:2004-02-27

    Abstract: 一种基板输送装置,在气缸的突出量增加时,如果磁圆板旋转,则利用作用于磁圆板之间的磁力,使磁铁与输送轴一起旋转,以比X-Y平面倾斜规定角度的状态支持输送轴。通过旋转输送轴,而由输送轴的小型输送辊向X方向输送基板。在气缸的突出量减小时,设在输送轴一端的磁圆板向从倾斜壁远离的方向移动,不在磁电极圆板之间作用磁力。此外,从倾斜规定角度的状态,向与X-Y平面平行的状态转换输送轴。此时,输送轴的小型输送辊的外周面的顶部位于大型输送辊的外周面的顶部的下方。由此,由大型输送辊支持基板。

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