公开(公告)号：CN1288050C

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200410007075.9

申请日：2004-02-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 小原茂 ,  冈田尚久 ,  长田直之 ,  南茂树

IPC: B65G13/02 ,  B65G47/22

Abstract: 一种基板输送装置，在气缸的突出量增加时，如果磁圆板旋转，则利用作用于磁圆板之间的磁力，使磁铁与输送轴一起旋转，以比X-Y平面倾斜规定角度的状态支持输送轴。通过旋转输送轴，而由输送轴的小型输送辊向X方向输送基板。在气缸的突出量减小时，设在输送轴一端的磁圆板向从倾斜壁远离的方向移动，不在磁电极圆板之间作用磁力。此外，从倾斜规定角度的状态，向与X-Y平面平行的状态转换输送轴。此时，输送轴的小型输送辊的外周面的顶部位于大型输送辊的外周面的顶部的下方。由此，由大型输送辊支持基板。

公开(公告)号：CN1532888A

公开(公告)日：2004-09-29

申请号：CN200410008204.6

申请日：2004-03-01

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 长田直之 ,  冈田尚久 ,  南茂树

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/84 ,  H01L21/304 ,  H01L21/68 ,  G02F1/13

Abstract: 一种基板待机装置及具有该装置的基板处理装置，一对基板待机支架，向内侧多级进退。在活塞杆上升的状态下，以活塞杆、推进支杆支持部及推进支杆不碰到基板待机支架及输送辊的方式，配置各基板支持部。在活塞杆上升最高的状态下，各推进支杆的顶端位于基板待机支架的上方，在推进支杆下降最大的状态下，各推进支杆的顶端位于多个输送辊的下方。

公开(公告)号：CN1285099C

公开(公告)日：2006-11-15

申请号：CN200410008204.6

申请日：2004-03-01

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 长田直之 ,  冈田尚久 ,  南茂树

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/84 ,  H01L21/304 ,  H01L21/68 ,  G02F1/13

Abstract: 一种基板待机装置及具有该装置的基板处理装置，一对基板待机支架，向内侧多级进退。在活塞杆上升的状态下，以活塞杆、推进支杆支持部及推进支杆不碰到基板待机支架及输送辊的方式，配置各基板支持部。在活塞杆上升最高的状态下，各推进支杆的顶端位于基板待机支架的上方，在推进支杆下降最大的状态下，各推进支杆的顶端位于多个输送辊的下方。

公开(公告)号：CN1532126A

公开(公告)日：2004-09-29

申请号：CN200410007075.9

申请日：2004-02-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 小原茂 ,  冈田尚久 ,  长田直之 ,  南茂树

IPC: B65G13/02 ,  B65G47/22

Abstract: 一种基板输送装置，在气缸的突出量增加时，如果磁圆板旋转，则利用作用于磁圆板之间的磁力，使磁铁与输送轴一起旋转，以比X－Y平面倾斜规定角度的状态支持输送轴。通过旋转输送轴，而由输送轴的小型输送辊向X方向输送基板。在气缸的突出量减小时，设在输送轴一端的磁圆板向从倾斜壁远离的方向移动，不在磁电极圆板之间作用磁力。此外，从倾斜规定角度的状态，向与X－Y平面平行的状态转换输送轴。此时，输送轴的小型输送辊的外周面的顶部位于大型输送辊的外周面的顶部的下方。由此，由大型输送辊支持基板。